System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种N型双面晶硅电池异常分析方法技术_技高网

一种N型双面晶硅电池异常分析方法技术

技术编号:40172838 阅读:7 留言:0更新日期:2024-01-26 23:42
本发明专利技术公开了一种N型双面晶硅电池异常分析方法,涉及晶体硅太阳能电池技术领域,所述方法依次为:一次装片、配混酸清液、混酸清洗、一次水洗、一次吹扫水渍、硅片方块电阻率测试分析、二次装片、配氢氧化钠溶液、碱溶液清洗、二次水洗、二次吹扫水渍以及硅片电阻率测试分析。本发明专利技术通过使用特定溶液对电池片结构进行抛片,恢复制程中端结构进行检测分析的方法,可直观、快速的反向分析制程中掺杂工序及原材料端是否存在异常,减少异常片产出,提升电池片效率、良品率及合格率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶体硅太阳能电池,尤其涉及一种n型双面晶硅电池异常分析方法。


技术介绍

1、现如今世界各国大力发展清洁能源,光伏发电作为可再生能源收到各国青睐,在现有光伏技术中心,隧穿氧化物钝化接触(topcon)技术已成为当前产业化高效太阳电池的重点研究方向之一,随着其技术路线的成熟,目前已被广泛应用于高效太阳电池量产。如图1所示为n型双面晶硅电池结构示意图,根据结构可以看出n型双面电池制程较传统太阳能电池片工序更多,制程更为复杂,所以出现质量异常的风险更大,待在成品端发现异常,无法第一时间直观、快速分析导致异常的原因。因此,亟需一种能够快速有效判断制程中端质量情况的异常分析方法,从而可以实时制定改善措施,进而有效提高产线效率、良品率及合格率。


技术实现思路

1、本专利技术目的在于提供一种n型双面晶硅电池异常分析方法,通过特定手段反向分析方案,通过此异常分析方法可快速有效判断制程中端质量情况,进一步制定改善措施,有效提高了产线效率、良品率及合格率。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:

2、本专利技术提供了一种n型双面晶硅电池异常分析方法,所述方法包括如下步骤:

3、步骤s1、装片:

4、手动将待测硅片插入专用抛片小花篮,使用压杆固定好;

5、步骤s2、配液:

6、在大花篮内使用氢氟酸和盐酸配制成混酸清洗液;

7、步骤s3、混酸清洗:

8、将小花篮放置在大花篮内清洗,在混酸溶液中浸泡,去除蓝膜及电极;

9、步骤s4、水洗:

10、使用纯水槽进行清洗;

11、步骤s5、吹扫:

12、手动使用气枪吹干硅片表面水渍;

13、步骤s6、测试分析:

14、对吹扫后的硅片通过方块电阻测试仪测试分析正面方阻是否异常;

15、步骤s7、装片:

16、手动将混酸清洗后异常片与对比片分别插入专用抛片小花篮,使用压杆固定好;

17、步骤s8、配液:

18、配制氢氧化钠溶液并加热;

19、步骤s9、碱溶液清洗:

20、将小花篮和大花篮内放置清洗,在上述氢氧化钠溶液中浸泡,去除硅片表面掺杂层;

21、步骤s10、水洗:

22、使用纯水槽进行清洗;

23、步骤s11:吹扫:

24、手动使用气枪吹干硅片表面水渍;

25、步骤s12、测试分析:

26、对吹扫后的硅片测试重量及方阻,通过换算得出硅片电阻率,判断硅片原材料端是否存在异常。

27、进一步地,步骤s2中,所述混酸清洗液由质量浓度为8%-10%的氢氟酸和质量浓度为6%-8%的盐酸按体积比为1:1配制成。

28、进一步地,所述步骤s3中,浸泡时间为1000s-1200s。

29、进一步地,所述步骤s4和s10中,清洗时间为60s-80s。

30、进一步地,所述步骤s5和s11中,吹扫标准为肉眼观察表面无水渍残留。

31、进一步地,所述步骤s6具体包括:

32、将吹扫后的硅片通过方块电阻测试仪测试分析正面方阻是否异常,具体与产线过程控制的spc范围进行对比,超出范围即为异常。

33、进一步地,所述步骤s8中,氢氧化钠质量浓度为12%-15%,加热温度为80℃-83℃。

34、进一步地,所述步骤s9中,浸泡时间为300s-400s。

35、进一步地,所述步骤s12具体包括:

36、对吹扫后的硅片测试重量及方阻,通过换算得出硅片电阻率,判断硅片原材料端是否存在异常,具体与产线过程控制的spc范围进行对比,超出范围即为异常。

37、本专利技术的技术效果和优点:

38、目前n型双面电池在成品端发现异常后,没有直观检测手法可以判断异常原因,为提升电池片制造合格率,本专利技术提出一种n型双面晶硅电池片异常分析方法,通过使用特定溶液对电池片结构进行抛片,恢复制程中端结构进行检测分析的方法,可直观、快速的反向分析制程中掺杂工序及原材料端是否存在异常,减少异常片产出,提升电池片效率、良品率及合格率。

39、本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所指出的结构来实现和获得。

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【技术保护点】

1.一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,步骤S2中,所述混酸清洗液由质量浓度为8%-10%的氢氟酸和质量浓度为6%-8%的盐酸按体积比为1:1配制成。

3.根据权利要求1或2所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S3中,浸泡时间为1000S-1200S。

4.根据权利要求2所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S4和S10中,清洗时间为60S-80S。

5.根据权利要求1所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S5和S11中,吹扫标准为肉眼观察表面无水渍残留。

6.根据权利要求1所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S6具体包括:

7.根据权利要求1、5或6所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S8中,氢氧化钠质量浓度为12%-15%,加热温度为80℃-83℃。

8.根据权利要求1所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S9中,浸泡时间为300S-400S。

9.根据权利要求1所述的一种N型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤S12具体包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种n型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种n型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,步骤s2中,所述混酸清洗液由质量浓度为8%-10%的氢氟酸和质量浓度为6%-8%的盐酸按体积比为1:1配制成。

3.根据权利要求1或2所述的一种n型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤s3中,浸泡时间为1000s-1200s。

4.根据权利要求2所述的一种n型双面晶硅电池异常分析方法,其特征在于,所述步骤s4和s10中,清洗时间为60s-80s。

5.根据权利要求1所述的一种n型双面晶硅电池...

【专利技术属性】
技术研发人员:葛展代同光
申请(专利权)人:青海黄河上游水电开发有限责任公司西宁太阳能电力分公司
类型:发明
国别省市:

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