【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种不含抑制剂的清洗剂及利用它的有机电致发光显示装置用导电部件清洗方法。
技术介绍
1、对输出图像信息的显示装置的需求正在以各种方式增加，因此已经在研究、开发和使用各种平板显示装置，如lcd(liquid crystal display，以下简称液晶显示装置)或pdp(plasma display panel)、oled(organic luminescent emission diode，以下简称有机电致发光显示装置)、vfd(vacuum fluorescent display)等。
2、在这些平板显示装置中，有机电致发光显示装置利用了有机发光层，有机发光层是通过电子和空穴的复合(recombination)使荧光体发光的自发光元件，由于对比度(contrast ratio)和响应速度(response time)等显示特性优良以及容易实现柔性显示器(flexible display)，作为最理想的下一代显示器受到关注。
3、有机电致发光显示装置(organic light emitting diode display device)是多个像素区以矩阵形式排列而成，每个像素区中形成有微图案，如用于驱动各像素的驱动元件等。
4、此外，有机电致发光显示装置是自发光元件，不需要作为非发光元件的液晶显示装置中使用的独立光源，因此可以实现轻薄化。进一步地，与液晶显示装置相比，视角和对比度优良、功耗方面也有利、可实现直流低电压驱动、响应速度快，由于内部组件是固体，抗外部冲击力强，使用温度范围
5、通常，这些有机电致发光显示装置的形成工艺中包含基板上各种物质的沉积和图案化工艺，这些沉积和图案化工艺中使用导电部件如金属掩膜。所述沉积和图案化工艺中使用的金属掩膜会被有机物质等污染，可能导致有机电致发光显示装置的不良，因此进一步需要所述金属掩膜的清洗工艺。
6、此外，随着有机电致发光显示装置掩膜工艺的改进，分开使用了有机掩膜和无机掩膜，但是正在研发用相同的掩膜沉积有机层和无机层的方式。然而，即便用相同的掩膜沉积有机层和无机层，掩膜的清洗工艺也存在使用传统的掩膜清洗液时需要分开进行有机清洗和无机清洗的问题。
技术实现思路
1、技术问题
2、一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗液，在清洗有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件的有机沉积物和无机沉积物时，可以利用一种清洗剂通过单一工艺进行处理。
3、此外，一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗液，通过单一工艺处理来清洗附着在导电部件上的有机物质和无机物质，从而可以提高生产率以及降低成本。
4、此外，一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗液，可以更有效地进行清洗。
5、此外，一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗液，通过改善清洗液(清洗剂)的持续使用所导致的清洗性能下降现象，可以显著降低未清洗沉积物所导致的产品不良率以及节减运行成本(running cost)。
6、此外，一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗液，通过缩短传统清洗液用于清除导电部件沉积物所需的清洗时间，在相同的时间内清洗更多的产品，从而可以增加产品生产率。
7、此外，一个实施方案旨在提供一种有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件清洗剂，通过改善在清洗导电部件的沉积物后进行水洗(water rinse)和干燥以清除残留于导电部件的清洗液的过程中导电部件上残留清洗液的现象，可以显著降低沉积设备中残留在导电部件内的清洗液脱气(outgasing)所导致的产品不良率。
8、另一个实施方案旨在提供一种清洗方法，利用所述清洗剂来清除附着在有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件上的有机物质和无机物质。
9、技术方案
10、一个实施方案提供一种无抑制剂(inhibitor-free)清洗剂，其包含碱盐、水溶性有机酸盐、有机添加剂、乳化剂和芳香醇，所述水溶性有机酸盐和芳香醇的含量浓度范围分别为1g/l至25g/l和10g/l至200g/l。
11、所述碱盐的含量浓度范围可为10g/l至200g/l。
12、所述有机添加剂的含量浓度范围可为50g/l至500g/l。
13、所述乳化剂的含量浓度范围可为50g/l至300g/l。
14、所述芳香醇可以由下述化学式1表示。
15、[化学式1]
16、
17、在上述化学式1中，
18、r1为氢原子、取代或未取代的c1至c20烷基或取代或未取代的c1至c20烷氧基，
19、n为0至5的整数，
20、l1为取代或未取代的c1至c20亚烷基或由下述化学式l表示，
21、[化学式l]
22、
23、在上述化学式l中，
24、l2为取代或未取代的c1至c10亚烷基，
25、m为1至10的整数。
26、所述芳香醇只能具有一个羟基。
27、所述芳香醇可以包含苄醇(benzyl alcohol)、4-甲氧基苄醇(4-methoxybenzylalcohol)、4-甲基苄醇(4-methylbenzyl alcohol)、2,6-二甲基苄醇(2,6-dimethylbenzylalcohol)、4-乙氧基苄醇(4-ethoxybenzyl alcohol)、4-异丙基苄醇(4-isopropylbenzylalcohol)、4-丁氧基苄醇(4-butoxybenzyl alcohol)、2-苯氧基乙醇(2-phenoxyethanol)、2-甲基-1-苯基-2-丙醇(2-methyl-1-phenyl-2-propanol)、1-苯基-1-丙醇(1-phenyl-1-propanol)或它们的组合。
28、所述碱盐可以包含氢氧化盐、碳酸盐、硅酸盐、磷酸盐、铵盐或它们的组合。
29、所述水溶性有机酸盐可以包含柠檬酸盐、琥珀酸盐、乙酸盐、草酸盐、乙醇酸盐、葡糖酸盐、酒石酸盐或它们的组合。
30、所述有机添加剂可以包含n-甲基吡咯烷酮(n-methyl-2-pyrrolidone，nmp)、n-乙基吡咯烷酮(n-ethyl-2-pyrrolidone，nep)、二甲基亚砜(dimethyl sulfoxide，dmso)、四氢糠醇(tetrahydrofurfuryl alcohol，thfa)、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(1,3-dimethyl-2-imidazolidinone)、酰胺(amide)化合物、c1至c20烷醇(alkanol)、c1至c20烷醇胺(alkanolamine)、乙二醇醚(gly本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种无抑制剂清洗剂，其中
2.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
3.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
4.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
5.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
6.根据权利要求5所述的无抑制剂清洗剂，其中，
7.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
8.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
9.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
10.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
11.根据权利要求10所述的无抑制剂清洗剂，其中，
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13.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
14.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
15.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
16.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
17.根据权利要求16所述的无抑制
18.一种清洗方法，用于清除附着在有机电致发光显示装置制造工艺中使用的导电部件上的有机物质和无机物质，所述方法包含：
...【技术特征摘要】
1.一种无抑制剂清洗剂，其中
2.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
3.根据权利要求1所述的无抑制剂清洗剂，其中，
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【专利技术属性】
技术研发人员：柳正勋，林永珉，许连，辛性勋，
申请(专利权)人：丰元化学有限公司，
类型：发明
国别省市：
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