一种用于氧化镓衬底的清洗装置制造方法及图纸

技术编号:39851152 阅读:9 留言:0更新日期:2023-12-30 12:52
本实用新型专利技术涉及氧化镓衬底加工技术领域,公开了一种用于氧化镓衬底的清洗装置,所述栅格板的网板中部安装有旋转电机,所述旋转电机的输出端安装有旋转盘,且旋转盘的板面中部安装有夹具机构,所述清洗箱的箱体内部沿旋转盘的圆台周向排布设置有多组清洗喷管。本实用新型专利技术通过利用夹具机构中第一夹座、第二夹座上的呈V形结构的夹面,能够以边框夹固的方式,对氧化镓衬底边框进行夹固,其一方面具有良好的对夹稳固性能,另一方面并不会对氧化镓衬底板面进行遮盖,确保氧化镓衬底清洗的全面性,且通过利用旋转电机、旋转盘的组合,能够驱动氧化镓衬底水平旋转,使清洗喷管对氧化镓衬底进行更为全面的清洗工作。更为全面的清洗工作。更为全面的清洗工作。

【技术实现步骤摘要】
一种用于氧化镓衬底的清洗装置


[0001]本技术涉及氧化镓衬底加工
,特别涉及一种用于氧化镓衬底的清洗装置。

技术介绍

[0002]氧化镓衬底是一种常见的半导体材料,具有许多独特的特点,其应用领域非常广泛,被广泛应用于制造LED、激光器、太阳能电池、光电探测器等高性能半导体器件;此外,氧化镓衬底还被广泛应用于制造高频电子器件、微波器件等,氧化镓衬底作为半导体材料的一种,其在生产加工过程中,需对其进行清洗工序,以去除其表面粘附的油类分子、粉尘等,例如现有专利技术所示:经检索,中国专利网公开了一种半导体衬底清洗装置(公开公告号CN213529815U),此类装置通过滑槽移动夹具便于衬底的拆卸和安装,继而利用雾化喷头的喷洒清洁,使得衬底清洗彻底且避免损坏。
[0003]但是,针对上述公开专利以及现有市场所采取的衬底清洗装置,还存在一些不足之处:此类利用夹具对半导体衬底进行夹固,而后利用雾化喷头进行喷洒清洁的方式,其夹具在夹固过程中,需对部分半导体衬底进行对夹,方可将半导体衬底牢固的夹固,然而部分半导体衬底在夹具的夹固下,无法进行有效的清洗工作,导致衬底的清洗较为不全面,清洗质量低下。为此,本领域技术人员提供了一种用于氧化镓衬底的清洗装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种用于氧化镓衬底的清洗装置,可以有效解决
技术介绍
中现有氧化镓衬底在清洗时,清洗不全面的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术采取的技术方案为:一种用于氧化镓衬底的清洗装置,包括清洗箱,所述清洗箱的箱体前后侧均安装有启闭门,且清洗箱的箱底端安装有栅格板,所述栅格板的网板中部安装有旋转电机,所述旋转电机的输出端安装有旋转盘,且旋转盘的板面中部安装有夹具机构,所述清洗箱的箱体内部沿旋转盘的圆台周向排布设置有多组清洗喷管,所述清洗箱的箱体底部安装有废液箱。
[0006]作为本技术再进一步的方案:所述夹具机构包括安装在旋转盘板面中部的对夹轨道,所述对夹轨道的导轨内部转动连接有对夹丝杆,且对夹轨道的导轨中部固定安装有定支撑台,所述定支撑台的台架上方安装有第一夹座,所述对夹丝杆的轴杆端对称套设有两组动滑台,两组所述动滑台的台架上方呈对称形式安装有两组第二夹座。
[0007]作为本技术再进一步的方案:所述对夹丝杆的一端输出端设置有手柄,且对夹丝杆以中线为界,中线的两侧分别设置有相互对称排列的正、反丝牙,所述对夹丝杆通过正、反丝牙与两组动滑台对称套接。
[0008]作为本技术再进一步的方案:所述第一夹座与第二夹座的夹面端均为V形结构。
[0009]作为本技术再进一步的方案:多组所述清洗喷管相对于旋转盘的圆心呈环形对称排列,且多组清洗喷管的管道端均开设有指向旋转盘的多组清洗喷头。
[0010]作为本技术再进一步的方案:所述废液箱包括安装在清洗箱箱体底部的回流箱体,所述回流箱体的箱体上半部从上至下依次插合有第一抽拉框、第二抽拉框,所述第一抽拉框的框架内部安装有第一滤板,所述第二抽拉框的框架内部安装有第二滤板,所述回流箱体的箱底端连通有泄流阀。
[0011]作为本技术再进一步的方案:所述回流箱体的箱体内壁从上至下依次设置有与第一抽拉框和第二抽拉框相适配的第一导向卡块、第二导向卡块。
[0012]与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:
[0013]1.本技术通过利用夹具机构中第一夹座、第二夹座上的呈V形结构的夹面,能够以边框夹固的方式,对氧化镓衬底边框进行夹固,其一方面具有良好的对夹稳固性能,能够确保氧化镓衬底清洗过程中的稳定性,另一方面并不会对氧化镓衬底板面进行遮盖,确保氧化镓衬底清洗的全面性,且在对其进行清洗的同时,通过利用旋转电机、旋转盘的组合,能够驱动氧化镓衬底水平旋转,使清洗喷管对氧化镓衬底进行更为全面的清洗工作。
[0014]2.本技术在利用清洗装置对氧化镓衬底进行清洗过程中,通过利用废液箱对清洗废液的过滤、回流,能够对废液中的清洗杂质进行过滤隔离,便于工作人员直接处理,降低后续处理强度。
附图说明
[0015]图1为本技术一种用于氧化镓衬底的清洗装置的结构示意图;
[0016]图2为本技术一种用于氧化镓衬底的清洗装置内部的结构示意图;
[0017]图3为本技术一种用于氧化镓衬底的清洗装置中夹具机构的结构示意图;
[0018]图4为本技术一种用于氧化镓衬底的清洗装置中废液箱的结构示意图。
[0019]图中:1、清洗箱;2、废液箱;21、回流箱体;22、第一抽拉框;23、第二抽拉框;24、第一滤板;25、第二滤板;26、泄流阀;3、启闭门;4、清洗喷管;5、清洗喷头;6、栅格板;7、旋转盘;8、旋转电机;9、夹具机构;91、对夹轨道;92、手柄;93、对夹丝杆;94、定支撑台;95、第一夹座;96、动滑台;97、第二夹座。
具体实施方式
[0020]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本技术。
[0021]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0022]在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒
介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0023]请参照图1

