用于磁盘溅射系统的磁性粒子捕集器技术方案

一种用于溅射系统的磁性粒子捕集器包括具有多个开口的滚筒覆盖板和捕集磁性粒子的多个磁体，所述多个开口被布置并且其尺寸被设计成容纳与所述溅射系统的机械传送机构关联的多个滚筒，所述多个磁体在与所述多个开口接近的位置附连到所述滚筒覆盖板上。

【技术实现步骤摘要】
用于磁盘溅射系统的磁性粒子捕集器
技术介绍
可以在磁盘驱动介质的制造中使用多种设备来形成不同的磁性层和非磁性层。在 典型的工艺中，玻璃衬底或铝衬底顺序地行进穿过许多工作台，在这些工作台处在不同的 条件下淀积不同的材料。例如，可以使用一个或多于一个溅射系统来将磁性和/或非磁性 材料溅射到介质上。在常规溅射工艺中，必须以有限的距离隔离用于介质的有源溅射工作台。如果没 有这种隔离，则在这些工作台之间可能发生电磁干扰，并且导致不均勻的溅射或甚至设备 失效。因此，溅射工作台在物理上是隔离的，或者如果位置上接近，则可能不同时使用这些 溅射工作台。实际上，在某些溅射系统中，可以在相邻的溅射工作台之间共享溅射部件，并 且当有源溅射工作台改变时，可以在它们之间往复移动溅射部件。Anelva公司(府中，日本)生产可以用来制造磁记录介质(例如硬盘)的设备。 Anelva供应标示为C-3040的单元。该单元包括主室、进出负载闭锁、衬底装载和卸载台以 及多个处理工作台。磁盘被送入系统中，被传送并且在处理工作台中被处理，并且接着被从 系统中送出，作为准备用作计算机应用中的硬盘的磁盘。描述这种系统的专利是美国专利 6，740，209,6, 027，618,6, 228，439B1 和 6，251，232B1。美国专利6，740，209描述了可被用于制造磁记录介质的设备。图1是该设备的示 意性侧剖面图。图1包括淀积室1、将至少一个衬底9定位在淀积室1中所需的位置处的衬 底支架90以及用于溅射放电的多个阴极单元3。淀积室1是包括用于衬底9的传递出入的开口(未示出)的气密真空室。开口通 过闸门阀(未示出)关闭和打开。淀积室1包括气体引导管路12以将用于溅射放电的氩 气引导进入内部。衬底支架90将衬底9固定在竖直位置。衬底支架90能够将多个衬底9固定在相 同的竖直平面和相同的高度上。图2(正视图)和图3 (侧视图)示出了图1中所示设备中的衬底支架90的示意 图。如图2所示，衬底支架90包括在底部的多个小的“支架磁体”96。每一个支架磁体96 在顶部和底部具有磁极。支架磁体96的磁极在阵列方向上交替相反。在衬底支架90下方提供磁耦合滚筒81，其中间插入分隔壁83。磁耦合滚筒81是 柱体，在其上提供两个螺旋状的细长磁体82，如图2所示。这些磁体82在下文中被称为“滚 筒磁体”。每一个滚筒磁体82的表面极性互相相反。磁耦合滚筒81具有所谓的双螺旋状 结构。磁耦合滚筒81被提供在滚筒磁体82穿过间隔壁83面对支架磁体96的位置处。间 隔壁83由不干扰磁场的材料例如非磁性材料形成。支架磁体96和滚筒磁体82互相磁耦 合。沿着衬底9的传递线路提供磁耦合滚筒81。沿着传递线路提供围绕水平轴线旋转的多个主滑轮84。如图3所示，衬底支架90 横跨在主滑轮84上。一对子滑轮85、85与衬底支架90的下边缘(margin)接触。子滑轮 85,85夹住衬底支架90的下边缘以防止衬底支架90掉落。沿着传递线路还提供多个子滑 轮85、85。3如图3所示，驱动杆86通过斜齿轮与磁耦合滚筒81连接。马达87与驱动杆86 连接，以便通过从马达87经由驱动杆86传递的驱动力使得磁耦合滚筒81可以围绕其中心 轴线旋转。当使磁耦合滚筒81旋转时，也使图2中所示的双螺旋状滚筒磁体82旋转。当 使滚筒磁体82旋转时，极性交替相反的多个对齐的小磁体沿着对齐方向同时运动。因此， 当使滚筒磁体82旋转时，与滚筒磁体82磁耦合的支架磁体96也直线地运动，导致衬底支 架90也直线地运动。在该直线运动期间，图3所示的主滑轮84和子滑轮85、85随着该运 动被驱动而旋转。不幸的是，处理工作台的物理上或时间上的分开导致不得不使用包括磁盘承载装 置的上述机械传送系统来传送磁盘。