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具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜及其制备方法技术

技术编号:4027783 阅读:300 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开的具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜,该薄膜的其中一面上压印有沟槽深度为15~50nm,沟槽宽度为100~800nm,平台宽度为100~800nm尺寸的沟槽,且其为二氧化钛锐钛矿晶型膜。本发明专利技术还公开了该薄膜的制备方法。本发明专利技术提供的二氧化钛薄膜不仅具有纳米尺度图案,且其晶型经高温处理后已转变为了锐钛矿晶型,因而可大大提高二氧化钛薄膜的催化效率,增加结构的稳定性,使其应用范围和使用价值得到进一步的提高,同时还解决了现有技术采用长链烷烃图案化在自组装过程中界面不清,成本较高,后处理工艺复杂且不适宜大规模工业化生产的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有纳米尺度图案的二氧化钛薄膜,该薄膜的其中一面上压印有纳米尺寸的沟槽,且其为二氧化钛锐钛矿晶型膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:傅强陈枫杨静晖王琦
申请(专利权)人:四川大学
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]

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