【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种曝光图形的补偿方法，尤其是一种曝光图形网格精度的补偿方法。
技术介绍
1、曝光技术广泛应用于半导体和pcb生产领域，是制作半导体器件、芯片和pcb产品的工艺步骤之一，其用于在基底表面上印刷特征图形，最终获得依据电路设计所需的图形结构。直写曝光机构利用数字光处理技术，通过可编程的数字反射镜装置实现编辑不同的所需的图形结构，能够快速切换图形，其不仅可以降低成本，还可以减少制程的时间，正广泛应用于光刻
为了准确的在工件上进行曝光图形，在直写曝光设备曝光前，需获得曝光图形的补偿数据，目前获得曝光图形的补偿数据需要通过多次重复曝光验证，先通过不对位曝光，获得全局错切补偿数据，然后基于全局错切补偿数据再次不对位曝光，验证全局错切补偿数据并获得多路补偿数据，再根据获得的多路补偿数据进行不对位曝光，获得场间拼接的补偿数据并验证，最后根据场间拼接的补偿数据进行对位曝光并验证，获得外层对准的补偿数据，需要整版重复七次获得补偿数据并验证，过程繁琐复杂，数据处理量大。同时，曝光图形仅根据测量数据做调整，曝光畸变包含测量畸变的叠加量以及重复性偏差，测量系统的误差无法有效避免。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是提供一种减少数据处理量高效的曝光图形网格精度的补偿方法。
2、为了实现上述目的，所述曝光图形网格精度的补偿方法包括以下步骤：首先获得曝光标定板，所述曝光标定板包括呈行列排列的基础点；然后选取曝光标定板的基础点作为对位点，对曝光标定板进行对位曝光，获得
3、较佳的，所述标定板的标定点为遮光部，其余部分为透光部。
4、较佳的，所述曝光标定板包括涂覆有光刻胶的基板和固定于基板上方的标定板，所述基础点为标定板的标定点。
5、较佳的，所述检测点的边缘在所述基础点的范围外。
6、较佳的，验证所述曝光补偿值时，以基础点为对位点，再次对位曝光，曝光图像为与基础点一一对应的验证检测点的阵列图形，验证检测点的轮廓小于所述基础点的轮廓，验证检测点位于基础点内部，检测点和标定点的边缘具有一定间隙；曝光时加入曝光补偿值，获得验证测试点，获取测试点的图像，验证曝光补偿值的准确性。
7、较佳的，所述曝光标定板通过掩膜曝光的方式获得，以标定板作为掩膜板，放置于涂覆有光刻胶的基板上方进行掩膜曝光，曝光后的基板即为曝光标定板，所述基础点为与标定板上标定点位置对应的曝光标定板的点。
8、较佳的，所述检测点的边缘在所述基础点的范围内。
9、较佳的，所述曝光补偿值包括全局错切补偿值、多路补偿值、场间拼接补偿值、外层对准平移补偿值。
10、较佳的，全局磋切补偿值通过计算检测点x坐标与基础点x坐标偏差值的从上到下的差异程度获得。
11、较佳的，多路补偿值通过检测点与对应的基础点y方向的差异值计算，每个检测点与对应的基础点y方向差异值作为被减数，该条带第一个检测点与基础点的y方向差异值作为减数，获得的差值为多路补偿量。
12、较佳的，场间拼接补偿值分为x方向场间拼接补偿值和y方向场间拼接补偿值，计算x方向场间拼接补偿量时，从第2个条带开始计算，以每个条带各检测点补偿全局错切之后x方向坐标与基础点x方向坐标值的差异值的平均值为被减数，第一条带补偿全局错切之后x方向各检测点x方向坐标值与标定板x方向坐标值的差值的平均值为减数；计算y方向场间拼接补偿值时，从第2个条带开始计算，以每个条带第一个检测点y方向坐标与基础点差异值为被减数，第一条带第一个检测点y方向坐标值与对应基础点的差异值为减数。
13、较佳的，外层对准平移补偿值为第一条带第一个检测点xy坐标值与基础点xy坐标值的差异值。
14、与现有技术相比，本专利技术所述的曝光图形网格精度的补偿方法仅需整版曝光两次，获取两次坐标数据，坐标数据提取量大大减少，同时，根据测得检测点的数据与基础点的数据的差异做调整，减小相机自身测量误差导致的叠加偏差，优化整体网格的均匀性及双机台之间互套效果。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种曝光图形网格精度的补偿方法，首先获得曝光标定板，所述曝光标定板包括呈行列排列的基础点；然后选取曝光标定板的基础点作为对位点，对曝光标定板进行对位曝光，获得检测点，所述检测点和基础点一一对应为一组测试点；获取测试点的图像，根据测试点的图像获取曝光补偿值。
2.根据权利要求1所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述标定板的标定点为遮光部，其余部分为透光部。
3.根据权利要求2所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述曝光标定板包括涂覆有光刻胶的基板和固定于基板上方的标定板，所述基础点为标定板的标定点。
4.根据权利要求3所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述检测点的边缘在所述基础点的范围外。