这种机械传送系统容易机械磨损并且因此产生污染副 产物。驱动机构中的摩擦系数可能大并且由于真空要求而不能使用润滑剂。例如，图3所 示的主滑轮84和子滑轮85容易机械磨损并且产生污染副产物。污染副产物可以是磁性金属碎片或黑色金属碎片(磁性粒子)的形式。这些磁性 粒子导致目标材料的污染并且在所淀积的膜中引起空洞，这可能降低磁性介质制造中的成 品率和产量。本专利技术的目标是提供捕获磁性粒子的磁性粒子捕集器装置，以降低由于这种 磁性粒子而导致的目标污染和淀积膜中的空洞。因此，需要具有至少一个磁性粒子捕集器 装置的改进的机械传送系统。附图说明图1是示出包括衬底支架和机械驱动系统的现有技术的溅射系统的示意性剖面 图。图2是示出现有技术的衬底支架和机械驱动系统的示意性前视图。图3是示出现有技术的衬底支架和机械驱动系统的示意性侧视图。图4是根据一个实施例示出示例性磁盘传送系统的示意图。图5是根据一个实施例的图4的磁盘传送系统的分解图。图6是根据一个实施例示出示例性磁盘传送系统的导向滚筒和子滚筒布置的示 意图。图7是根据一个实施例示出多块磁性粒子捕集器的示意图。图8是根据一个实施例示出可替换的两块磁性粒子捕集器的示意图。图9是根据一个实施例示出可替换的单块磁性粒子捕集器的示意图。具体实施例方式本专利技术的实施例涉及磁性粒子捕集器。磁性粒子捕集器的功能是捕集由溅射系统 中使用的磁盘传送系统产生的污染副产物，所述污染副产物可能是磁性金属碎片或黑色金 属碎片(磁性粒子)的形式。参考图4、5和6，根据一个实施例示出了示例性磁盘传送系统100。磁盘传送系统 100的目的是沿着水平传递线路在直线方向上传送固定在衬底支架190中的磁盘109。可 以在溅射系统中使用多个磁盘传送系统100来传送磁盘109。磁盘传送系统100包括一对衬底支架190、衬底支架支撑面板180、耦合到衬底支 架支撑面板180的底侧的多个支架磁体196、耦合到滚筒支撑面板186的多个主导向滚筒184和多个子滚筒185、磁驱动单元190和磁性粒子捕集器150。磁性粒子捕集器150不需要被限制在使用磁驱动单元的磁盘传送系统中使用。磁 性粒子捕集器150及其变型也可以用在使用移动机械零件、滑轮、子滑轮、导向滚筒、子滚 筒、齿轮、齿条_小齿轮、轨道、导轨等的任何磁盘传送系统中，所述磁盘传送系统受到机械 磨损并且产生污染副产物，所述污染副产物可以是磁性金属碎片或黑色金属碎片(磁性粒 子)的形式。参考图7，在所示的实施例中，磁性粒子捕集器150可以包括滚筒覆盖板152、多个 滚筒罩154和多个永久磁体155。在这个实施例中，永久磁体155被附着到滚筒覆盖板152 并且滚筒罩154被安装到滚筒覆盖板152以覆盖永久磁体155。滚筒覆盖板152被可移除地安装到具有多个主导向滚筒184的磁盘传送系统100。 滚筒覆盖板152可以被成形为像反转的大写字母“L”。滚筒覆盖板152的长度(L)大于高 度(H)，并且高度(H)大于宽度(W)。滚筒覆盖板152可以具有7个半圆形或半椭圆形开口 以容纳与溅射系统的磁盘传送系统100关联的7个主导向滚筒184。磁性粒子捕集器150使用多个永久磁体155来捕集磁性金属碎片或黑色金属碎片 (磁性粒子)。磁性粒子捕集器150的永久磁体155在策略上位于与耦合到滚筒支撑面板 186的多个主导向滚筒184和多个子滚筒185接近的位置。多个主导向滚筒184和多个子 滚筒185被认本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于溅射系统的磁性粒子捕集器，其包括：　　具有多个开口的滚筒覆盖板，所述多个开口被布置并且其尺寸被设计成容纳与所述溅射系统的机械传送机构关联的多个滚筒；以及　　捕集磁性粒子的多个磁体，所述多个磁体在与所述多个开口接近的位置附连到所述滚筒覆盖板上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：陈金良，K尼帕，
申请(专利权)人：西部数据传媒公司，
类型：发明
国别省市：US