【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光机系统装调，尤其涉及一种库德光路逆向装调方法。
技术介绍
1、随着光电跟瞄系统的分辨率、作用距离等性能指标的不断提升，在光机系统内安装激光器、光学成像镜组、探测器等光学终端也更加复杂。受设备体积和重量限制，通常将光学终端安装在固定的基座内，然后利用库德光路来传导光束，控制光束传输路径，实现光轴指向的精确控制。
2、库德光路是一种全反射的导光光路，由多块安装在两轴转台内的平面反射镜组成。通过两轴转台带动反射镜旋转，可使光学终端发射出的光束经过库德光路内多块反射镜传输后，向指定方向发射。库德光路的装调精度是影响光电跟瞄系统光轴指向精度的决定性因素。
3、申请公布号为cn114415389a的中国专利公开了一种含有多个反射镜的光机系统装调方法，该专利通过两台经纬仪分别标定方位轴和俯仰轴，然后利用大口径平面反射镜平移基准以及经纬仪互瞄的方式将方位轴和俯仰轴基准传递到不同位置，最后通过不同位置的多台经纬仪互瞄的方式，完成各反射镜的装调。
技术实现思路
1、本专利技术为解决现有的装调方法需通过多次复杂的基准传递来实现不同位置的反射镜的装调，具有装调精度低、操作复杂等问题，提供一种库德光路逆向装调方法，利用单台经纬仪即可实现不同位置的反射镜的装调，具有装调精度高、操作简便和适用范围广等优点。
2、本专利技术提供的库德光路逆向装调方法，该装调方法中使用的工具包括两轴转台和经纬仪，两轴转台包括基座、方位框架和俯仰框架，俯仰框架和基座布置在方位框架的
3、s1、将出射光轴基准镜安装在俯仰框架的出射基准安装面上，将俯仰轴基准镜安装在俯仰框架上，且使俯仰轴穿过俯仰轴基准镜的镜面，并通过经纬仪和俯仰轴基准镜标定俯仰轴。
4、s2、保持经纬仪的位置不动，拆去俯仰轴基准镜，将第一反射镜安装在俯仰框架上，使俯仰轴穿过第一反射镜的中心，调整第一反射镜的倾斜角度，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
5、s3、将方位轴基准镜安装在方位框架上，且使方位轴穿过方位轴基准镜的镜面，通过方位轴基准镜和经纬仪标定方位轴。
6、s4、保持经纬仪的位置不动，拆去方位轴基准镜，将第三反射镜与第四反射镜固定在方位框架上，并将第二反射镜安装在方位框架上，调整第二反射镜的倾斜角度，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
7、s5、将光学终端安装到基座的入射基准安装面上，光学终端上安装有入射光轴基准镜，且光学终端与入射光轴基准镜同轴，将经纬仪对准入射光轴基准镜，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
8、s6、保持经纬仪的位置不动，拆去光学终端，将第五反射镜安装在基座上，第五反射镜位于方位轴上，调整第五反射镜的倾斜角度，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
9、s7、将光学终端重新安装在入射基准安装面上。
10、优选地，第一反射镜、第二反射镜、俯仰轴基准镜、方位轴基准镜和第五反射镜均通过角度调整工装对应安装在基座、方位框架和俯仰框架上。
11、优选地，出射光轴基准镜、第三反射镜、第四反射镜和光学终端均通过机械定位基准对应安装于基座、方位框架和俯仰框架上。
12、优选地，在步骤s1中，俯仰轴的标定方法为：将经纬仪对准俯仰轴基准镜放置，并使经纬仪的自准直像位于分划板的中心周边区域，通过调整角度调整工装改变俯仰轴基准镜的倾斜角度，并旋转俯仰框架，直至经纬仪的自准直像在俯仰框架的旋转过程中保持不动，调整经纬仪，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
13、优选地，在步骤s3中，方位轴的标定方法为：将经纬仪对准方位轴基准镜放置，并使经纬仪的自准直像位于分划板的中心周边区域，通过调整角度调整工装改变方位轴基准镜的倾斜角度，并旋转方位框架，直至经纬仪的自准直像在方位框架的旋转过程中保持不动，调整经纬仪，使经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
14、优选地，光学终端为激光发射系统、光学成像镜组或探测器。
15、与现有技术相比，本专利技术能够取得如下有益效果：
