曝光方法技术

本公开提供一种曝光方法

【技术实现步骤摘要】
曝光方法、曝光机及OLED精细金属遮罩的制造方法


[0001]本公开涉及
OLED
制造的
，具体而言，涉及一种曝光方法
、
曝光机及
OLED
精细金属遮罩的制造方法
。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode)
即有机发光二极管，其通常包括基板上能够产生红色
(R)
，绿色
(G)
和蓝色
(B)
的有机发光层，上述有机层通常是通过蒸镀的方式进行沉积，在目前
OLED
量产线的蒸镀设备中，采用
FMM(Fine Metal Mask)
即精细金属遮罩，来实现
RGB
像素发光层的分别沉积
。
[0003]随着技术
、
市场需求的不断发展，
OLED
的产线世代
(
通常意味着更大的玻璃基板
)
也在不断地迭代，目前以某公司开发的
G8.6
代线为代表
。
在这种背景下，适用于大世代产线的
FMM
也有了需求，从现有技术来讲，制作大世代的
FMM
需要同样大世代的曝光机，但是
G8.5/8.6
等大世代曝光机的价格是
G6
代线曝光机的5至6倍，价格成本相对较高
。
[0004]鉴于上述，如何在不依赖大世代曝光机的前提下，能够生产大世代的
FMM
，在现有技术中缺少有效的方案
。

技术实现思路

[0005]为解决或改善现有技术存在的上述问题，本公开实施例第一方面提供一种曝光方法，这种方法包括：
[0006]驱动基材执行第一运动，第一运动用于使基材逐段进入曝光场；
[0007]驱动光罩执行第二运动，光罩包括具有掩膜的多个区块，第二运动用于使多个区块逐一进入曝光场；
[0008]曝光，对曝光场内的基材曝光，并形成与曝光场内的区块对应的曝光区；
[0009]其中，交替执行曝光和第一运动
/
第二运动，以使光罩的多个区块分别在基材的各段上形成能够拼合的曝光区
。
[0010]上述方法，将
FMM
分成多个部分
。
配合地，使基材逐段进入曝光场，并且使光罩运动，将上述多个区块轮流地曝光于基材表面，拼接形成整体尺寸超过光罩及光源
、
产线限制的大世代
FMM
曝光区，实现了通过小世代曝光机曝光大世代
FMM
的效果
。
[0011]其中，基材为
invar
卷材；曝光方法用于制备适用于
OLED
制造的精细金属遮罩
。
[0012]可选的，光罩的多个区块包括
:
[0013]第一张网区块和第二张网区块，分别用于形成精细金属遮罩两端的张网使用区；
[0014]至少一个蒸镀区块，用于形成精细金属遮罩的蒸镀有效区
。
[0015]可选的，多个区块均设置有拼接对位标记；
[0016]在第一运动和第二运动的过程中，利用拼接对位标记对齐基材的各段上的曝光区
。
[0017]可选的，包括至少一个曝光周期；
[0018]在曝光周期中包括如下步骤：
[0019]S1
驱动基材执行第一运动，使基材的第一段进入曝光场；驱动光罩执行第二运动，使第一张网区块进入曝光场；
[0020]S2
通过光源对第一段曝光，在第一段上形成第一张网曝光区；
[0021]S3
驱动基材执行第一运动，使基材的第二段进入曝光场；驱动光罩执行第二运动，使蒸镀区块进入曝光场；
[0022]S4
通过光源对第二段曝光，在第二段上形成蒸镀曝光区；
[0023]S5
驱动基材执行第一运动，使基材的第三段进入曝光场；驱动光罩执行第二运动，使第二张网区块进入曝光场；
[0024]S6
通过光源对第三段曝光，在第三段上形成第二张网曝光区
。
[0025]可选的，第一运动包括沿第一方向的步进式运动；第二运动包括沿第二方向的步进式运动；第一方向与第二方向垂直
。
[0026]可选的，第二运动还包括：沿第二方向的相反方向的复位运动
。
[0027]可选的，第一运动和第二运动至少部分同时地进行，或者第一运动先于第二运动进行，或者第二运动先于第一运动进行
。
[0028]可选的，蒸镀区块为多个；
[0029]在曝光周期中，重复执行步骤
S3
和
S4
，直至全部的蒸镀区块均作用于基材的曝光，以在基材上形成多个拼接的蒸镀曝光区
。
[0030]本公开实施例第二方面提供一种
OLED
精细金属遮罩的制造方法，这种方法包括如前述第一方面及其任一项可选方案中所记载的曝光方法
。
[0031]以及与前述曝光方法相对应的，本公开实施例第三方面提供一种曝光机，用于如前述第一方面及其任一项可选方案中所记载的曝光方法
。
[0032]综上所述，本公开实施例提供的曝光方法
、FMM
制造方法以及对应的设备，能够在不依赖高成本的大世代曝光机的前提下，曝光以及制作大世代的
FMM。
[0033]更具体的，能够有效地利用现有产线，低成本
、
高效率地为后续步骤中生产大世代
OLED
打下基础
。
附图说明
[0034]为了更清楚地说明本公开实施例或
技术介绍
中的技术方案，下面将对本公开实施例或
技术介绍
中所需要使用的附图进行说明
。
[0035]图1是本公开实施例中曝光方法所需形成的
FMM
曝光区示意图，其中的虚线框表示用于实现上述曝光方法而对曝光区进行的分割；
[0036]图2示例性地示出了一种现有技术中的小世代
FMM
的曝光方法；
[0037]图3是本公开实施例中曝光方法所采用的光罩分区块及其上配置的掩膜版示意图；
[0038]图4是本公开实施例中曝光方法第一次曝光的示意图；
[0039]图5是本公开实施例中曝光方法第二次曝光的示意图；
[0040]图6是本公开实施例中曝光方法第三次曝光的示意图；
[0041]图7示例性地提供了本公开曝光方法中一个曝光周期内的具体步骤
。
[0042]图中标注：
[0043]100.FMM
曝光区；
[0044]110.
蒸镀曝光区
,121.
第二张网曝光区
,122....

