本发明专利技术涉及一种用于接入网或小型化光器件中的抗弯曲多模光纤,包括光纤和包覆在光纤外表面的涂层,所述的光纤由具有抛物线形或阶跃形折射率剖面结构的石英玻璃芯层和围绕芯层的石英玻璃包层组成,其特征在于所述的芯层直径为20~200μm,由掺锗和氟石英玻璃材料组成,所述的包层外覆有双层固化的聚合物涂层,包覆在包层外表面的内涂层为低折射率柔性聚合物涂层,外涂层为高杨氏模量的聚合物涂层。本发明专利技术低折射率内涂层的设计避免了光纤内部应力,大大提高了光纤的机械性能,保证光纤工作在小半径弯曲状态下的使用性能和使用寿命,具有优异的抗弯曲性能,在850nm波长处,以10mm弯曲半径绕1圈导致的弯曲附加衰减小于或等于0.15dB。本发明专利技术制造方法简便有效,适用于大规模生产。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于接入网或小型化光器件中的抗弯曲多模光纤,特别涉及一种 具有较低弯曲附加衰减的光纤,属于光通信
技术介绍
近年来通信技术的发展和集成小型化光器件的兴起,使得应用中的多模光纤常常 布设在越来越小的弯折通道并缠绕在空间越来越小的小型存储盒中,例如电讯配线箱、数 据中心机柜等,这种情况下光纤就会经常遇到小角度弯曲。传统的光纤进行小角度弯曲时, 靠近多模光纤芯子边界传输的高阶模很容易在光纤弯曲时从芯子泄露出去,从而造成信号 损失,导致成本较高的传输中断。抗弯曲多模光纤在弯曲性能上得到了大幅改善,可以使信号损失最小化,实现更 快更高效的光缆路径、布线与安装。狭窄环境下的布线要求抗弯曲多模光纤能经受半径等 于甚至小于IOmm的小角度弯曲而其信号损失却远远小于传统的多模光纤。新型的抗弯曲 多模光纤比铜缆更易操作与安装,从而得以在更多的地方部署光纤。现有技术中,降低光纤弯曲附加衰减的一个有效方法是采用下陷包层的设计,即 在包层中添加具有较低折射率的分层来实现约束光功率的效果。其折射率剖面主要有“壕 沟型”(图1和图3所示)和“双包层型”(图2所示)等。美国专利US20080166094A1, US20090169163A1和US20090154888A1就是采用的此类设计。其设计原理为当光纤受到小 的弯曲时,从芯子泄露出去的光易被限制在内包层并返回到芯子中,从而降低了光纤宏弯 附加衰减。但是,在包层中添加具有低折射率的分层,缺点是分层折射率范围受限制即难以 实现低于-1. 5%的分层折射率,且工艺复杂成本高昂产品均勻性差。如何保证此类光纤的 光学性能一致性及长期工作在小半径弯曲状态下的使用寿命,仍然有待进一步的研究。现 有的多模光纤难以满足小弯曲半径下的苛刻的光学性能和可靠性能的要求。
技术实现思路
为方便介绍本
技术实现思路
,定义部分术语芯棒含有芯层或芯层及部分包层的石英玻璃件;预制棒具有合理几何及光学参数的可以熔融拉丝成为光纤的石英玻璃组件;折射率光从真空射入介质发生折射时,入射角的正弦值与折射角的正弦值的比 值叫做介质的“绝对折射率”,简称折射率;相对折射率差▲。/(^「“2—”。2)^2lx100% ^^xl00%,ndnn(1 分别为各. /2ni」对应部分和纯石英玻璃折射率,除非另做说明,Iii为各对应部分的最大折射率;折射率剖面用曲线图表示的光纤或光纤预制棒(包括芯棒)玻璃折射率与其半 径之间的关系;低折射率物质折射率小于纯石英玻璃折射率的特性,称为低折射率;纯石英玻璃在589nm折射率为1. 458,在630nm折射率为1. 457,同一波长下折射率比纯石英玻璃低 的涂料称为低折射率涂料;半径该层外边界与中心点之间的距离;幂指数律折射率剖面满足下面幂指数函数的折射率剖面,其中,Ii1为光纤轴心的 折射率;r为离开光纤轴心的距离;a为光纤芯半径;α为分布指数;△为芯/包相对折射率差; 本专利技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术存在的不足而提供一种具有 更低弯曲附加衰减的抗弯曲多模光纤。本专利技术提出的多模光纤的技术方案为包括光纤和包覆在光纤外表面的涂层,所 述的光纤由具有抛物线形或阶跃形折射率剖面结构的石英玻璃芯层和围绕芯层的石英玻 璃包层组成,其不同之处在于所述的芯层直径2R1为20 200 μ m,由掺锗(Ge)和氟(F)石 英玻璃材料组成,所述的包层外覆有双层固化的聚合物涂层,包覆在包层外表面的内涂层 为低折射率柔性聚合物涂层,外涂层为高杨氏模量的聚合物涂层。