【技术实现步骤摘要】
本申请涉及雾化，特别是涉及一种气溶胶生成设备及其加热控制方法、气溶胶生成基质的温度检测方法以及计算机可读存储介质。
技术介绍
1、在雾化技术中，气溶胶生成基质需要被加热到一定温度才能生成足够的气溶胶，但是气溶胶生成基质的温度过高可能会导致产生有害物质。因此，在对气溶胶生成基质进行加热的过程中，需要精准监测气溶胶生成基质的温度，才可更好地实现控温。但气溶胶生成设备所使用的温度监测手段存在着响应速度慢且准确度不高的问题。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种气溶胶生成设备及其加热控制方法、气溶胶生成基质的温度检测方法以及计算机可读存储介质。
2、第一方面，本专利技术实施例提供一种气溶胶生成设备，包括：光发射模块，用于向气溶胶生成基质发射光以加热气溶胶生成基质；光电检测模块，用于依据接收的衰减光输出检测信号；其中，衰减光为经气溶胶生成基质衰减作用后的光，检测信号用于确定气溶胶生成基质的温度。
3、在其中一个实施例中，检测信号用于根据第一对应关系确定气溶胶生成基质的温度；其中，第一对应关系用于反映检测信号与气溶胶生成基质的温度之间的对应关系。
4、在其中一个实施例中，在气溶胶生成基质的温度达到预设温度后，光发射模块发射光的发射总功率降低，以将气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于预设温度。
5、在其中一个实施例中，光发射模块用于在气溶胶生成基质的温度达到预设温度前，发射预设峰值功率的连续光，以及用于在气溶胶生成基质的温度达
6、在其中一个实施例中，脉冲光参数包括脉冲光的脉冲宽度，和/或脉冲光之间的脉冲间隔。
7、在其中一个实施例中，检测信号用于根据第二对应关系确定气溶胶生成基质的温度；其中，第二对应关系用于反映光衰减率和气溶胶生成基质的温度之间的对应关系，光衰减率根据光发射模块的实时功率以及检测信号确定。
8、在其中一个实施例中，还包括光学滤波模块和/或基质固定模块；光学滤波模块设置于衰减光的光路上，以在光电检测模块接收到衰减光前对衰减光进行滤波；基质固定模块用于防止气溶胶生成基质在加热过程中发生形变。
9、第二方面，本专利技术实施例提供一种气溶胶生成基质的温度检测方法，包括：
10、向气溶胶生成基质发射光以加热气溶胶生成基质；
11、获取检测信号，检测信号根据衰减光生成，衰减光为经气溶胶生成基质衰减作用后的光；
12、根据检测信号确定气溶胶生成基质的温度。
13、在其中一个实施例中，根据检测信号确定气溶胶生成基质的温度包括：根据检测信号和第一对应关系，确定气溶胶生成基质的温度；第一对应关系用于反映检测信号与气溶胶生成基质的温度之间的对应关系。
14、在其中一个实施例中，气溶胶生成基质在光发射模块发射的光的照射下加热，根据检测信号确定气溶胶生成基质的温度包括：根据检测信号和光发射模块的功率，确定光衰减率；根据光衰减率和第二对应关系，确定气溶胶生成基质的温度；第二对应关系用于反映光衰减率与气溶胶生成基质的温度之间的对应关系。
15、第三方面，本专利技术实施例提供一种气溶胶生成设备的加热控制方法，气溶胶生成设备包括光发射模块和光电检测模块，光发射模块用于向气溶胶生成基质发射光以加热气溶胶生成基质，光电检测模块用于依据接收的衰减光输出检测信号；其中，衰减光为经气溶胶生成基质衰减作用后的光，加热控制方法包括：控制光发射模块发射光并获取检测信号；根据检测信号确定气溶胶生成基质的温度；在气溶胶生成基质的温度达到预设温度的情况下，调整光发射模块的功率，以将气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于预设温度。
16、在其中一个实施例中，控制光发射模块发射光包括：控制光发射模块发射预设峰值功率的连续光；
17、调整光发射模块的功率包括：控制光发射模块发射预设峰值功率的脉冲光，通过调整脉冲光参数调整光发射模块的功率。
18、在其中一个实施例中，脉冲光参数包括脉冲光的脉冲宽度，和/或脉冲光之间的脉冲间隔。
19、第四方面，本专利技术实施例提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现上述的温度检测方法的步骤或上述加热控制方法的步骤。
20、基于上述任一实施例，为保证加热响应速度使用光发射模块发射照射光来加热气溶胶生成基质，而根据气溶胶生成基质的温度将影响气溶胶基质对照射光的衰减作用强度的现象，使用光电检测模块获取衰减光并输出检测信号，根据该检测信号即可确定气溶胶生成基质的温度。由于光电检测模块是根据光电效应将衰减光转换为检测信号的，光电效应的反映速度极快，因此，根据检测信号确定的气溶胶生成基质的温度实时性较好。该气溶胶生成设备可以实现对气溶胶生成基质温度的实时检测，既具有很快的响应速度，又有很高的准确度。
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1.一种气溶胶生成设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述检测信号用于根据第一对应关系确定所述气溶胶生成基质的温度；其中，所述第一对应关系用于反映所述检测信号与所述气溶胶生成基质的温度之间的对应关系。
