【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁控溅射镀膜，具体涉及一种磁控溅射镀膜真空腔体。
技术介绍
1、溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材，各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用；磁控溅射镀膜是目前应用广泛的镀膜沉积工艺，镀膜过程需要在真空腔内进行。
2、现有技术中，磁控溅射镀膜真空腔体的箱门一般安装有玻璃方便进行观察，但是当对物体进行真空镀膜的时候，可能会溅射产物涂覆到玻璃的一侧，可能会对玻璃的透光率造成影响，进而可能会影响对腔体内部的观察，存在一定的局限性。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种磁控溅射镀膜真空腔体，解决了当对物体进行真空镀膜的时候，可能会溅射产物涂覆到玻璃的一侧，可能会对玻璃的透光率造成影响，进而可能会影响对腔体内部的观察，存在一定的局限性的问题。
2、本专利技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
3、一种磁控溅射镀膜真空腔体，包括：支撑底板，所述支撑底板的顶面固定安装有腔体，所述支撑底板的一侧设置有箱门，所述箱门的一侧固定安装有两个铰链，所述腔体与所述箱门通过铰链相连接，所述支撑底板的顶面设置有plc控制器，所述支撑底板的一侧设置有玻璃，防护组件
4、通过采用上述技术方案，通过设置的支撑底板、腔体、箱门、排气孔、固定管、第一螺纹孔、第一固定环、第二螺纹孔、螺栓和靶头的相互配使用，可以达到了对物件进行镀膜的效果，并且当靶头出现损坏的情况的时候，方便了使用人员对靶头进行更换，同时可以通过透明的第一转动板对玻璃进行防护，避免玻璃被溅射到产物，方便了进行镀膜工作。
5、较佳的，所述支撑底板的内部设置有放置板，所述放置板的顶面开设有第三圆形通孔，所述第三圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一螺纹柱，所述第一螺纹柱的外圆壁面螺纹连接有螺纹环，所述放置板的顶面开设有第四圆形通孔，所述第四圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一支撑柱，所述第一支撑柱与所述支撑底板的内部底面固定安装，所述第一螺纹柱与所述支撑底板的内部底面固定安装。
6、通过采用上述技术方案，通过设置的放置板、螺纹环、第一螺纹柱和第一支撑柱的相互配使用，可以达到对放置板的高度进行调节的效果。
7、较佳的，所述支撑底板的一侧开设有连接孔，所述连接孔的内圆壁面固定套接有连接管，所述支撑底板的顶面固定安装有真空泵，所述真空泵的进气口的内圆壁面与所述连接管固定套接，所述真空泵与所述plc控制器电性连接。
8、通过采用上述技术方案，通过设置的连接孔、真空泵和连接管的相互配合使用，可以达到避免真空泵的高度对支撑底板造成影响的效果。
9、较佳的，所述支撑底板的内部两侧分别固定安装有固定框，所述固定框的内部固定安装有若干个电热丝，所述电热丝与所述plc控制器电性连接。
10、通过采用上述技术方案，通过设置的电热丝和plc控制器的相互配合使用，可以达到对支撑底板的内部进行加热的效果。
11、较佳的，所述支撑底板的一侧固定安装有两个支撑板，所述支撑板的内部活动套接有第二转动板，所述第二转动板的顶面开设有第五圆形通孔，所述第五圆形通孔的内圆壁面活动套接有第二支撑柱，所述第二支撑柱与所述支撑板的内部固定套接，所述第二转动板的一侧开设有第三螺纹孔，所述第三螺纹孔的内圆壁面螺纹连接有第二螺纹柱，所述第二螺纹柱的一端固定安装有挤压板。
12、通过采用上述技术方案，通过设置的第二转动板、第二支撑柱、支撑板、电热丝和固定框的相互配合使用，可以达到对箱门进行固定的效果。
13、较佳的，所述箱门的一侧固定安装有密封垫。
14、通过采用上述技术方案，通过设置的密封垫和箱门的相互配合使用，可以达到对箱门和腔体之间进行密封的效果。
15、较佳的，所述箱门的一侧固定安装有第一固定板。
16、通过采用上述技术方案，通过设置的第一固定板和箱门的相互配合使用，可以达到方便对箱门进行旋转的效果。
17、较佳的，所述支撑底板的顶面固定安装有第三支撑柱，所述第三支撑柱与所述plc控制器固定安装。
18、通过采用上述技术方案，通过设置的第三支撑柱和plc控制器的相互配合使用，可以达到对plc控制器进行支撑的效果。
19、综上所述，本专利技术主要具有以下有益效果：
