一种涂胶显影机用晶圆吸盘制造技术

技术编号:40263911 阅读:22 留言:0更新日期:2024-02-02 22:53
本技术公开了一种涂胶显影机用晶圆吸盘,旨在提供一种有效减少工件掉落情况的涂胶显影机用晶圆吸盘,其技术方案要点是,包括中空形状的底座,所述底座两侧设有推动装置,所述推动装置出口设有承托装置,所述承托装置包括位于推动装置出口设有的连接块、位于连接块上设有的伸缩块及位于伸缩块底部设有的弹出装置,所述弹出装置包括位于伸缩块底部两侧设有的电磁继电器、位于伸缩块中央设有的弹簧及位于弹簧顶端设有的承托板,所述承托板两侧还设有与电磁继电器匹配的吸附板。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显影机设备领域,具体涉及一种涂胶显影机用晶圆吸盘


技术介绍

1、涂胶显影设备能够完成光刻胶涂覆、显影检测等工艺流程,为半导体制造必备机器设备。

2、涂胶显影设备指在光刻工序中和光刻机配套使用的机器。涂胶显影设备具有烘烤、涂胶和显影等作用,能够直接影响光刻工序中曝光图案的形成,主要应用于芯片及功率器件制造。涂胶显影设备主要包括显影机、涂胶机、喷胶机等。在半导体的生产过程中,涂胶显影机应用于半导体制造的光刻工艺中,是感光剂(photoresist)的涂布(coat)和显影(develop)的设备。涂胶显影机组有多个系统模块组成,其中化学品柜进液系统是涂胶显影的重要组成部分,目前的系统相关主要零部件主要由,罐体、真空发生器、电磁传感器、电磁阀、稀释剂、管路等在零部件组成。在该设备的涂胶(coat)单元中,硅片上面的感光剂首先被涂布,后被送到曝光设备里,通过光刻机将mask上面图形投影到硅片上。

3、目前,公开号为cn218123375u的中国专利公开了一种涂胶显影机用晶圆吸盘,它包括底座,所述底座顶部固定设有盘体,所述盘体内腔开设有真空腔与安装腔,所述真空腔上方位于盘体顶部固定设有橡胶吸嘴,所述安装腔内腔设有驱动机构,所述驱动机构顶部固定连接有夹板,所述盘体顶部对称开始有导向滑槽,电动伸缩杆可以控制升降板升降,升降板升降可以控制抽气组件对真空腔内腔进行吹气或吸气,抽气组件对真空腔内腔进行吸气即可利用负压对放置在盘体顶部的晶圆进行吸附固定,反之抽气组件对真空腔内腔进行吹气即可取下晶圆,晶圆拆卸更换方便,通过设置驱动机构,驱动机构可以控制夹板左右移动。

4、这种涂胶显影机用晶圆吸盘虽然可以对不同尺寸的晶圆进行二次夹持固定,固定稳定性高,晶圆不易晃动,但是往往在抓取过程中一旦出现晃动等容易出现脱落。


技术实现思路

1、本技术的一目的是提供一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其具有有效的转运过程中一旦发生脱落可以减少工件掉落的情况,从而保证整个转运过程安全的优点。

2、本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

3、一种涂胶显影机用晶圆吸盘,包括中空形状的底座,所述底座两侧设有推动装置,所述推动装置出口设有承托装置,所述承托装置包括位于推动装置出口设有的连接块、位于连接块上设有的伸缩块及位于伸缩块底部设有的弹出装置,所述弹出装置包括位于伸缩块底部两侧设有的电磁继电器、位于伸缩块中央设有的弹簧及位于弹簧顶端设有的承托板,所述承托板两侧还设有与电磁继电器匹配的吸附板。

