System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 涂覆膜形成用组合物、涂覆膜及细胞培养容器制造技术_技高网

涂覆膜形成用组合物、涂覆膜及细胞培养容器制造技术

技术编号:40080933 阅读:56 留言:0更新日期:2024-01-17 02:45
涂覆膜,其是涂布含有共聚物的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着,前述共聚物为非水溶性,前述共聚物具有下述式(A)表示的重复单元(A)、及下述式(B)表示的重复单元(B),前述共聚物中的前述重复单元(A)与前述重复单元(B)的摩尔比率(A:B)为89:11~50:50。(式中,R<supgt;1</supgt;~R<supgt;3</supgt;各自独立地表示氢原子或碳原子数1~5的烷基,X<supgt;1</supgt;及X<supgt;2</supgt;各自独立地表示单键、酯键、醚键、酰胺键或可被氧原子中断的碳原子数1~5的亚烷基。)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及用于抑制生物物质的附着的涂覆膜及涂覆膜形成用组合物、以及使用了它们的带有涂覆膜的基材及细胞培养容器。


技术介绍

1、为了抑制人工透析器、人工器官、医疗器械等医疗用器械、细胞培养容器、细胞培养用基板等各种医疗用途器材的生物物质附着,提出了各种具有抑制生物物质附着的能力的涂覆材料。

2、专利文献1中公开了具有控制生物物质附着的能力的离子复合材料。专利文献2中公开了人es细胞用培养容器。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:国际公开2014/196650号公报

6、专利文献2:国际公开2013/183777号公报


技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、本专利技术的目的是提供:能抑制生物物质的附着并且难以溶解于磷酸缓冲生理盐水的涂覆膜;和能够形成能抑制生物物质的附着并且难以溶解于磷酸缓冲生理盐水的涂覆膜的涂覆膜形成用组合物;以及使用了它们的带有涂覆膜的基材及细胞培养容器。

3、用于解决课题的手段

4、本申请的专利技术人为了达成上述课题而反复进行了深入研究,结果发现,通过使用特定的共聚物,可得到能抑制生物物质的附着并且难以溶解于磷酸缓冲生理盐水的涂覆膜,从而完成了本专利技术。

5、[1]涂覆膜,其是涂布含有共聚物的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着,

6、前述共聚物为非水溶性,

7、前述共聚物具有下述式(a)表示的重复单元(a)、及下述式(b)表示的重复单元(b),

8、前述共聚物中的前述重复单元(a)与前述重复单元(b)的摩尔比率(a:b)为89:11~50:50。

9、[化学式1]

10、

11、(式中,r1~r3各自独立地表示氢原子或碳原子数1~5的烷基,x1及x2各自独立地表示单键、酯键、醚键、酰胺键或可被氧原子中断的碳原子数1~5的亚烷基。)

12、[2]如[1]所述的涂覆膜,其中,r1及r2为氢原子,r3为甲基,x1及x2为单键。

13、[3]如[1]或[2]所述的涂覆膜,其中,前述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

14、[4]如[1]~[3]中任一项所述的涂覆膜,其中,前述共聚物中的全部重复单元中的前述重复单元(a)与前述重复单元(b)的合计的摩尔%为99.5摩尔%以上。

15、[5]如[1]~[4]中任一项所述的涂覆膜,其中,前述共聚物不具有叠氮基。

16、[6]如[1]~[5]中任一项所述的涂覆膜,其中,在前述涂覆膜中,前述共聚物没有进行交联。

17、[7]涂覆膜形成用组合物,其含有共聚物,所述涂覆膜形成用组合物用于抑制生物物质的附着,

18、前述共聚物为非水溶性,

19、前述共聚物具有下述式(a)表示的重复单元(a)、及下述式(b)表示的重复单元(b),

20、前述共聚物中的前述重复单元(a)与前述重复单元(b)的摩尔比率(a:b)为89:11~50:50。

21、[化学式2]

22、

23、(式中,r1~r3各自独立地表示氢原子或碳原子数1~5的烷基,x1及x2各自独立地表示单键、酯键、醚键、酰胺键或可被氧原子中断的碳原子数1~5的亚烷基。)

24、[8]如[7]所述的涂覆膜形成用组合物,其中,r1及r2为氢原子,r3为甲基,x1及x2为单键。

25、[9]如[7]或[8]所述的涂覆膜形成用组合物,其中,前述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

