一种真空镀膜磁控溅射靶制造技术

本实用新型专利技术提供一种真空镀膜磁控溅射靶，涉及磁控溅射技术领域，本实用新型专利技术包括磁控溅射机，所述磁控溅射机的一侧设置有控制面板，所述磁控溅射机的表面设有调节装置，所述调节装置包括支架，所述支架的一端固定连接在磁控溅射机的表面，所述支架远离磁控溅射机的一端的内壁滑动连接有导向杆，所述导向杆远离支架的一端与控制面板固定连接，本实用新型专利技术通过调节装置移动控制面板，控制面板带着导向杆在支架的内壁中滑动，当将控制面板移动到合适的高度之后，移动

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜磁控溅射靶


[0001]本技术涉及磁控溅射
，尤其涉及一种真空镀膜磁控溅射靶
。

技术介绍

[0002]目前在工业镀膜生产中，磁控溅射技术已成为主要的技术之一，在真空环境下，圆柱形靶体内部的磁铁阵列产生磁场，通过不断地旋转，使靶材料得以均匀利用，在靶材上施加高电压，形成沿磁场集中的等离子体，利用高能离子冲击材料靶，从其表面溅射出离子经加速飞向基材，逐渐沉积形成薄膜
。
[0003]现有技术中在对磁控溅射机进行操作时，需要对磁控溅射机的控制面板进行操作，但是控制面板的高度是固定设置的，无法根据不同身高的工作人员进行调整，从而导致工作人员对控制面板上的参数进行调节或观看时，需要仰视或俯视，控制面板上的参数看不清，磁控溅射机的操作出现错误的情况
。
[0004]为了解决上述问题，现有技术是身高矮的工作人员站在垫块上，而身高较高的工作人员弯着腰，尽可能保持与控制面板处于水平状态的方式进行处理，给工作人员带来不便，本技术采用另一种方式进行处理
。

