【技术实现步骤摘要】
本说明书实施例涉及氧化铝陶瓷基片，尤其涉及一种氧化铝陶瓷基片及其制造方法。
技术介绍
1、氧化铝陶瓷基片是一种具有特定纯度的氧化铝制成的薄片状材料，由于氧化铝陶瓷基片具有高强度、高硬度和优良的热稳定性，而被广泛应用于电子、光学和机械领域。
2、近年来，随着微电子和光电子技术的发展，对氧化铝陶瓷基片的需求日益增大，这就要求生产技术能够提供尺寸精确、表面光洁度高且不翘曲的基片。
3、然而，在制造氧化铝陶瓷基片时，容易出现翘曲问题，特别是在高温烧结过程中，翘曲的基片不仅影响产品的美观和使用性能，而且降低了生产效率和产出率。
4、在此背景下，如何降低氧化铝陶瓷基片的翘曲问题变得尤为重要，有待本领域技术人员解决。
技术实现思路
1、有鉴于此，本说明书实施例提供一种氧化铝陶瓷基片及其制造方法，能够降低氧化铝陶瓷基片的翘曲，提高合格率，进而提高应用氧化铝陶瓷基片的器件的工作性能。
2、首先，本说明书实施例提供一种氧化铝陶瓷基片的制造方法，包括：
3、选取与所述氧化铝陶瓷基片相适配的压板，并固定连接所述氧化铝陶瓷基片和所述压板；
4、将所述氧化铝陶瓷基片和所述压板放置于反应腔室；
5、根据所述氧化铝陶瓷基片的参数信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率，对所述氧化铝陶瓷基片进行烧结处理。
6、可选地，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的参数信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率，对所述氧化铝陶瓷基片进行烧结处理，
7、根据所述氧化铝陶瓷基片的尺寸信息和厚度信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率；
8、根据所述设定升温速率，对所述反应腔室进行升温操作，以对所述氧化铝陶瓷基片进行烧结处理。
9、可选地，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的参数信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率，还包括：
10、确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，所述形态变化包括所述氧化铝陶瓷基片的形态和形态变化速率；
11、根据所述氧化铝陶瓷基片的形态变化，调节所述反应腔室内的升温速率。
12、可选地，所述确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，包括：
13、采用预设的第一神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，其中，所述第一神经网络模型基于所述氧化铝陶瓷基片表面的温度分布，以及与温度分布相对应的升温速率和历史形态变化得到。
14、可选地，所述第一神经网络模型基于所述氧化铝陶瓷基片表面的温度分布，以及与温度分布相对应的升温速率和历史形态变化得到，包括：
15、对获取到的氧化铝陶瓷基片表面的温度分布，以及与温度分布相对应的升温速率和历史形态进行预处理，得到数据集合；
16、将数据集合划分为训练数据集、验证数据集和测试数据集；
17、将所述训练数据集输入至预设的第一预训练模型，对所述第一预训练模型进行训练，得到所述第一神经网络模型；
18、将所述验证数据集输入至所述第一神经网络模型，得到各验证数据集对应的氧化铝陶瓷基片的实际形态；
19、根据各验证数据集对应的氧化铝陶瓷基片的实际形态和各验证数据集所包含的氧化铝陶瓷基片的历史形态，调整所述第一神经网络模型；
20、将所述测试数据集输入至经调整后的第一神经网络模型，并在确定所述第一神经网络模型的性能满足设定性能时，停止训练所述第一神经网络模型。
21、可选地，所述采用预设的第一神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，包括：
22、获取所述反应腔室内的当前温度和当前升温速率；
23、将所述反应腔室内的当前温度和当前升温速率输入至所述第一神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片处于当前温度和当前升温速率下的预测形态和预测形态变化速率。
24、可选地，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的形态变化，调节所述反应腔室内的升温速率，包括：
25、基于所述氧化铝陶瓷基片处于当前温度和当前升温速率，通过所述第一神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片的处于当前温度和当前升温速率下的设定形态；
26、根据所述氧化铝陶瓷基片的处于当前温度和当前升温速率下的设定形态，采用预设的第二神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片对应的设定升温速率，其中，所述第二神经网络模型基于所述氧化铝陶瓷基片的形态变化，以及与形态变化相对应的反应腔室内的升温速率和温度得到；
27、根据所述氧化铝陶瓷基片的当前升温速率和设定升温速率，调节所述反应腔室内的升温速率。
28、可选地，氧化铝陶瓷基片的制造方法还包括：
29、在确定所述氧化铝陶瓷基片处于当前温度和当前升温速率下的预测形态变化大于设定的形态变化时，重新设定所述反应腔室内的温度和/或升温速率。
30、可选地，氧化铝陶瓷基片的制造方法还包括：
31、确定所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的平整度。
32、可选地，所述确定所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的平整度，包括：
33、采用预设的第三神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的平整度，其中，所述第三神经网络模型基于采集到的氧化铝陶瓷基片的图像信息得到。
34、可选地，所述第三神经网络模型基于采集到的氧化铝陶瓷基片的图像信息得到，包括：
35、获取所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的多个视角的图像，并确定各个视角图像对应的标签信息；
36、对各个视角的图像进行预处理，得到多个图像数据；
37、将多个图像数据划分为训练图像数据集和验证图像数据集；
38、在任一轮次，按照设定批次将所述训练图像数据集输出至第三预训练模型，对所述第三预训练模型进行训练，得到所述第三神经网络模型；
39、将所述验证图像数据集输入至所述第三神经网络模型，得到各训练图像数据对应的实际标签信息；
40、根据所述验证图像数据集对应的实际标签信息和所述验证图像数据集所包含的标签信息，调整所述第三神经网络模型。
41、可选地，所述获取所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的多个视角的图像，并确定各个视角图像对应的标签信息，包括：
42、生成所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的三维图像模型；
43、从多个视角渲染所述三维图像模型对应的二维图像，得到所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的多个视角的图像；
44、根据各个视角图像的平行度与设定平行度间的关系，确定各个视角图像对应的标签信息，所述标签信息包括：正常基片和缺陷基片。
45、可选地，所述采用预设的第三神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的平整度，包括：
46、生成所述氧化铝陶瓷基片经烧结处理后的多个视角的图像；
47、将各个视角的图像输入至所述第三本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种氧化铝陶瓷基片的制造方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的参数信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率，对所述氧化铝陶瓷基片进行烧结处理，包括：
3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，包括：
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述第一神经网络模型基于所述氧化铝陶瓷基片表面的温度分布，以及与温度分布相对应的升温速率和历史形态变化得到，包括：
5.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述采用预设的第一神经网络模型，确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，包括：
6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的形态变化，调节所述反应腔室内的升温速率，包括：
7.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，还包括：
8.根据权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于，还包括：
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所
10.一种氧化铝陶瓷基片，其特征在于，包括：采用权利要求1至9任一项所述的制造方法得到。
...【技术特征摘要】
1.一种氧化铝陶瓷基片的制造方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述根据所述氧化铝陶瓷基片的参数信息，确定所述反应腔室内的设定升温速率，对所述氧化铝陶瓷基片进行烧结处理，包括：
3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述确定所述氧化铝陶瓷基片在烧结过程中的形态变化，包括：
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述第一神经网络模型基于所述氧化铝陶瓷基片表面的温度分布，以及与温度分布相对应的升温速率和历史形态变化得到，包括：
5.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述采用...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑双喜，陈江涛，胡海涛，
申请(专利权)人：山东盈和电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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