按上述方案,所述的包层为围绕在芯层外的纯石英玻璃包层,或纯石英与掺杂石 英玻璃包层的总和,最外层的石英玻璃包层直径为80 μ m 230 μ m。按上述方案,所述的内涂层在_65°C 85°C范围内杨氏模量小于或等于lOMPa,典 型的杨氏模量范围是0. 5MPa 2MPa,折射率(589nm波长钠黄光)范围是1. 37至1. 455 ; 外涂层在_65°C 55°C范围内杨氏模量范围是500MPa 1500MPa,典型的范围是700MPa lOOOMPa,折射率范围为1. 47至1. 78,外涂层折射率对光纤性能无明显影响。按上述方案,所述的内涂层为紫外光固化或热固化的柔性硅橡胶涂层,内涂层的 单边厚度为10 μ m 40 μ m ;所述的外涂层为紫外光固化或热固化的聚丙烯酸脂涂层,外涂 层的直径为160 μ m 260 μ m。按上述方案,所述的多模光纤在850nm波长处,以IOmm弯曲半径绕1圈导致的弯 曲附加衰减典型值小于或等于0. 15dB,甚至小于或等于0. 05dB。按上述方案,所述的芯层折射率剖面结构为抛物线形,α为1. 9 2. 2,相对折射 率差Δ 1为0. 9%至1. 2%,内涂层折射率范围是1. 40至1. 43,芯层直径为47 μ m 53 μ m。 动态疲劳参数Nd等于或大于26 ;在850nm波长和1300nm波长具有500MHz-km以上的带 宽,通过调整幂指数律折射率剖面分布,可以使优化的850nm波长窗口达到2000MHz-km甚 至5000MHz-km以上的带宽。按上述方案,所述的芯层折射率剖面结构为抛物线形,α为1. 9 2. 2,相对折射 率差Δ1为1. 8%至2. 3%,芯层直径为60μπι 65μπι。按上述方案,所述的芯层折射率剖面结构为阶跃形,相对折射率差Δ 1为0. 3%至2. 2 % ο本专利技术采用的双涂层复合结构结合了两种涂料的优点,可以提高光纤的机械性能 并且最大程度地降低微弯损耗柔性内涂层可以缓解外界对玻璃包层的压力降低微观弯曲 损耗引起的光功率损失,高杨氏模量的外涂层可以承受较大的机械力,使光纤免受加工、运 输、使用过程中的机械损伤。本专利技术多模光纤制造方法为将纯石英玻璃衬管固定在等离子体增强化学气相沉 积(PCVD)车床上进行掺杂沉积,在反应气体SiCl4和O2中,通入含F的气体,引进F掺杂, 通入GeCl4以引入Ge掺杂,通过微波使衬管内的反应气体离子化变成等离子体,并最终以 玻璃的形式沉积在衬管内壁;根据所述光纤波导结构的掺杂要求,将波导结构曲线细分成 数千至一万多层薄层分步沉积,通过程序控制每步混合气体中掺杂气体的流量和比例来实 现具有精确折射率分布的芯层;沉积完成后,用电加热炉将沉积管熔缩成实心芯棒。将实心芯棒套入具有适宜尺寸参数的纯石英玻璃空管内即可组成制备光纤用的 预制棒,或者在芯棒表面用OVD工艺沉积纯石英玻璃层作为包层再烧实成预制棒。将预制 棒置于拉丝塔拉成纤维,在纤维表面涂覆内外两层聚合物涂层即成光纤。光纤的弯曲附加衰减由宏弯附加衰减和微弯附加衰减两者组成,增加光纤的抗弯 曲能力可通过减少结构引起的这两种衰减来实现。内涂层材料采用低折射率的聚合物弹性 体,其低折射率的特性可以将从芯子泄露出去的光限制在石英玻璃包层并返回到芯子中, 从而降低了光纤宏弯附加衰减。另一方面,其在_65°C 85°C范围内杨氏模量小于lOMPa, 典型的杨氏模量范围是0. 5MPa 2MPa,这种特性最大限度地减小了玻璃包层与内涂层处 的应力与不规则形变导致的光功率损失,降低了微弯附加衰减,从而提高了光纤的抗弯曲 能力。本专利技术的有益效果在于1、低折射率内涂层的本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种抗弯曲多模光纤,包括光纤和包覆在光纤外表面的涂层,所述的光纤由具有抛物线形或阶跃形折射率剖面结构的石英玻璃芯层和围绕芯层的石英玻璃包层组成,其特征在于所述的芯层直径2R1为20~200μm,由掺锗和氟石英玻璃材料组成,所述的包层外覆有双层固化的聚合物涂层,包覆在包层外表面的内涂层为低折射率柔性聚合物涂层,外涂层为高杨氏模量的聚合物涂层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:曹蓓蓓,张方海,
申请(专利权)人:长飞光纤光缆有限公司,
类型:发明
国别省市:83[中国|武汉]
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