技术实现思路

[0005]本技术是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种真空镀膜磁控溅射靶
。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种真空镀膜磁控溅射靶，包括磁控溅射机，所述磁控溅射机的一侧设置有控制面板，所述磁控溅射机的表面设有调节装置，所述调节装置包括支架，所述支架的一端固定连接在磁控溅射机的表面，所述支架远离磁控溅射机的一端的内壁滑动连接有导向杆，所述导向杆远离支架的一端与控制面板固定连接，所述支架的后侧固定连接有
L
型板，所述
L
型板的表面滑插设置有插杆，所述导向杆对应插杆处均匀开设有若干个圆孔，若干个所述圆孔呈线性分布，所述圆孔的尺寸与插杆的尺寸相适配
。
[0007]上述部件所达到的效果为：通过调节装置移动控制面板，控制面板带着导向杆在支架的内壁中滑动，当将控制面板移动到合适的高度之后，移动
L
型板上的插杆，插杆穿过
L
型板插入导向杆的圆孔中，达到了对导向杆和控制面板进行固定的效果，方便不同身高的工作人员对控制面板进行操作，给工作人员带来便利
。
[0008]优选的，所述插杆靠近圆孔的一端固定连接有尖凸，所述尖凸的尖端远离插杆
。
[0009]上述部件所达到的效果为：通过设置尖凸达到了方便工作人员将插杆插入圆孔中的效果，给工作人员带来便利
。
[0010]优选的，所述插杆远离圆孔的一端固定连接有拉杆，所述拉杆的底部套有防滑套
。
[0011]上述部件所达到的效果为：通过设置拉杆达到了方便工作人员对插杆进行移动的效果，尽可能避免插杆过高，工作人员触碰不到的情况发生
。
[0012]优选的，所述控制面板对应拉杆处固定连接有连接柱，所述连接柱远离控制面板的一端固定连接有弹性绳，所述弹性绳的两端均与连接柱固定连接
。
[0013]上述部件所达到的效果为：通过连接柱上的弹性绳将拉杆绑住，达到了对拉杆进行限位的效果，尽可能避免拉杆带着插杆从圆孔中移出
。
[0014]优选的，所述控制面板的表面设有清理装置，所述清理装置包括两个滑轨，两个所述滑轨呈中心对称，两个所述滑轨均固定连接在控制面板的表面，所述滑轨的内壁滑动连接有滑块，两个所述滑块的一端固定连接有同一个固定板，所述固定板靠近控制面板的一端固定连接有两个支板，两个所述支板呈中心对称，两个所述支板彼此靠近的一侧转动连接有同一个滚筒，所述滚筒与控制面板的屏幕相贴合
。
[0015]上述部件所达到的效果为：通过清理装置在控制面板的屏幕有油渍影响工作人员进行操作时，移动固定板，固定板带着滑块在滑轨中滑动，固定板带着支板上的滚筒进行移动，滚筒对控制面板的屏幕进行清理，尽可能避免工作人员手上的油渍沾在控制面板上，从而影响工作人员对控制面板进行操作的情况发生
。
[0016]优选的，所述滑块的截面呈梯形，所述滑轨的内壁尺寸与滑块的尺寸相适配
。
[0017]上述部件所达到的效果为：通过设置梯形的滑块在滑轨中移动，达到了对固定板移动方向进行限制的效果
。
[0018]优选的，所述控制面板的表面固定连接有两个挡板，两个所述挡板分别靠近控制面板的两端
。
[0019]上述部件所达到的效果为：通过设置挡板达到了对固定板最大位移进行限制的效果，尽可能避免固定板从控制面板上脱落
。
[0020]优选的，所述固定板的表面固定连接有拉板，所述拉板的表面设有防滑纹
。
[0021]上述部件所达到的效果为：通过设置拉板达到了方便工作人员对固定板进行移动的效果，给工作人员带来便利
。
[0022]与现有技术相比，本技术的优点和积极效果在于：
[0023]本技术中，通过调节装置移动控制面板，控制面板带着导向杆在支架的内壁中滑动，当将控制面板移动到合适的高度之后，移动
L
型板上的插杆，插杆穿过
L
型板插入导向杆的圆孔中，达到了对导向杆和控制面板进行固定的效果，方便不同身高的工作人员对控制面板进行操作，给工作人员带来便利
。
附图说明
[0024]图1为本技术的立体结构示意图
。
[0025]图2为本技术调节装置的立体结构示意图
。
[0026]图3为本技术图2的
A
处放大图
。
[0027]图4为本技术清理装置的立体结构示意图
。
[0028]图5为本技术图4的
B
处放大图
。
[0029]图例说明：
1、
磁控溅射机；
2、
控制面板；
3、
调节装置；
31、
支架；
32、
导向杆；
33、L
型板；
34、
插杆；
35、
圆孔；
36、
尖凸；
37、
拉杆；
38、
连接柱；
39、
弹性绳；
4、
清理装置；
41、
滑轨；
42、
滑块；
43、
固定板；
44、
支板；
45、
滚筒；
46、
拉板；
47、
挡板
。
具体实施方式
[0030]实施例1，如图1‑5所示，一种真空镀膜磁控溅射靶，包括磁控溅射机1，磁控溅射机1的一侧设置有控制面板2，磁控溅射机1的表面设有调节装置3，控制面板2的表面设有清理装置
4。
[0031]参照图1‑5，调节装置3包括支架本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种真空镀膜磁控溅射靶，包括磁控溅射机
(1)
，其特征在于：所述磁控溅射机
(1)
的一侧设置有控制面板
(2)
，所述磁控溅射机
(1)
的表面设有调节装置
(3)
，所述调节装置
(3)
包括支架
(31)
，所述支架
(31)
的一端固定连接在磁控溅射机
(1)
的表面，所述支架
(31)
远离磁控溅射机
(1)
的一端的内壁滑动连接有导向杆
(32)
，所述导向杆
(32)
远离支架
(31)
的一端与控制面板
(2)
固定连接，所述支架
(31)
的后侧固定连接有
L
型板
(33)
，所述
L
型板
(33)
的表面滑插设置有插杆
(34)
，所述导向杆
(32)
对应插杆
(34)
处均匀开设有若干个圆孔
(35)
，若干个所述圆孔
(35)
呈线性分布，所述圆孔
(35)
的尺寸与插杆
(34)
的尺寸相适配
。2.
根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射靶，其特征在于：所述插杆
(34)
靠近圆孔
(35)
的一端固定连接有尖凸
(36)
，所述尖凸
(36)
的尖端远离插杆
(34)。3.
根据权利要求1所述的一种真空镀膜磁控溅射靶，其特征在于：所述插杆
(34)
远离圆孔
(35)
的一端固定连接有拉杆
(37)
，所述拉杆
(37)
的底部套有防滑套
。4.
根据权利要求3所述的一种真空镀膜磁控溅射靶，其特征在于：所述控制面板
(2)
对应拉杆
(37)
处固定连接有连接柱
(38)...

【专利技术属性】
技术研发人员：王正先，
申请(专利权)人：烟台先浩真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：