一种半导体研磨盘废料收集装置制造方法及图纸

技术编号:40119913 阅读:7 留言:0更新日期:2024-01-23 20:29
本技术公开了一种半导体研磨盘废料收集装置,包括收集仓,所述收集仓内安装有粉碎辊,所述粉碎辊下方安装有搅拌装置,所述收集仓的右侧设置有负压风机,所述负压风机的右侧设置有洗涤塔,所述负压风机将收集仓内产生的粉尘抽入到洗涤塔中,所述洗涤塔的右侧设置有水池,所述洗涤塔与水池之间安装有输水泵,所述输水泵与水池之间设置有进水管,所述输水泵与洗涤塔之间设置有出水管,所述出水管向上延伸至洗涤塔内。本装置可以较好的将半导体研磨过程中产生的废料进行收集和处理。在对废料进行处理时会产生一些粉尘,这些粉尘经过负压风机被抽入到洗涤塔中进行洗涤,从而有效的保证半导体研磨的质量和生产现场环境不受污染。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于半导体研磨盘,具体涉及一种半导体研磨盘废料收集装置


技术介绍

1、半导体原材料硅片的制备过程中需要采用磨床对切割呈圆形的硅片进行表面研磨,研磨盘一般设有一个下磨盘和一个上磨盘,上磨盘通过升降与下磨盘合拢,上磨盘和下磨盘以相反的方向进行转动。在研磨过程中会产生一些废料,这些废料如不及时清理,不仅会影响研磨的质量,也会对现场环境污染造成一定的影响。


技术实现思路

1、针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,专利技术人在长期的实践中研发出了一种半导体研磨盘废料收集装置。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半导体研磨盘废料收集装置,包括收集仓,所述收集仓内安装有粉碎辊,所述粉碎辊下方安装有搅拌装置,所述收集仓1底部设置有下料仓,所述收集仓的右侧设置有负压风机,所述负压风机的右侧设置有洗涤塔,所述负压风机将收集仓内产生的粉尘抽入到洗涤塔中,所述洗涤塔的中上部设置有塔板,所述洗涤塔的底部设置有液位池,所述洗涤塔的右侧设置有水池,所述洗涤塔与水池之间安装有输水泵,所述输水泵与水池之间设置有进水管,所述输水泵与洗涤塔之间设置有出水管,所述出水管向上延伸至洗涤塔内,所述出水管的末端设置有喷头。

3、进一步的,所述收集仓与负压风机之间设置有进气管,所述进气管的一端与负压风机连接,另一端与收集仓的右侧中上部连接,所述进气管上设置有进气阀,所述进气管还连接有进气支管,所述进气支管的另一端与收集仓的右侧中下部连接,所述负压风机与洗涤塔之间设置有出气管,所述出气管一端与负压风机连接,另一端与洗涤塔的中下部连接,所述出气管与洗涤塔的连接处高于液位池的液位,所述出气管上设置有出气阀。

4、进一步的,所述出水管上设置有出水阀,所述进水管上设置有进水阀。

5、进一步的,所述搅拌装置包括电机、搅拌轴和搅拌叶轮,所述电机的安装在收集仓的外壁上,所述电机的左侧连接有搅拌轴,所述搅拌轴上安装有搅拌叶轮,所述搅拌叶轮在搅拌轴上呈螺旋状分布。

6、进一步的,所述洗涤塔的顶部设置有排空管,所述喷头的数量至少为3个。

7、进一步的,所述洗涤塔的底部连接有平衡管,所述平衡管上安装有平衡阀,所述平衡管的另一端与水池连接。

8、与现有技术相比,本技术的有益效果是:本装置通过设置收集仓,负压风机和洗涤塔等设备,可以较好的将半导体研磨过程中产生的废料进行收集和处理。在对废料进行处理时会产生一些粉尘,这些粉尘经过负压风机被抽入到洗涤塔中进行洗涤,从而有效的保证半导体研磨的质量和生产现场环境不受污染。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:包括收集仓,所述收集仓内安装有粉碎辊,所述粉碎辊下方安装有搅拌装置,所述收集仓底部设置有下料仓,所述收集仓的右侧设置有负压风机,所述负压风机的右侧设置有洗涤塔,所述负压风机将收集仓内产生的粉尘抽入到洗涤塔中,所述洗涤塔的中上部设置有塔板,所述洗涤塔的底部设置有液位池,所述洗涤塔的右侧设置有水池,所述洗涤塔与水池之间安装有输水泵,所述输水泵与水池之间设置有进水管,所述输水泵与洗涤塔之间设置有出水管,所述出水管向上延伸至洗涤塔内,所述出水管的末端设置有喷头。

2.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述收集仓与负压风机之间设置有进气管,所述进气管的一端与负压风机连接,另一端与收集仓的右侧中上部连接,所述进气管上设置有进气阀,所述进气管还连接有进气支管,所述进气支管的另一端与收集仓的右侧中下部连接,所述负压风机与洗涤塔之间设置有出气管,所述出气管一端与负压风机连接,另一端与洗涤塔的中下部连接,所述出气管与洗涤塔的连接处高于液位池的液位,所述出气管上设置有出气阀。

3.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述出水管上设置有出水阀,所述进水管上设置有进水阀。

4.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述搅拌装置包括电机、搅拌轴和搅拌叶轮,所述电机的安装在收集仓的外壁上,所述电机的左侧连接有搅拌轴,所述搅拌轴上安装有搅拌叶轮,所述搅拌叶轮在搅拌轴上呈螺旋状分布。

5.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述洗涤塔的顶部设置有排空管,所述喷头的数量至少为3个。

6.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述洗涤塔的底部连接有平衡管,所述平衡管上安装有平衡阀,所述平衡管的另一端与水池连接。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:包括收集仓,所述收集仓内安装有粉碎辊,所述粉碎辊下方安装有搅拌装置,所述收集仓底部设置有下料仓,所述收集仓的右侧设置有负压风机,所述负压风机的右侧设置有洗涤塔,所述负压风机将收集仓内产生的粉尘抽入到洗涤塔中,所述洗涤塔的中上部设置有塔板,所述洗涤塔的底部设置有液位池,所述洗涤塔的右侧设置有水池,所述洗涤塔与水池之间安装有输水泵,所述输水泵与水池之间设置有进水管,所述输水泵与洗涤塔之间设置有出水管,所述出水管向上延伸至洗涤塔内,所述出水管的末端设置有喷头。

2.根据权利要求1所述的一种半导体研磨盘废料收集装置,其特征在于:所述收集仓与负压风机之间设置有进气管,所述进气管的一端与负压风机连接,另一端与收集仓的右侧中上部连接,所述进气管上设置有进气阀,所述进气管还连接有进气支管,所述进气支管的另一端与收集仓的右侧中下部连接,所述负压风机与洗涤塔之间设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员:王伯琳曹霞吴泽华李洪杰
申请(专利权)人:河南捷利达超硬制品有限公司
类型:新型
国别省市:

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