【技术实现步骤摘要】
本技术涉及但不限于真空设备,尤其涉及磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备。
技术介绍
1、基于电机驱动的单轴或者多轴机械臂(驱动装置)被广泛地使用在自动化设备中。在作为多轴机械臂使用的情况下,通常以使单轴机械臂的驱动方向正交的方式进行叠加,从而形成例如两轴机械臂或者三轴机械臂。
2、此外,在真空设备当中,有时也需要对真空腔内的部件进行驱动。用于真空腔的基于电机驱动的装置通常是旋转装置,例如,电机固定在真空腔的外部,通过磁流体与真空腔内的部件联接,从而驱动真空腔内的部件工作。例如,通过这种方式,能够驱动真空腔内的基片台转动,或者驱动真空腔内旋转靶材转动等。
3、但是,有时也需要驱动真空腔内的部件呈平面状地移动。例如,在使用平面靶材的磁控溅射设备中,有时需要使磁控管容置在真空腔内,并使磁控管沿平面方向(例如:x轴以及y轴)被驱动。但是,现有的实现部件的多方向被驱动的结构通常是通过以单轴机械臂进行叠加从而形成的多轴机械臂的结构。而在真空设备当中,由于散热等问题,难以将电机置于真空腔室内并进行机械臂的叠加,从而难以使磁控管沿平面方向被驱动。
技术实现思路
1、本技术针对上述技术问题,提出了一种磁控溅射设备,能够实现使磁控元件在真空腔内沿平面方向被驱动。此外,本技术还提出了一种双轴驱动装置以及具有该双轴驱动装置的真空设备。
2、根据第1实施方式的磁控溅射设备,包括:镀膜腔,所述镀膜腔的内部的上方具有呈板状的靶材;双轴驱动装置,与所述镀膜腔隔开并设置在所述
3、根据本实施方式的磁控溅射设备,能够实现使磁控元件在真空腔内沿平面方向被驱动。
4、在一些实施方式中,所述镀膜腔的上方具有可处于真空状态的控制腔,所述控制腔与所述镀膜腔隔开;所述磁控元件被设置在所述控制腔内。
5、在一些实施方式中,所述第一驱动部包括第一电机以及第一丝杆组件,所述第一电机设置在所述控制腔的外部,所述第一丝杆组件设置在所述控制腔的内部,所述第一电机和所述第一丝杆组件经由第一真空用联接器联接;所述第二驱动部包括第二电机以及第二丝杆组件,所述第二电机设置在所述控制腔的外部,所述第二丝杆组件设置在所述控制腔的内部,所述第二电机和所述第二丝杆组件经由第二真空用联接器联接。
6、在一些实施方式中,所述第一驱动部还包括:第一引导单元以及第一安装单元,所述第一引导单元以及所述第一安装单元分别被设置在所述控制腔内,所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导,所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并与所述第一丝杆组件连接;所述第二驱动部还包括:第二引导单元以及第二安装单元,所述第二引导单元以及所述第二安装单元分别被设置在所述控制腔内,所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导,所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并与所述第二丝杆组件连接;所述第一调节单元安装到所述第一安装单元;所述第二调节单元安装到所述第二安装单元;所述磁控元件安装到所述第一调节单元,并沿所述第二方向延伸。
7、在一些实施方式中,所述镀膜腔的上方具有用于安装靶材的背板,所述背板将所述控制腔和所述镀膜腔隔开。
8、在一些实施方式中,所述控制腔内的压力可被设置为10kpa以下。
9、根据第2实施方式的双轴驱动装置,包括:第一驱动部,具有:第一执行单元、第一引导单元以及第一安装单元,所述第一执行单元沿第一方向直线地驱动,所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导,所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并沿所述第一方向被所述第一执行单元驱动;第二驱动部,具有:第二执行单元、第二引导单元以及第二安装单元,所述第二执行单元沿与所述第一方向正交地第二方向直线地驱动,所述第二引导单元沿所述第二方向进行引导,所述第二安装单元搭载在所述第二引导单元并沿所述第二方向被所述第二执行单元驱动;联接部,分别与所述第一驱动部以及所述第二驱动部连接,所述联接部具有第一调节单元以及第二调节单元,所述第一调节单元安装到所述第一安装单元并沿所述第二方向可自由调节,所述第二调节单元安装到所述第二安装单元并沿所述第一方向可自由调节;所述第二调节单元上可安装作业单元。
10、根据本实施方式的双轴驱动装置,能够实现作业单元沿平面方向被驱动。
11、在一些实施方式中,所述第一执行单元包括电机或者气缸作为执行元件;第二执行单元包括电机或者气缸作为执行元件。
12、根据第3实施方式的真空设备,具有真空腔,包括:上述任一项的双轴驱动装置,其中,所述第一执行单元以及所述第二执行单元分别位于所述真空腔的外部;所述第一引导单元以及所述第一安装单元、所述第二引导单元以及所述第二安装单元,和所述联接部分别位于所述真空腔的内部。
13、根据本实施方式的真空设备,能够实现作业单元在真空腔内沿平面方向被驱动。
14、在一些实施方式中,所述作业单元包括磁控管、靶材、基片或者托盘。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.磁控溅射设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述镀膜腔的上方具有可处于真空状态的控制腔,所述控制腔与所述镀膜腔隔开;
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述第一驱动部包括第一电机以及第一丝杆组件,所述第一电机设置在所述控制腔的外部,所述第一丝杆组件设置在所述控制腔的内部,所述第一电机和所述第一丝杆组件经由第一真空用联接器联接;
4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述第一驱动部还包括:第一引导单元以及第一安装单元,所述第一引导单元以及所述第一安装单元分别被设置在所述控制腔内,所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导,所述第一安装单元搭载在所述第一引导单元并与所述第一丝杆组件连接;
5.根据权利要求3或4所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述镀膜腔的上方具有用于安装靶材的背板,所述背板将所述控制腔和所述镀膜腔隔开。
6.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述控制腔内的压力可被设置为10kPa以下。
7.双轴驱动装置,其特征在于,包
8.根据权利要求7所述的双轴驱动装置,其特征在于,所述第一执行单元包括电机或者气缸作为执行元件;
9.真空设备,具有真空腔,其特征在于,包括:
10.根据权利要求9所述的真空设备,其特征在于,所述作业单元包括磁控管、靶材、基片或者托盘。
...【技术特征摘要】
1.磁控溅射设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述镀膜腔的上方具有可处于真空状态的控制腔,所述控制腔与所述镀膜腔隔开;
3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述第一驱动部包括第一电机以及第一丝杆组件,所述第一电机设置在所述控制腔的外部,所述第一丝杆组件设置在所述控制腔的内部,所述第一电机和所述第一丝杆组件经由第一真空用联接器联接;
4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述第一驱动部还包括:第一引导单元以及第一安装单元,所述第一引导单元以及所述第一安装单元分别被设置在所述控制腔内,所述第一引导单元沿所述第一方向进行引导,所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:黎佐兴,杨洪生,张晓军,夏慧,
申请(专利权)人:深圳市矩阵多元科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。