溅射靶和铯钨氧化物膜的成膜方法技术

本发明专利技术提供溅射靶，将表示通过溅射法成膜的铯钨氧化物膜的

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溅射靶和铯钨氧化物膜的成膜方法


[0001]本专利技术涉及在通过溅射法将在可视波长区域具有高透过性
、
在近红外波长区域具有吸收性且具有电波透过性的铯钨氧化物膜进行成膜时使用的溅射靶以及铯钨氧化物膜的成膜方法，特别是涉及表示铯钨氧化物膜的钨
(W)
与铯
(Cs)
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
(n
W
为铯钨氧化物膜的
W
的原子数，
n
Cs
为铯钨氧化物膜的
Cs
的原子数
)
设定为所期望范围的溅射靶以及铯钨氧化物膜的成膜方法
。

技术介绍

[0002]近年来，为了降低夏季在室内和车等移动机构中的空调的能量消耗量，正在开发吸收外部光的窗的热线遮蔽技术
。
作为该技术手段，存在将具有热线遮蔽效果的着色膜或形成有光学薄膜的膜
(
遮光部件
)
粘贴于窗的方法
、
将具有热线遮蔽效果的物质涂布于窗的方法
、
采用通过蒸镀或溅射等形成具有热线遮蔽效果的光学薄膜的窗的方法等，采用通过蒸镀或溅射等形成具有热线遮蔽效果的光学薄膜的窗的方法不能对已有的窗实施光学薄膜但能够形成耐久性高的光学薄膜
。
[0003]例如，在专利文献1中，作为窗材料等的上述遮光部件，记载了通过蒸镀法形成有铝等金属膜的具有镜面状态的膜
(
遮光部件/>)。
但是，在使用这些遮光部件的情况下，由于外观为半反射镜状，因此，在室外使用时存在反射耀眼的外貌问题
。
另外，由于铝等金属膜具有高导电性，因此，其会反射电波，存在便携式电话
、
智能手机
、GPS(Global Positioning System
，全球定位系统
)
使用设备等利用电波的设备难以连接的问题
。
[0004]另外，作为涂布具有热线遮蔽效果的物质的上述方法，本申请人提出了专利文献2所记载的红外线遮蔽微粒分散体，其具有由通式
MxWyOz(M
是从碱金属等中选择的1种以上的元素，
W
为钨，
O
为氧，
0.001≤x/y≤1
，
2.2≤z/y≤3.0)
表示的复合钨氧化物微粒
。
复合钨氧化物微粒高效吸收太阳光线
、
尤其是近红外线区域的光，而且对可见光具有高透明性
。
而且，上述红外线遮蔽微粒分散体是使复合钨氧化物微粒分散在适宜溶剂中形成分散液并在得到的分散液中添加介质树脂后涂布于基材表面而形成薄膜的物质，兼具热线遮蔽性与电波透过性
。
但是，对于专利文献2中记载的方法，由于通过涂布
(coating)
法来形成薄膜，因此存在为了确保膜厚的控制
、
大面积的膜厚的均匀性
、
平坦性而需要高度涂布技术的问题
。
[0005]另外，作为上述基于溅射等的方法，专利文献3公开了车辆用窗玻璃及其制造方法，提出了使用能对车辆用窗玻璃的大面积基板进行处理的大型在线方式的溅射装置，例如将第一金属氧化物膜
(ITO)/
第一
Ag
膜
/
第二金属氧化物膜
(ITO)/
第二
Ag
膜
/
第三金属氧化物膜
(ITO)
依次成膜而成的车辆用窗玻璃，专利文献4提出了来自于溅射成膜的复合钨氧化物膜
(
由上述通式
MxWyOz
表示的复合钨氧化物膜
)。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开平5‑
113085
号公报
。
[0009]专利文献2：日本特许第
4096205
号公报
。
[0010]专利文献3：日本特开
2002
‑
020142
号公报
。
[0011]专利文献4：日本特许第
6540859
号公报
。

技术实现思路

[0012]专利技术要解决的课题
[0013]当通过专利文献4所记载的溅射法来将作为由通式
MxWyOz
表示的复合钨氧化物的1种的铯钨氧化物膜
(
通式
MxWyOz
的
M
为碱金属铯而构成的铯钨氧化物膜
)
进行成膜时，构成溅射靶的铯钨氧化物的化学组成与成膜的铯钨氧化物膜的化学组成有时变得不一致
。
[0014]具体而言，表示成膜的铯钨氧化物膜的钨
(W)
与铯
(Cs)
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
(n
W
为铯钨氧化物膜的
W
的原子数，
n
Cs
为
Cs
的原子数
)
和表示构成溅射靶的铯钨氧化物的
W
与
Cs
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
变得不一致，铯钨氧化物膜的
n
Cs
/n
W
偏离所期望的范围
(0.3
以上且
0.36
以下
)
，其结果是，存在作为铯钨氧化物膜特性的可视波长区域的高透过性与近红外波长区域的吸收性下降的问题
。
[0015]本专利技术是着眼于这样的问题而完成的，其课题在于，提供一种表示铯钨氧化物膜的
W
与
Cs
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
设定在能够发挥出可视波长区域的高透过性及近红外波长区域的吸收性的所期望范围
(0.3
以上且
0.36
以下
)
的溅射靶，并且提供一种在可视波长区域具有高透过性
、
在近红外波长区域具有吸收性且还具有电波透过性的铯钨氧化物膜的成膜方法
。
[0016]用于解决课题的手段
[0017]因此，为了解决上述课题，本专利技术人进行了潜心研究，判明了关于表示通过溅射法而成膜于被成膜体的铯钨氧化物膜的
W
与
Cs
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
，除了与表示作为成膜材料的溅射靶的
W
与
Cs
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种溅射靶，其是在通过溅射法将铯钨氧化物膜成膜于被成膜体时使用的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶含有铯
Cs
与钨
W
，在将溅射成膜时的溅射靶与被成膜体间的距离设为
[T
‑
S
距离
]、
将环境的压力设为
P、
并且将溅射靶所含的
W
的原子数设为
n
W
、Cs
的原子数设为
n
Cs
时，表示溅射靶的
W
与
Cs
的原子数之比的
n
Cs
/n
W
(T)
相对于所述
[T
‑
S
距离
]
与
P
满足下述式1，
0.09/{(
‑
000161
×
[T
‑
S
距离
]+0.00559)
×
P+0.346}≤n
Cs
/n
W
(T)≤0.13/{(
‑
000161
×
[T
‑
S
...

【专利技术属性】
技术研发人员：大上秀晴，
申请(专利权)人：住友金属矿山株式会社，
类型：发明
国别省市：