5.根据权利要求4所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：验证所述曝光补偿值时，以基础点为对位点，再次对位曝光，曝光图像为与基础点一一对应的验证检测点的阵列图形，验证检测点的轮廓小于所述基础点的轮廓，验证检测点位于基础点内部，检测点和标定点的边缘具有一定间隙；曝光时加入曝光补偿值，获得验证测试点，获取测试点的图像
6.根据权利要求2所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述曝光标定板通过掩膜曝光的方式获得，以标定板作为掩膜板，放置于涂覆有光刻胶的基板上方进行掩膜曝光，曝光后的基板即为曝光标定板，所述基础点为与标定板上标定点位置对应的曝光标定板的点。
7.根据权利要求6所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述检测点的边缘在所述基础点的范围内。
8.根据权利要求1所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述曝光补偿值包括全局错切补偿值、多路补偿值、场间拼接补偿值、外层对准平移补偿值。
9.根据权利要求8所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：全局磋切补偿值通过计算检测点X坐标与基础点X坐标偏差值的从上到下的差异程度获得。
10.根据权利要求8所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：多路补偿值通过检测点与对应的基础点Y方向的差异值计算，每个检测点与对应的基础点Y方向差异值作为被减数，该条带第一个检测点与基础点的Y方向差异值作为减数，获得的差值为多路补偿量。
11.根据权利要求8所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：场间拼接补偿值分为X方向场间拼接补偿值和Y方向场间拼接补偿值，计算X方向场间拼接补偿量时，从第2个条带开始计算，以每个条带各检测点补偿全局错切之后X方向坐标与基础点X方向坐标值的差异值的平均值为被减数，第一条带补偿全局错切之后X方向各检测点X方向坐标值与标定板X方向坐标值的差值的平均值为减数；计算Y方向场间拼接补偿值时，从第2个条带开始计算，以每个条带第一个检测点Y方向坐标与基础点差异值为被减数，第一条带第一个检测点Y方向坐标值与对应基础点的差异值为减数。
12.根据权利要求8所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：外层对准平移补偿值为第一条带第一个检测点XY坐标值与基础点XY坐标值的差异值。
...【技术特征摘要】
1.一种曝光图形网格精度的补偿方法，首先获得曝光标定板，所述曝光标定板包括呈行列排列的基础点；然后选取曝光标定板的基础点作为对位点，对曝光标定板进行对位曝光，获得检测点，所述检测点和基础点一一对应为一组测试点；获取测试点的图像，根据测试点的图像获取曝光补偿值。
2.根据权利要求1所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述标定板的标定点为遮光部，其余部分为透光部。
3.根据权利要求2所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述曝光标定板包括涂覆有光刻胶的基板和固定于基板上方的标定板，所述基础点为标定板的标定点。
4.根据权利要求3所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述检测点的边缘在所述基础点的范围外。
5.根据权利要求4所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：验证所述曝光补偿值时，以基础点为对位点，再次对位曝光，曝光图像为与基础点一一对应的验证检测点的阵列图形，验证检测点的轮廓小于所述基础点的轮廓，验证检测点位于基础点内部，检测点和标定点的边缘具有一定间隙；曝光时加入曝光补偿值，获得验证测试点，获取测试点的图像，验证曝光补偿值的准确性。
6.根据权利要求2所述的曝光图形网格精度补偿方法，其特征在于：所述曝光标定板通过掩膜曝光的方式获得，以标定板作为掩膜板，放置于涂覆有光刻胶的基板上方进行掩膜曝光，曝光后的基板即为曝光标定板，所述基础点为与标定板上标定点位置对应的曝光标定板的点。
7.根据权利要求6所述的曝光图形网格...
【专利技术属性】
技术研发人员：张易方，刘栋，胡传武，李文章，朱亮，张雷，
申请(专利权)人：源能智创江苏半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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