26、[10]如[7]~[9]中任一项所述的涂覆膜形成用组合物,其中,前述共聚物中的全部重复单元中的前述重复单元(a)与前述重复单元(b)的合计的摩尔%为99.5摩尔%以上。

27、[11]如[7]~[10]中任一项所述的涂覆膜形成用组合物,其中,前述共聚物不具有叠氮基。

28、[12]如[7]~[11]中任一项所述的涂覆膜形成用组合物,其含有溶剂。

29、[13]如[12]所述的涂覆膜形成用组合物,其中,前述溶剂含有醇。

30、[14]涂覆膜,其是涂布[7]~[13]中任一项所述的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着。

31、[15]如[14]所述的涂覆膜,其中,在前述涂覆膜中,前述共聚物没有进行交联。

32、[16]如[1]~[6]、[14]及[15]中任一项所述的涂覆膜,其厚度为1~2,000nm。

33、[17]带有涂覆膜的基材,其具有基材、和配置于前述基材上的[1]~[6]及[14]~[16]中任一项所述的涂覆膜。

34、[18]细胞培养容器,其具有[17]所述的带有涂覆膜的基材。

35、[19]涂覆膜的制造方法,其包括下述工序:

36、将[7]~[13]中任一项所述的涂覆膜形成用组合物供给至基材上的工序;和

37、对供给至前述基材上的前述涂覆膜形成用组合物进行干燥的工序。

38、[20]如[19]所述的涂覆膜的制造方法,其中,前述共聚物没有进行交联。

39、专利技术效果

40、根据本专利技术,可以提供:能抑制生物物质的附着并且难以溶解于磷酸缓冲生理盐水的涂覆膜;和能够形成能抑制生物物质的附着并且难以溶解于磷酸缓冲生理盐水的涂覆膜的涂覆膜形成用组合物;以及使用了它们的带有涂覆膜的基材及细胞培养容器。

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【技术保护点】

1.涂覆膜,其是涂布含有共聚物的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着,

2.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,R1及R2为氢原子,R3为甲基,X1及X2为单键。

3.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

4.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物中的全部重复单元中的所述重复单元(A)与所述重复单元(B)的合计的摩尔%为99.5摩尔%以上。

5.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物不具有叠氮基。

6.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,在所述涂覆膜中,所述共聚物没有进行交联。

7.涂覆膜形成用组合物,其含有共聚物,所述涂覆膜形成用组合物用于抑制生物物质的附着,

8.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,R1及R2为氢原子,R3为甲基,X1及X2为单键。

9.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,所述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

10.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,所述共聚物中的全部重复单元中的所述重复单元(A)与所述重复单元(B)的合计的摩尔%为99.5摩尔%以上。

11.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,所述共聚物不具有叠氮基。

12.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其含有溶剂。

13.如权利要求12所述的涂覆膜形成用组合物,其中,所述溶剂含有醇。

14.涂覆膜,其是涂布权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着。

15.如权利要求14所述的涂覆膜,其中,在所述涂覆膜中,所述共聚物没有进行交联。

16.如权利要求1所述的涂覆膜,其厚度为1~2,000nm。

17.带有涂覆膜的基材,其具有基材、和配置于所述基材上的权利要求1~6及14~16中任一项所述的涂覆膜。

18.细胞培养容器,其具有权利要求17所述的带有涂覆膜的基材。

19.涂覆膜的制造方法,其包括下述工序:

20.如权利要求19所述的涂覆膜的制造方法,其中,所述共聚物没有进行交联。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.涂覆膜,其是涂布含有共聚物的涂覆膜形成用组合物而得到的,所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着,

2.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,r1及r2为氢原子,r3为甲基,x1及x2为单键。

3.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

4.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物中的全部重复单元中的所述重复单元(a)与所述重复单元(b)的合计的摩尔%为99.5摩尔%以上。

5.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,所述共聚物不具有叠氮基。

6.如权利要求1所述的涂覆膜,其中,在所述涂覆膜中,所述共聚物没有进行交联。

7.涂覆膜形成用组合物,其含有共聚物,所述涂覆膜形成用组合物用于抑制生物物质的附着,

8.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,r1及r2为氢原子,r3为甲基,x1及x2为单键。

9.如权利要求7所述的涂覆膜形成用组合物,其中,所述共聚物的粘度平均聚合度为200~3,000。

10.如权利要求7所述的涂覆膜形成...

【专利技术属性】
技术研发人员:广饭美耶广井佳臣上田祐挥铃木康平深泽菜月
申请(专利权)人:日产化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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