16、(1)本专利技术提出的库德光路逆向装调方法在装调过程中仅需要调整三块反射镜，并且在反射镜的装调过程中不需要对方位轴和俯仰轴进行动态调整，操作简便，装调效率高。
17、(2)本专利技术提出的库德光路逆向装调方法在装调过程中仅需要使用一台经纬仪依次标定俯仰轴、方位轴和光学终端的入射光轴，并且反射镜直接以经纬仪的自准直像为基准进行逆向依次装调，不需要进行基准传递，减少了误差来源，装调精度高。
18、(3)本专利技术所提出的装调方法在完成库德光路反射镜装调的同时可完成光机系统的出射光轴和光学终端的入射光轴的全系统光轴标定，并且经纬仪的自准直光路与光机系统实际的光束路径完全相同，保证了光机系统装调状态和实际使用工况一致，不存在额外的误差，提高了光机系统的装调精度。
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1.一种库德光路逆向装调方法，该装调方法中使用的工具包括两轴转台和经纬仪，所述两轴转台包括基座、方位框架和俯仰框架，所述俯仰框架和所述基座布置在所述方位框架的两侧，所述俯仰框架通过俯仰转轴安装在所述方位框架上，所述方位框架通过方位转轴安装在所述基座上，所述俯仰转轴与所述方位转轴垂直，其特征在于，所述库德光路逆向装调方法具体包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述俯仰轴基准镜、所述方位轴基准镜和所述第五反射镜均通过角度调整工装对应安装在所述基座、所述方位框架和所述俯仰框架上。
3.根据权利要求1所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，所述出射光轴基准镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜和所述光学终端均通过机械定位基准对应安装于所述基座、所述方位框架和所述俯仰框架上。
4.根据权利要求2所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述俯仰轴的标定方法为：将所述经纬仪对准所述俯仰轴基准镜放置，并使所述经纬仪的自准直像位于分划板的中心周边区域，通过调整所述角度调整工装改变
5.根据权利要求2所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，在所述步骤S3中，所述方位轴的标定方法为：将所述经纬仪对准所述方位轴基准镜放置，并使所述经纬仪的自准直像位于分划板的中心周边区域，通过调整所述角度调整工装改变所述方位轴基准镜的倾斜角度，并旋转所述方位框架，直至所述经纬仪的自准直像在所述方位框架的旋转过程中保持不动，调整所述经纬仪，使所述经纬仪的自准直像位于分划板的中心。
6.根据权利要求1所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，所述光学终端为激光发射系统、光学成像镜组或探测器。
...【技术特征摘要】
1.一种库德光路逆向装调方法，该装调方法中使用的工具包括两轴转台和经纬仪，所述两轴转台包括基座、方位框架和俯仰框架，所述俯仰框架和所述基座布置在所述方位框架的两侧，所述俯仰框架通过俯仰转轴安装在所述方位框架上，所述方位框架通过方位转轴安装在所述基座上，所述俯仰转轴与所述方位转轴垂直，其特征在于，所述库德光路逆向装调方法具体包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述俯仰轴基准镜、所述方位轴基准镜和所述第五反射镜均通过角度调整工装对应安装在所述基座、所述方位框架和所述俯仰框架上。
3.根据权利要求1所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，所述出射光轴基准镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜和所述光学终端均通过机械定位基准对应安装于所述基座、所述方位框架和所述俯仰框架上。
4.根据权利要求2所述的库德光路逆向装调方法，其特征在于，在...
【专利技术属性】
技术研发人员：李蕾，陈成，王德江，张美君，史文欣，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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