【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于压力校准，具体而言，涉及一种防回流压力校准装置及方法。
技术介绍
1、目前，压力仪器仪表、压力传感器以及压力变送器等已广泛应用于各个行业领域，为了保障其量值准确可靠，这些仪器仪表、传感器、变送器等都需要定期的进行标定或校准。
2、对于一些特殊的行业领域来说，使用后的压力仪表设备会存在一定的污染源。例如，核电领域使用的压力仪器仪表、传感器、变送器使用过后等其内部大多残存少量辐射性物质和放射性颗粒，当使用压力校准装置对其进行标定或校准时，就会有辐射物质和放射性颗粒随着气体介质流动，回流至压力校准装置内，对压力校准装置造成污染甚至损坏，带有辐射或放射性的物质直接通过压力控制器排放到空气中，也会对周围环境造成污染。
3、由上可知，现有技术中存在待校准件容易对压力校准装置造成污染损坏的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种防回流压力校准装置及方法，以解决现有技术中待校准件容易对压力校准装置造成污染损坏的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术的一个方面提供了一种防回流压力校准装置，包括：气源组件，用于提供校准所需要的气体；第一压力调节件，第一压力调节件与气源组件连接，用于将气源组件提供的气体调节为标准气体；防回流组件，防回流组件包括依次设置在校准管路上的第一开闭阀、绕流管和气液隔离件，第一开闭阀设置在第一压力调节件的下游，用于控制校准管路的开闭，绕流管用于吸附校准管路中回流的气体杂质，气液隔离件用于隔离校准管路中的液体杂质；输出
3、进一步地，防回流组件还包括第一过滤件和第二过滤件，第一过滤件设置在第一开闭阀与第一压力调节件之间，第二过滤件设置在气液隔离件与绕流管之间，且第一过滤件和第二过滤件的过滤方向均与标准气体的流动方向相反。
4、进一步地，防回流压力校准装置还包括卸压排气管路和气体回收净化处理组件，卸压排气管路的一端并联至校准管路且连接点位于绕流管和第二过滤件之间，卸压排气管路的另一端具有排气口，气体回收净化处理组件与卸压排气管路的排气口连接。
5、进一步地，防回流压力校准装置还包括第三过滤件，第三过滤件设置在气体回收净化处理组件与排气口之间。
6、进一步地，防回流组件还包括依次设置在卸压排气管路上的第二开闭阀和第二压力调节件，第二开闭阀用于控制卸压排气管路的开闭，第二压力调节件用于调节从卸压排气管路排出的气体的压力。
7、进一步地，防回流组件还包括标准传感器，标准传感器设置在第二开闭阀与第二压力调节件之间，用于在卸压排气时检测测试接口的压力。
8、进一步地，防回流组件还包括两位三通阀，两位三通阀的两个接口连接至校准管路且位于气液隔离件与测试接口之间，两位三通阀的第三个接口并联至卸压排气管路且连接点位于第二压力调节件与排气口之间。
9、进一步地，防回流组件还包括气容，气容设置在第一开闭阀与绕流管之间。
10、本专利技术的另一个方面提供了一种防回流压力校准方法，采用上述的防回流压力校准装置实施压力校准，所述方法包括：步骤s1：将第一压力调节件的输出压力调节为预定吹扫压力值，打开第一开闭阀并保持关闭防回流组件的第二开闭阀，并将防回流组件的两位三通阀调节为与卸压排气管路连通且与测试接口断开，对校准管路进行吹扫；步骤s2：将第一压力调节件的输出压力依次调节为预定的第一目标压力值，以将气源组件提供的气体调节为标准气体，将两位三通阀调节为与卸压排气管路断开并与测试接口连通，将待校准件与测试接口连接，以对待校准件进行升压校准；步骤s3：升压校准完成后，关闭第一开闭阀并打开第二开闭阀，将第一压力调节件和防回流组件的第二压力调节件的输出压力同时依次下调为预定的第二目标压力值，以使校准管路内位于第一开闭阀下游的气体从卸压排气管路卸压排出，位于第一开闭阀上游的气体通过第一压力调节件卸压排出，对系统进行卸压；步骤s4：第一开闭阀的两端均卸压至第二目标压力值且达到静压平衡状态后，打开第一开闭阀并关闭第二开闭阀，将第一压力调节件的输出压力调节为预定的卸压目标压力值，所述第二目标压力值大于所述卸压目标压力值，以使校准管路内的气体通过第一压力调节件卸压排出，完成卸压校准。
11、进一步地，步骤s1还包括：吹扫完成后，关闭第一开闭阀，以使校准管路内位于第一开闭阀下游的气体从卸压排气管路卸压排出；将第一压力调节件的输出压力调节为0，以使位于第一开闭阀上游的气体通过第一压力调节件卸压排出。
12、进一步地，所述第二目标压力值大于所述卸压目标压力值1％至2％。
13、根据本专利技术上述方面的防回流压力校准装置及方法，通过设置防回流组件，防回流组件包括依次设置在校准管路上的第一开闭阀、绕流管和气液隔离件，第一开闭阀设置在第一压力调节件的下游，用于控制校准管路的开闭，绕流管用于吸附校准管路中回流的气体杂质，气液隔离件用于隔离校准管路中的液体杂质，这样当压力校准装置对用于特殊用途的待校准件如用于核电领域的压力仪器仪表进行校准时，其内部的辐射性物质和放射性颗粒等杂质即使跟随气体流动回流至压力校准装置内，也会被气液隔离件和绕流管隔离吸附，从而无法对压力校准装置造成污染损坏，保证压力校准装置的正常使用，解决了现有技术中待校准件容易对压力校准装置造成污染损坏的问题。