4、通过采用上述技术方案,设有的承托装置可以很有效的配合弹出装置在吸附住工件后,在底部将弹出装置启动,从而托底工件,减少工件转运过程中出现脱落等情况。

5、进一步设置:所述推动装置包括位于底座上两侧设有的推动气缸及位于推动气缸出口与连接块连接的固定杆。

6、通过采用上述技术方案,设有的推动装置可以根据不同大小的工件对托底进行调整。

7、进一步设置:所述底座上还设有吸附装置,所述吸附装置包括位于底座上设有与底座连接的套口及位于套口上设有的抽气管。

8、通过采用上述技术方案,设有的吸附装置可以有效的保证对工件进行负压的吸附,从而保证工件与底座的连接。

9、进一步设置:所述底座上还设有若干透气孔,所述透气孔与套口连通。

10、通过采用上述技术方案,设有的若干透气孔可以有效的产生负压,从而吸附住工件。

11、进一步设置:所述承托板上还设有橡胶垫。

12、通过采用上述技术方案,设有的橡胶垫可以有效的保证工件掉落时具有一定的缓冲作用,从而保证整个工件的完整。

13、进一步设置:所述套口两侧还设有固定螺栓与底座连接。

14、通过采用上述技术方案,使得底座与套口之间可以固定连接,方便拆卸。

15、进一步设置:所述底座与套口内壁之间还设有减震弹簧。

16、通过采用上述技术方案,设有的减震弹簧可以有效的在工件吸附上去的时候产生减震的效果,避免工件与底座产生冲击。

17、综上所述,本技术具有以下有益效果:可以有效的吸附住工件,减少工件出现晃动等情况,同时设有的承托装置可以有效的避免工件出现问题发生掉落碎裂的情况,有效保证生产安全,整个设备还具有吸附转运过程中进行减震,有效的保证整个生产的稳定性。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种涂胶显影机用晶圆吸盘,包括中空形状的底座(1),其特征在于:所述底座(1)两侧设有推动装置(2),所述推动装置(2)出口设有承托装置(3),所述承托装置(3)包括位于推动装置(2)出口设有的连接块(31)、位于连接块(31)上设有的伸缩块(32)及位于伸缩块(32)底部设有的弹出装置(33),所述弹出装置(33)包括位于伸缩块(32)底部两侧设有的电磁继电器(331)、位于伸缩块(32)中央设有的弹簧(332)及位于弹簧(332)顶端设有的承托板(333),所述承托板(333)两侧还设有与电磁继电器(331)匹配的吸附板(334)。

2.根据权利要求1所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述推动装置(2)包括位于底座(1)上两侧设有的推动气缸(21)及位于推动气缸(21)出口与连接块(31)连接的固定杆(22)。

3.根据权利要求2所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述底座(1)上还设有吸附装置(4),所述吸附装置(4)包括位于底座(1)上设有与底座(1)连接的套口(41)及位于套口(41)上设有的抽气管(42)。

4.根据权利要求3所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述底座(1)上还设有若干透气孔(5),所述透气孔(5)与套口(41)连通。

5.根据权利要求4所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述承托板(333)上还设有橡胶垫(6)。

6.根据权利要求5所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述套口(41)两侧还设有固定螺栓(7)与底座(1)连接。

7.根据权利要求6所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述底座(1)与套口(41)内壁之间还设有减震弹簧(8)。

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【技术特征摘要】

1.一种涂胶显影机用晶圆吸盘,包括中空形状的底座(1),其特征在于:所述底座(1)两侧设有推动装置(2),所述推动装置(2)出口设有承托装置(3),所述承托装置(3)包括位于推动装置(2)出口设有的连接块(31)、位于连接块(31)上设有的伸缩块(32)及位于伸缩块(32)底部设有的弹出装置(33),所述弹出装置(33)包括位于伸缩块(32)底部两侧设有的电磁继电器(331)、位于伸缩块(32)中央设有的弹簧(332)及位于弹簧(332)顶端设有的承托板(333),所述承托板(333)两侧还设有与电磁继电器(331)匹配的吸附板(334)。

2.根据权利要求1所述的一种涂胶显影机用晶圆吸盘,其特征在于:所述推动装置(2)包括位于底座(1)上两侧设有的推动气缸(21)及位于推动气缸(21)出口与连接块(31)连接的固定杆(22)。

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【专利技术属性】
技术研发人员:张军区张浩张振鸿
申请(专利权)人:南方华创半导体无锡有限公司
类型:新型
国别省市:

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