【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于遮光膜，特别是一种高耐候遮光膜及其制备方法。
技术介绍
1、遮光膜是生产相机镜头用遮光片的原材料，一般通过冲压剪切工艺将遮光膜制成相应尺寸和形状的遮光片进行使用，遮光片主要是用来控制相机拍摄过程中光线大小，避免光线过多或者过少对拍摄的不利影响。
2、遮光片的作用是只让需要的成像光线进入拍摄镜头，有效防止拍摄范围外光线的干扰。例如，当拍摄范围外的强直射光照到拍摄镜头的镜头表面时，由于光线在镜头外表面和内部多层镜面的反射，会产生一些杂散光，降低图像的对比度和清晰度，甚至产生光晕和光斑，破坏画面的和谐性，甚至达不到预期的效果，而遮光片正可以解决这一问题。
3、现有技术中采用pet膜为原材料制成的遮光片，pet膜是一种性能比较全面的膜材料，具有良好的气密性和保香性，防潮性较一般，在低温下透湿率下降。pet膜的机械性能优良，其强韧性是所有热塑性塑料中最好的，抗张强度和抗冲击强度比一般膜相对较高，且挺力好，尺寸稳定。
4、然而，pet膜的耐候性相对较差，易老化，而随着老化的进程的发生，会造成pet膜的力学性能大幅度的降低，从而极大的缩短了pet膜的使用寿命，这就导致其作为遮光片无法进行保持良好的遮光效果。
5、基于此，本专利技术通过对现有技术进行进一步的改进，来提pet遮光膜的耐候性。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种高耐候遮光膜，以解决现有技术中的不足。
2、本专利技术采用的技术方案如下：
3、
4、其中，炭黑粒子平均粒径为20μm。
5、作为进一步的技术方案：所述改性插层膨润土制备方法包括以下步骤：
6、(1)首先，将膨润土添加到碱液中，进行超声分散处理5-8min，得到混合分散液，将混合分散液添加到反应釜内，然后向反应釜内通入惰性气体，排出反应釜内空气；
7、(2)将5-羟甲基糠醛、蓖麻油依次添加到步骤(1)得到的混合分散液中，然后调节温度至68℃，保温搅拌30min；
8、(3)向上述反应釜内添加高锰酸钾，调节温度至89℃，以500r/min转速进行搅拌反应4小时，静置30min后，得到反应混合物；
9、(4)对步骤(3)所得到的反应混合物进行抽滤，洗涤至中性，真空干燥，得到改性插层膨润土；
10、其中，真空干燥温度为50℃，时间为1小时。
11、作为进一步的技术方案：步骤(1)中碱液为氢氧化钠溶液；
12、其中，氢氧化钠溶液质量分数为10％；
13、所述膨润土为钙基膨润土；
14、所述钙基膨润土与氢氧化钠溶液混合比例为20-30g：100ml。
15、作为进一步的技术方案：步骤(1)中所述惰性气体为氮气、氖气或氦气中任一种。
16、作为进一步的技术方案：步骤(2)中5-羟甲基糠醛、蓖麻油、混合分散液混合比例为3-5g：1-1.6g：150ml。
17、作为进一步的技术方案：步骤(3)中高锰酸钾、5-羟甲基糠醛质量比为1:2。
18、作为进一步的技术方案：所述片状二氧化硅制备方法为：
19、首先，将聚乙烯吡咯烷酮按1:5质量比例添加到无水乙醇中，搅拌混合均匀，得到混合溶液；
20、将石墨烯均匀分散到上述混合溶液中，得到复合液；
21、其中，石墨烯与混合液混合比例为4g：100ml；
22、将正硅酸四乙酯添加到上述复合液中，以300r/min转速搅拌10min，然后再添加氨水，调节混合体系ph至10.5，继续搅拌反应10小时，然后进行旋蒸干燥，洗涤至中性，得到混合反应物；
23、将上述得到的混合反应物在电阻炉内，进行分段式加热处理，首先，以10℃/s的升温速度升温至55℃，保温30min，然后再以20℃/s的升温速度升温至880℃，保温4小时，然后，在随炉自然冷却至室温后，得到片状二氧化硅。
24、作为进一步的技术方案：所述正硅酸四乙酯添加到上述复合液混合质量比为1:12；
25、所述氨水为饱和氨水。
26、作为进一步的技术方案：所述抗氧化剂为抗氧化剂1010。
27、一种高耐候遮光膜的制备方法，包括以下步骤：
28、a按各重量份比称取：聚对苯二甲酸乙二醇酯、改性插层膨润土、炭黑、片状二氧化硅、乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷)、碳纤维、抗氧化剂、羟基硅油、纳米二氧化钛；
29、b将上述原料添加到混合机中，进行搅拌混合处理，得到混合物料；
30、c将上述制备得到的混合料添加到双螺杆挤出机中进行熔融挤出，再进行流延成膜，冷却，得到pet膜。
31、厚度为0.2mm。
32、有益效果：
33、本专利技术制备的高分子聚合物遮光膜不仅具有较低的透光率，同时，还具有优异的耐候性，能够大幅度的延缓了老化进程。