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种曝光方法，其特征在于，包括：驱动基材执行第一运动，所述第一运动用于使所述基材逐段进入曝光场；驱动光罩执行第二运动，所述光罩包括具有掩膜的多个区块，所述第二运动用于使所述多个区块逐一进入所述曝光场；曝光，对所述曝光场内的基材曝光，并形成与所述曝光场内的所述区块对应的曝光区；其中，交替执行所述曝光和所述第一运动
/
第二运动，以使所述光罩的多个区块分别在所述基材的各段上形成能够拼合的曝光区
。2.
根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述基材为
invar
卷材；所述曝光方法用于制备适用于
OLED
制造的精细金属遮罩
。3.
根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，所述光罩的多个区块包括
:
第一张网区块和第二张网区块，分别用于形成所述精细金属遮罩两端的张网使用区；至少一个蒸镀区块，用于形成所述精细金属遮罩的蒸镀有效区
。4.
根据权利要求1或3所述的曝光方法，其特征在于，所述多个区块均设置有拼接对位标记；在所述第一运动和第二运动的过程中，利用所述拼接对位标记对齐所述基材的各段上的曝光区
。5.
根据权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，包括至少一个曝光周期；在所述曝光周期中包括如下步骤：
S1
驱动基材执行第一运动，使所述基材的第一段进入曝光场；驱动光罩执行第二运动，使所述第一张网区块进入曝光场；
S2
通过光源对所述第一段曝光，在所述第一段上形成第一张网曝光区；
S3
驱动基材...

【专利技术属性】
技术研发人员：王广成，甘帅燕，
申请(专利权)人：江苏高光半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：