【技术实现步骤摘要】
一种用于碳化硅晶圆的激光退火装置和系统
[0001]本申请涉及激光退火领域，具体而言，涉及一种用于碳化硅晶圆的激光退火装置和系统
。
技术介绍
[0002]现有技术的激光退火过程中，一般将激光源固定设置在工艺台上方，在激光源对工艺台上的碳化硅晶圆进行加热时，控制驱动机构驱动工艺台水平位移以使激光源在碳化硅晶圆上进行连续
s
型扫描，并使得碳化硅晶圆上的多条直线扫描路径相互平行，以实现对碳化硅晶圆的遍历扫描
。
[0003]但是，这种扫描方式会使工艺台频繁位移使得工艺台产生振动，继而可能导致激光退火的位置产生偏差
。
[0004]因此，现有技术有待改进和发展
。
技术实现思路
[0005]本申请的目的在于提供一种用于碳化硅晶圆的激光退火装置和系统，旨在解决工艺台频繁位移使得工艺台振动继而导致激光退火的位置产生偏差的问题
。
[0006]第一方面，本申请提供了一种用于碳化硅晶圆的激光退火装置，包括：工艺台；激光源，安装在工艺台上方；第一驱动机构，用于驱动工艺台水平位移；第二驱动机构，用于驱动激光源摆动，激光源的摆动轴与工艺台的位移方向平行
。
[0007]本申请提供的用于碳化硅晶圆的激光退火装置，控制第一驱动机构驱动工艺台沿
x
轴方向移动以使激光源在碳化硅晶圆表面沿
x
轴方向扫描，并控制第二驱动机构驱动激光源摆动以使激光源在碳化硅晶圆表面沿
y
轴方向扫描，相...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统，其特征在于，包括：工艺台（
100
）；激光源（
200
），安装在所述工艺台（
100
）上方；第一驱动机构（
110
），用于驱动所述工艺台（
100
）水平位移；第二驱动机构（
120
），用于驱动所述激光源（
200
）摆动，所述激光源（
200
）的摆动轴与所述工艺台（
100
）的位移方向平行；控制器
,
用于在所述激光源（
200
）产生退火光束以对所述碳化硅晶圆进行加热时，控制所述第一驱动机构（
110
）驱动所述工艺台（
100
）水平位移，并控制所述第二驱动机构（
120
）驱动所述激光源（
200
）摆动，以对该碳化硅晶圆进行激光退火处理
。2.
根据权利要求1所述的一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统，其特征在于，所述控制所述第一驱动机构（
110
）驱动所述工艺台（
100
）水平位移，并控制所述第二驱动机构（
120
）驱动所述激光源（
200
）摆动的过程包括：控制所述第一驱动机构（
110
）驱动所述工艺台（
100
）水平位移，并控制所述第二驱动机构（
120
）驱动所述激光源（
200
）摆动，以使所述激光源（
200
）在所述碳化硅晶圆上进行连续
s
型扫描，所述连续
s
型扫描的路径包括多条平行路径和连接相邻平行路径的过渡路径
。3.
根据权利要求2所述的一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统，其特征在于，所述控制所述第一驱动机构（
110
）驱动所述工艺台（
100
）水平位移，并控制所述第二驱动机构（
120
）驱动所述激光源（
200
）摆动的过程还包括
:
根据扫描速度控制所述激光源（
200
）的摆动速度，以使所述退火光束在所述平行路径上匀速位移
。4.
根据权利要求2所述的一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统，其特征在于，所述控制所述第一驱动机构（
110
）驱动所述工艺台（
100
）水平位移，并控制所述第二驱动机构（
120
）驱动所述激光源（
200
）摆动的过程还包括
:
根据所述过渡路径的类型以及所述工艺台（
100
...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴科峰，程远贵，吴国发，
申请(专利权)人：季华恒一佛山半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。