34、通过各组分的协同作用，当光线进入到高耐候遮光膜内后，会被高耐候遮光膜内的改性插层膨润土、炭黑、纳米二氧化钛各粒子表面或发生散射或发生吸收作用，在散射作用的效应下，能够使得光线在介质中的传播路径变的更加复杂，进而会大幅度的降低了光线的透过性，从而降低了高耐候遮光膜的透光率，本专利技术制备的高耐候遮光膜的透光率低于1.8％。
35、本专利技术通过对膨润土进行了特定的改性，使得制成后的改性插层膨润土、纳米二氧化钛粒子的配合作用，能够对光线中的紫外光区域具有较高的吸收能力，主要吸收光线中的紫外光，能够有效的起到阻止紫外光的作用，从而有效的降低了紫外光对遮光膜的老化作用，提高了遮光膜的耐候性能。
36、通过片状二氧化硅的作用，能够使得光线从空气中射入到高耐候遮光膜内的片状二氧化硅上时会发生折射作用，进而直接改变了传播的方向，经过多次折射后，能够明显的减少光线的透过性。
37、本专利技术引入的改性插层膨润土可以在遮光膜基体中作为应力集中点，当遮光膜基体受到外力作用时，改性插层膨润土颗粒周围的剪切应力发生转移，可使与之相连的基体产生局部的屈服，吸收更多的能量，进而增强增韧遮光膜。同时还可以充当成核剂的作用，促进结晶，使得pet分子链排列紧密有序，分子间作用增强，有利于拉伸强度的增加，过多的引入会阻碍分子链的运动，也会使得拉伸强度降低。
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1.一种高耐候遮光膜，其特征在于，按重量份计包括以下成分制成：聚对苯二甲酸乙二醇酯80-85份、改性插层膨润土10-16份、炭黑8-14份、片状二氧化硅1-3份、乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷)1.5-2.5份、碳纤维2-2.5份、抗氧化剂1-1.6份、羟基硅油1-1.8份、纳米二氧化钛2-3份；
2.根据权利要求1所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：所述改性插层膨润土制备方法包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(1)中碱液为氢氧化钠溶液；
4.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(1)中所述惰性气体为氮气、氖气或氦气中任一种。
5.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(2)中5-羟甲基糠醛、蓖麻油、混合分散液混合比例为3-5g：1-1.6g：150mL。
6.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(3)中高锰酸钾、5-羟甲基糠醛质量比为1:2。
7.根据权利要求1所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：所述片状二氧化硅制备
8.根据权利要求7所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：所述正硅酸四乙酯添加到上述复合液混合质量比为1:12；
9.根据权利要求1所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：所述抗氧化剂为抗氧化剂1010。
10.根据权利要求1所述的一种高耐候遮光膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种高耐候遮光膜，其特征在于，按重量份计包括以下成分制成：聚对苯二甲酸乙二醇酯80-85份、改性插层膨润土10-16份、炭黑8-14份、片状二氧化硅1-3份、乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷)1.5-2.5份、碳纤维2-2.5份、抗氧化剂1-1.6份、羟基硅油1-1.8份、纳米二氧化钛2-3份；
2.根据权利要求1所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：所述改性插层膨润土制备方法包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(1)中碱液为氢氧化钠溶液；
4.根据权利要求2所述的一种高耐候遮光膜，其特征在于：步骤(1)中所述惰性气体为氮气、氖气或氦气中任一种。
5.根据权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：葛会登，李仕军，
申请(专利权)人：江西省爱成海光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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