3.根据权利要求2所述的气溶胶生成设备，其特征在于，在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度后，所述光发射模块发射光的发射总功率降低，以将所述气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于所述预设温度。
4.根据权利要求3所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述光发射模块用于在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度前，发射预设峰值功率的连续光，以及用于在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度后，根据脉冲光参数发射所述预设峰值功率的脉冲光，以将所述气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于所述预设温度。
5.根据权利要求4所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述脉冲光参数包括所述脉冲光的脉冲宽度，和/或所述脉冲光之间的脉冲间隔。
6.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述检测信号用于根据第二对应
7.根据权利要求1-6任一项所述的气溶胶生成设备，其特征在于，还包括光学滤波模块和/或基质固定模块；
8.一种气溶胶生成基质的温度检测方法，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的温度检测方法，其特征在于，所述根据所述检测信号确定所述气溶胶生成基质的温度包括：
10.根据权利要求8所述的温度检测方法，其特征在于，所述气溶胶生成基质在光发射模块发射的光的照射下加热，所述根据所述检测信号确定所述气溶胶生成基质的温度包括：
11.一种气溶胶生成设备的加热控制方法，其特征在于，所述气溶胶生成设备包括光发射模块和光电检测模块，所述光发射模块用于向气溶胶生成基质发射光以加热所述气溶胶生成基质，所述光电检测模块用于依据接收的衰减光输出检测信号；其中，所述衰减光为经所述气溶胶生成基质衰减作用后的光，所述加热控制方法包括：
12.根据权利要求11所述的加热控制方法，其特征在于，所述控制所述光发射模块发射光包括：
13.根据权利要求12所述的加热控制方法，其特征在于，所述脉冲光参数包括所述脉冲光的脉冲宽度，和/或所述脉冲光之间的脉冲间隔。
14.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求8至10中任一项所述的温度检测方法的步骤或权利要求11至13中任一项所述加热控制方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种气溶胶生成设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述检测信号用于根据第一对应关系确定所述气溶胶生成基质的温度；其中，所述第一对应关系用于反映所述检测信号与所述气溶胶生成基质的温度之间的对应关系。
3.根据权利要求2所述的气溶胶生成设备，其特征在于，在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度后，所述光发射模块发射光的发射总功率降低，以将所述气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于所述预设温度。
4.根据权利要求3所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述光发射模块用于在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度前，发射预设峰值功率的连续光，以及用于在所述气溶胶生成基质的温度达到预设温度后，根据脉冲光参数发射所述预设峰值功率的脉冲光，以将所述气溶胶生成基质的温度维持在小于或等于所述预设温度。
5.根据权利要求4所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述脉冲光参数包括所述脉冲光的脉冲宽度，和/或所述脉冲光之间的脉冲间隔。
6.根据权利要求1所述的气溶胶生成设备，其特征在于，所述检测信号用于根据第二对应关系确定所述气溶胶生成基质的温度；其中，所述第二对应关系用于反映光衰减率和所述气溶胶生成基质的温度之间的对应关系，所述光衰减率根据所述光发射模块的实时功率以及所述检测信号确定。
7.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘鸣，郭玉，梁峰，宋彬，刘小力，冼小毅，李航，
申请(专利权)人：深圳麦时科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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