【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及石英器件制备领域，具体涉及一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法及装置。另外，还涉及一种电子设备及处理器可读存储介质。
技术介绍
1、石英湿法腐蚀是将石英放入化学腐蚀液中进行腐蚀，在腐蚀的过程中，化学腐蚀液与石英的接触表面发生化学反应从而实现去除掉石英表面的部分或全部材料，最后形成特定结构，其具有腐蚀速率快、各向异性差、选择比高、成本低等特点，因此经常用于微机械结构制造的加工方法。掩膜层的制备对最终形成的石英结构件的结构至关重要，由于石英湿法腐蚀的各向异性，需要在为加工石英结构件制备腐蚀掩膜时，对掩膜层进行平行方向上的补偿，从而确保腐蚀后的结构件达到设计值。然而，由于目前大部分切型的石英结构件，按照现有平行方向上的补偿方法，对掩膜层进行平行方向上的补偿，会导致腐蚀后的石英结构件在固定的角度上形成缺角，此缺角会影响石英结构件的对称性，从而影响石英结构件的性能。
技术实现思路
1、为此，本专利技术提供一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法及装置，以解决现有技术中存在的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方案局限性较高，导致掩膜层制备处理精度和效率较差的缺陷。
2、第一方面，本专利技术提供一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，包括：
3、获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数；其中，所述原始掩膜层与所述石英结构件相对应；
4、基于所述腐蚀角特征参数，确定所述原始掩膜层对应的补偿区
5、基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层。
6、进一步的，在获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数之前，还包括：预先构建所述石英结构件的腐蚀角特征参数与所述原始掩膜层对应的补偿区域之间的对应关系；其中，所述腐蚀角特征参数包括腐蚀角位置和腐蚀角大小，所述补偿区域包括补偿区域位置和补偿区域面积；
7、所述基于所述腐蚀角特征参数，确定所述原始掩膜层对应的补偿区域，具体包括：将所述腐蚀角位置和腐蚀角大小分别与预先构建的所述对应关系进行匹配，以得到所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置和补偿区域目标面积，基于所述补偿区域目标位置和补偿区域目标面积，确定所述原始掩膜层对应的补偿区域。
8、进一步的，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层，具体包括：在制备过程中，基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层。
9、进一步的，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，具体包括：
10、根据所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行直线补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，以使的所述目标掩膜层有效覆盖石英结构件。
11、进一步的，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，具体还包括：
12、根据所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行曲线补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，以使的所述目标掩膜层有效覆盖石英结构件。
13、进一步的，所述获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数，具体包括：
14、在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中，确定所述石英结构件对应的空间坐标系；基于所述空间坐标系中所述石英结构件对应的腐蚀角的位置坐标，确定所述石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角位置和腐蚀角大小。
15、进一步的，所述基于所述空间坐标系中所述石英结构件对应的腐蚀角的位置坐标，确定所述石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角位置和腐蚀角大小，具体包括：
16、获取所述空间坐标系中所述石英结构件对应的腐蚀角的横坐标数据和纵坐标数据；基于所述横坐标数据和纵坐标数据，定位所述石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角位置，并对所述横坐标数据和纵坐标数据进行运算，得到所述石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角大小。
17、第二方面，本专利技术还提供一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理装置，包括：
18、腐蚀角数据获取单元，用于获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数；其中，所述原始掩膜层与所述石英结构件相对应；
19、补偿区域确定单元，用于基于所述腐蚀角特征参数，确定所述原始掩膜层对应的补偿区域；
20、补偿处理单元，用于基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层。
21、进一步的，在获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数之前，还包括：关联关系构建单元，用于预先构建所述石英结构件的腐蚀角特征参数与所述原始掩膜层对应的补偿区域之间的对应关系；其中，所述腐蚀角特征参数包括腐蚀角位置和腐蚀角大小，所述补偿区域包括补偿区域位置和补偿区域面积；
22、所述补偿区域确定单元，具体用于：将所述腐蚀角位置和腐蚀角大小分别与预先构建的所述对应关系进行匹配，以得到所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置和补偿区域目标面积，基于所述补偿区域目标位置和补偿区域目标面积，确定所述原始掩膜层对应的补偿区域。
23、进一步的，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层，具体包括：在制备过程中，基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层。
24、进一步的，所述补偿处理单元，具体用于：
25、根据所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行直线补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，以使的所述目标掩膜层有效覆盖石英结构件。
26、进一步的，所述补偿处理单元，具体还用于：
27、根据所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行曲线补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，以使的所述目标掩膜层有效覆盖石英结构件。
28、进一步的，所述腐蚀角数据获取单元，具体用于：
29、在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中，确定所述石英结构件对应的空间坐标系；基于所述空间坐标系中所述石英结构件对应的腐蚀角的位置坐标，确定所述石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角位置和腐蚀角大小。
30、进一步的，所述基于所述空间坐标系中所述石英结构件对应的腐蚀角的位置坐标，确定所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，在获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数之前，还包括：预先构建所述石英结构件的腐蚀角特征参数与所述原始掩膜层对应的补偿区域之间的对应关系；其中，所述腐蚀角特征参数包括腐蚀角位置和腐蚀角大小，所述补偿区域包括补偿区域位置和补偿区域面积；
3.根据权利要求1所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层，具体包括：在制备过程中，基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层。
4.根据权利要求3所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，具体包括：
<...【技术特征摘要】
1.一种石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，在获取在基于原始掩膜层对石英结构件进行湿法腐蚀过程中形成的腐蚀角特征参数之前，还包括：预先构建所述石英结构件的腐蚀角特征参数与所述原始掩膜层对应的补偿区域之间的对应关系；其中，所述腐蚀角特征参数包括腐蚀角位置和腐蚀角大小，所述补偿区域包括补偿区域位置和补偿区域面积；
3.根据权利要求1所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域，在制备过程中对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得目标掩膜层，具体包括：在制备过程中，基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层。
4.根据权利要求3所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特征在于，所述基于所述原始掩膜层对应的补偿区域目标位置及补偿区域目标面积，对所述原始掩膜层进行补偿处理，获得补偿之后的目标掩膜层，具体包括：
5.根据权利要求3所述的石英结构件湿法腐蚀过程中的掩膜制备处理方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：郄立伟，史玮婷，梁红雁，姜文慧，胡双媛，任抒琪，赵黎明，
申请(专利权)人：北京晨晶电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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