4所示,一种用于氧化镓衬底的清洗装置,包括清洗箱1,清洗箱1的箱体前后侧均安装有启闭门3,且清洗箱1的箱底端安装有栅格板6,栅格板6的网板中部安装有旋转电机8,旋转电机8的输出端安装有旋转盘7,且旋转盘7的板面中部安装有夹具机构9,夹具机构9包括安装在旋转盘7板面中部的对夹轨道91,对夹轨道91的导轨内部转动连接有对夹丝杆93,且对夹轨道91的导轨中部固定安装有定支撑台94,定支撑台94的台架上方安装有第一夹座95,对夹丝杆93的轴杆端对称套设有两组动滑台96,两组动滑台96的台架上方呈对称形式安装有两组第二夹座97,对夹丝杆93的一端输出端设置有手柄92,且对夹丝杆93以中线为界,中线的两侧分别设置有相互对称排列的正、反丝牙,对夹丝杆93通过正、反丝牙与两组动滑台96对称套接,第一夹座95与第二夹座9本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于氧化镓衬底的清洗装置,包括清洗箱(1),其特征在于,所述清洗箱(1)的箱体前后侧均安装有启闭门(3),且清洗箱(1)的箱底端安装有栅格板(6),所述栅格板(6)的网板中部安装有旋转电机(8),所述旋转电机(8)的输出端安装有旋转盘(7),且旋转盘(7)的板面中部安装有夹具机构(9),所述清洗箱(1)的箱体内部沿旋转盘(7)的圆台周向排布设置有多组清洗喷管(4),所述清洗箱(1)的箱体底部安装有废液箱(2)。2.根据权利要求1所述的一种用于氧化镓衬底的清洗装置,其特征在于,所述夹具机构(9)包括安装在旋转盘(7)板面中部的对夹轨道(91),所述对夹轨道(91)的导轨内部转动连接有对夹丝杆(93),且对夹轨道(91)的导轨中部固定安装有定支撑台(94),所述定支撑台(94)的台架上方安装有第一夹座(95),所述对夹丝杆(93)的轴杆端对称套设有两组动滑台(96),两组所述动滑台(96)的台架上方呈对称形式安装有两组第二夹座(97)。3.根据权利要求2所述的一种用于氧化镓衬底的清洗装置,其特征在于,所述对夹丝杆(93)的一端输出端设置有手柄(92),且对夹丝杆(93)以中线为界,中线的两侧分...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑东王鑫张兴姿
申请(专利权)人:青岛芯康半导体科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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