20、通过设置的支撑底板、腔体、箱门、排气孔、固定管、第一螺纹孔、第一固定环、第二螺纹孔、螺栓和靶头的相互配使用，可以达到了对物件进行镀膜的效果，并且当靶头出现损坏的情况的时候，方便了使用人员对靶头进行更换，同时可以通过透明的第一转动板对玻璃进行防护，避免玻璃被溅射到产物，方便了进行镀膜工作。
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1.一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的内部设置有放置板(20)，所述放置板(20)的顶面开设有第三圆形通孔，所述第三圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一螺纹柱(21)，所述第一螺纹柱(21)的外圆壁面螺纹连接有螺纹环(23)，所述放置板(20)的顶面开设有第四圆形通孔，所述第四圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一支撑柱(22)，所述第一支撑柱(22)与所述支撑底板(1)的内部底面固定安装，所述第一螺纹柱(21)与所述支撑底板(1)的内部底面固定安装。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的一侧开设有连接孔(24)，所述连接孔(24)的内圆壁面固定套接有连接管(25)，所述支撑底板(1)的顶面固定安装有真空泵(26)，所述真空泵(26)的进气口的内圆壁面与所述连接管(25)固定套接，所述真空泵(26)与所述PLC控制器电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的内部两侧
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的一侧固定安装有两个支撑板(29)，所述支撑板(29)的内部活动套接有第二转动板(30)，所述第二转动板(30)的顶面开设有第五圆形通孔，所述第五圆形通孔的内圆壁面活动套接有第二支撑柱(31)，所述第二支撑柱(31)与所述支撑板(29)的内部固定套接，所述第二转动板(30)的一侧开设有第三螺纹孔(32)，所述第三螺纹孔(32)的内圆壁面螺纹连接有第二螺纹柱(34)，所述第二螺纹柱(34)的一端固定安装有挤压板(33)。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述箱门(3)的一侧固定安装有密封垫(35)。
7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述箱门(3)的一侧固定安装有第一固定板(11)。
8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的顶面固定安装有第三支撑柱(36)，所述第三支撑柱(36)与所述PLC控制器固定安装。
...【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的内部设置有放置板(20)，所述放置板(20)的顶面开设有第三圆形通孔，所述第三圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一螺纹柱(21)，所述第一螺纹柱(21)的外圆壁面螺纹连接有螺纹环(23)，所述放置板(20)的顶面开设有第四圆形通孔，所述第四圆形通孔的内圆壁面活动套接有第一支撑柱(22)，所述第一支撑柱(22)与所述支撑底板(1)的内部底面固定安装，所述第一螺纹柱(21)与所述支撑底板(1)的内部底面固定安装。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的一侧开设有连接孔(24)，所述连接孔(24)的内圆壁面固定套接有连接管(25)，所述支撑底板(1)的顶面固定安装有真空泵(26)，所述真空泵(26)的进气口的内圆壁面与所述连接管(25)固定套接，所述真空泵(26)与所述plc控制器电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜真空腔体，其特征在于：所述支撑底板(1)的内部两侧分别固定安装有固定框(27)，所述固定框(...
【专利技术属性】
技术研发人员：王俊儒，王亚辉，李志刚，时家明，张金花，王泳棵，陈友才，常亚婧，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：
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