【技术实现步骤摘要】
本技术涉及坩埚生产，具体为一种复合层式半导体级石英坩埚。
技术介绍
1、石英坩埚是以石英砂为主材制成的器皿，具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点，应用也非常广泛。石英坩埚可在1450度以下使用，用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。生产时，高纯石英砂经过模具熔制成型，冷加工喷砂、切断、倒角、超声清洗、烘烤，喷涂涂层后真空包装出库。目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，其致密层能阻止单晶硅高温拉制过程中硅与石英坩埚反应提高成晶率。一般来说，石英坩埚寿命仅300至400个小时，更换频率极高，1gw182硅片产能对应100台单晶炉，则1gw硅片出货对应使用约2400个石英坩埚。
2、目前广泛使用的公开号为cn 209098511 u的一种复合层式半导体级石英坩埚，在实际使用中，石英坩埚从准备阶段到进入工作流程，始终是开口朝上，容易受到粉尘污染，导致生长出的晶体结构含有较多杂质，单个锅体使用结束后，还需要操作者停机较长时间进行石英坩埚的更换。
技术实现思路
1、（一）解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本技术提供了一种复合层式半导体级石英坩埚，具备粉尘杂质少、替换便捷等优点，解决了上述技术问题。
3、（二）技术方案
4、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种复合层式半导体级石英坩埚，包括锅
5、作为本技术的优选技术方案，所述旋转机构包括方形框架、转轴和底座，所述旋转电机输出端固定连接有转轴，所述转轴表面中心处固定安装有底座，所述转轴两端转动连接于锅架，且贯穿旋转机构表面。
6、作为本技术的优选技术方案，所述底座为长方体，所述底座顶面面积小于方形框架内轮廓面积，所述底座厚度与方形框架厚度相等。
7、作为本技术的优选技术方案，所述第一液压缸高度高于延伸架，所述推动杆长度大于延伸架长度。
8、作为本技术的优选技术方案，所述方形框架内壁左侧固定连接有左液压缸，所述左液压缸设置有两组，所述方形框架内壁右侧固定连接有右液压缸，所述右液压缸设置有两组，所述左液压缸和右液压缸输出端均固定连接有液压杆，所述液压杆末端固定连接有抓手。
9、作为本技术的优选技术方案，所述锅架正面固定安装有旋转按钮、固定按钮、集尘按钮和推动按钮，所述旋转按钮与旋转电机电性连接，所述固定按钮与左液压缸和右液压缸电性连接，所述集尘按钮与集尘器电性连接，所述推动按钮与第一液压缸电性连接。
10、与现有技术相比，本技术提供了一种复合层式半导体级石英坩埚，具备以下有益效果：
11、1、本技术通过设置在锅架底部的集尘器，对开口朝下倒置的石英坩埚进行除尘清理，准备阶段保证了坩埚内部无杂质，旋转机构带动锅体向上垂直翻转180度进入工作阶段，配合推动杆将锅体移动至泥三角上，锅体无杂质的情况下生长拉晶纯度更高，锅体工作时，可以预先将下一批锅体开口朝下倒置在方形框架上，打开集尘器进行除尘，优化了传统替换流程，节省了工时，延伸架右侧可设置回收设备，锅体使用寿命到期时，推动杆将锅体推离延伸架，收集回收废弃高温锅体，避免了人工替换烫伤的情况，操作安全性更高。
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1.一种复合层式半导体级石英坩埚，包括锅架（1），活动连接于锅架（1）内部的锅体（2），固定连接于锅架（1）内部的旋转电机，其特征在于：所述锅架（1）包括底板、中心立柱、延伸架、左固定板和横梁，所述底板顶部固定安装有集尘器（4），所述左固定板左侧固定连接有第一液压缸，所述第一液压缸输出端固定连接有推动杆，所述推动杆远离第一液压缸的一端固定连接有推动板（18），所述中心立柱中心处与延伸架中心处固定连接，且相互垂直，所述中心立柱内壁中心处转动连接有旋转机构（6），所述锅体（2）底部活动连接于旋转机构（6），所述延伸架内壁右侧固定安装有泥三角（19）。
2.根据权利要求1所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述旋转机构（6）包括方形框架、转轴和底座（7），所述旋转电机输出端固定连接有转轴，所述转轴表面中心处固定安装有底座（7），所述转轴两端转动连接于锅架（1），且贯穿旋转机构（6）表面。
3.根据权利要求2所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述底座（7）为长方体，所述底座（7）顶面面积小于方形框架内轮廓面积，所述底座（7）厚度与方形框架
4.根据权利要求1所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述第一液压缸高度高于延伸架，所述推动杆长度大于延伸架长度。
5.根据权利要求3所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述方形框架内壁左侧固定连接有左液压缸，所述左液压缸设置有两组，所述方形框架内壁右侧固定连接有右液压缸，所述右液压缸设置有两组，所述左液压缸和右液压缸输出端均固定连接有液压杆（12），所述液压杆（12）末端固定连接有抓手（13）。
6.根据权利要求5所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述锅架（1）正面固定安装有旋转按钮（14）、固定按钮（15）、集尘按钮（16）和推动按钮（17），所述旋转按钮（14）与旋转电机电性连接，所述固定按钮（15）与左液压缸和右液压缸电性连接，所述集尘按钮（16）与集尘器（4）电性连接，所述推动按钮（17）与第一液压缸电性连接。
...【技术特征摘要】
1.一种复合层式半导体级石英坩埚，包括锅架（1），活动连接于锅架（1）内部的锅体（2），固定连接于锅架（1）内部的旋转电机，其特征在于：所述锅架（1）包括底板、中心立柱、延伸架、左固定板和横梁，所述底板顶部固定安装有集尘器（4），所述左固定板左侧固定连接有第一液压缸，所述第一液压缸输出端固定连接有推动杆，所述推动杆远离第一液压缸的一端固定连接有推动板（18），所述中心立柱中心处与延伸架中心处固定连接，且相互垂直，所述中心立柱内壁中心处转动连接有旋转机构（6），所述锅体（2）底部活动连接于旋转机构（6），所述延伸架内壁右侧固定安装有泥三角（19）。
2.根据权利要求1所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述旋转机构（6）包括方形框架、转轴和底座（7），所述旋转电机输出端固定连接有转轴，所述转轴表面中心处固定安装有底座（7），所述转轴两端转动连接于锅架（1），且贯穿旋转机构（6）表面。
3.根据权利要求2所述的一种复合层式半导体级石英坩埚，其特征在于：所述底座（...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱旦，陈治华，王吉祥，舒闵，
申请(专利权)人：常州裕能石英科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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