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1.一种防回流压力校准装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括第一过滤件(4)和第二过滤件(8)，所述第一过滤件(4)设置在所述第一开闭阀(5)与所述第一压力调节件(3)之间，所述第二过滤件(8)设置在所述气液隔离件(9)与所述绕流管(7)之间，且所述第一过滤件(4)和所述第二过滤件(8)的过滤方向均与所述标准气体的流动方向相反。
3.根据权利要求1或2所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流压力校准装置还包括卸压排气管路(19)和气体回收净化处理组件(15)，所述卸压排气管路(19)的一端并联至所述校准管路(18)且连接点位于所述绕流管(7)和所述第二过滤件(8)之间，所述卸压排气管路(19)的另一端具有排气口(17)，所述气体回收净化处理组件(15)与所述卸压排气管路(19)的排气口(17)连接。
4.根据权利要求3所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流压力校准装置还包括第三过滤件(14)，所述第三过滤件(14)设置在所述气体回收净化处理组件(15)与所述排气口
5.根据权利要求3或4所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括依次设置在所述卸压排气管路(19)上的第二开闭阀(13)和第二压力调节件(11)，所述第二开闭阀(13)用于控制所述卸压排气管路(19)的开闭，所述第二压力调节件(11)用于调节从所述卸压排气管路(19)排出的气体的压力。
6.根据权利要求5所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括标准传感器(12)，所述标准传感器(12)设置在所述第二开闭阀(13)与所述第二压力调节件(11)之间，用于在卸压排气时检测所述测试接口(16)的压力。
7.根据权利要求3-5中任一项所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括两位三通阀(10)，所述两位三通阀(10)的两个接口连接至所述校准管路(18)且位于所述气液隔离件(9)与所述测试接口(16)之间，所述两位三通阀(10)的第三个接口并联至所述卸压排气管路(19)且连接点位于所述第二压力调节件(11)与所述排气口(17)之间。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括气容(6)，所述气容(6)设置在所述第一开闭阀(5)与所述绕流管(7)之间。
9.一种防回流压力校准方法，其特征在于，采用权利要求1-8中任一项所述的防回流压力校准装置实施压力校准，所述方法包括：
10.根据权利要求9所述的防回流压力校准方法，其特征在于，所述步骤S1还包括：
11.根据权利要求9或10所述的防回流压力校准方法，其特征在于，所述第二目标压力值大于所述卸压目标压力值1％至2％。
...【技术特征摘要】
1.一种防回流压力校准装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括第一过滤件(4)和第二过滤件(8)，所述第一过滤件(4)设置在所述第一开闭阀(5)与所述第一压力调节件(3)之间，所述第二过滤件(8)设置在所述气液隔离件(9)与所述绕流管(7)之间，且所述第一过滤件(4)和所述第二过滤件(8)的过滤方向均与所述标准气体的流动方向相反。
3.根据权利要求1或2所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流压力校准装置还包括卸压排气管路(19)和气体回收净化处理组件(15)，所述卸压排气管路(19)的一端并联至所述校准管路(18)且连接点位于所述绕流管(7)和所述第二过滤件(8)之间，所述卸压排气管路(19)的另一端具有排气口(17)，所述气体回收净化处理组件(15)与所述卸压排气管路(19)的排气口(17)连接。
4.根据权利要求3所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流压力校准装置还包括第三过滤件(14)，所述第三过滤件(14)设置在所述气体回收净化处理组件(15)与所述排气口(17)之间。
5.根据权利要求3或4所述的防回流压力校准装置，其特征在于，所述防回流组件还包括依次设置在所述卸压排气管路(19)上的第二开闭阀(13)和第二压力调节件(11)，所述第二开闭阀(13)用于控制所述卸压排气管路...
【专利技术属性】
技术研发人员：王洋，盛晓岩，闫继超，张贤，孙义斌，彭轶，
申请(专利权)人：中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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