湿制程处理设备制造技术

本发明专利技术提供了一种湿制程处理设备

【技术实现步骤摘要】
湿制程处理设备、电池片的刻蚀方法及电池片的抛光方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，具体而言，涉及一种湿制程处理设备
、
电池片的刻蚀方法及电池片的抛光方法
。

技术介绍

[0002]现有技术对电池片进行刻蚀或抛光的过程中，通常采用通过一根圆管，然后在圆管上设置直径约为
1mm
左右的孔，圆管的一端与气源
(
氮气
)
连接，通过在池内鼓入气泡
(
例如，气泡的直径为
3mm
至
5mm)
，将刻蚀或抛光溶液与电池片反应产生的气泡加速排出，从而加大刻蚀或抛光深度，使得电池片表面有更大
、
更深的绒面或更光亮的抛光面
。
[0003]然而，上述方法中使用的气泡在溶液中存在上升速度太快，且气泡大小远大于反应产生的气泡，从而被鼓入的气泡中只有少量的气泡能够用于排出反应产生的气泡，较少的气泡限制了对电池片表面气泡的排除效果，且在反应时间较长的情况下，甚至还会导致电池片出现气泡缺陷的问题，从而影响电池片效率
。
[0004]另外，由于在刻蚀或抛光过程中，被鼓入的气泡中只有少量的气泡能够用于排出反应产生的气泡，从而导致电池片的表面基本上均被溶液包裹，从而电池片表面的凹凸刻蚀或抛光效果不明显，会导致部分区域未抛光干净的情况，或导致绒面金字塔结构比较粗大，未形成纳米结构的凸起
(
荷叶效应
)
，从而造成电池片低效
。
为了避免上述情况出现，采用加长刻蚀或抛光的时间的措施，但是加长刻蚀或抛光的时间又会导致电池片的减重减薄量较大，电池片的力学性能会被减弱，使得电池片容易出现隐裂缺陷
。
[0005]因此
,
亟需一种能解决气泡在溶液中上升速度太快，且气泡太大的反应装置
。

技术实现思路

[0006]本专利技术的主要目的在于提供一种湿制程处理设备
、
电池片的刻蚀方法及电池片的抛光方法，以解决现有技术中气泡在溶液中上升速度太快，且气泡太大的问题
。
[0007]为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种湿制程处理设备，包括：至少一个微气泡发生器，具有液体注入口和气体注入口，所述液体注入口用于注入液体至所述微气泡发生器，所述气体注入口用于注入气体至所述微气泡发生器，所述微气泡发生器用于根据所述液体和所述气体产生微气泡；至少一个静置容器，具有第一注入口和第一排出口，所述第一注入口与所述微气泡发生器的出口连接，所述静置容器用于盛放反应溶液，并使所述微气泡自所述微气泡发生器进入所述反应溶液中，形成目标反应溶液；至少一个反应容器，具有第二注入口，所述第二注入口与所述第一排出口连接，用于使所述目标反应溶液自所述静置容器流入所述反应容器
。
[0008]进一步地，所述静置容器包括第二排出口，所述第二排出口与所述液体注入口连接，用于使所述反应溶液自所述静置容器进入所述微气泡反应器
。
[0009]进一步地，所述微气泡发生器包括：水路系统，具有所述具有液体注入口，用于注入所述液体至所述微气泡发生器；气路系统，具有所述气体注入口，用于注入所述气体至所
述微气泡发生器；溶气电机泵，具有第一入口和第二入口，所述第一入口与所述水路系统的出口连通，所述第二入口与所述气路系统的出口连通，所述溶气电机泵用于根据所述液体和所述气体生成水气混合物；微气泡生成系统，所述微气泡生成系统的入口与所述溶气电机泵的出口连通，所述微气泡生成系统的出口与所述第一注入口连接，所述微气泡生成系统用于基于所述水气混合物，以形成微气泡
。
[0010]进一步地，所述微气泡发生器包括微纳米曝气头，所述微纳米曝气头设置在所述静置容器中
。
[0011]进一步地，所述湿制程处理设备还包括：控制部，所述控制部设置于所述静置容器和所述反应容器之间，用于控制所述静置容器中的所述目标反应溶液流入所述反应容器的流量
。
[0012]进一步地，所述微气泡发生器
、
所述静置容器和所述反应容器均包括多个，且多个所述微气泡发生器
、
多个所述静置容器和多个所述反应容器一一对应
。
[0013]进一步地，所述静置容器中设置有第一活动盖板，所述第一活动盖板上设置有溶液注入口，所述反应容器中设置有第二活动盖板，其中：所述第一活动盖板放置在所述静置容器上，以密封所述静置容器；所述第二活动盖板放置在所述反应容器上，以密封所述反应容器
。
[0014]进一步地，所述湿制程处理设备与真空泵连接，所述第二活动盖板设置有贯穿所述的第二活动盖板的抽真空管，所述抽真空管用于连接所述真空泵
。
[0015]进一步地，所述湿制程处理设备还包括：夹取装置，用于夹取目标器件并放置所述目标器件至所述反应容器
。
[0016]为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种电池片的刻蚀方法，采用如上述的湿制程处理设备进行刻蚀，所述刻蚀方法包括：注入刻蚀溶液至所述湿制程处理设备的静置容器中；注入所述刻蚀溶液和气体至所述湿制程处理设备的微气泡发生器中，生成微气泡；将所述微气泡注入所述静置容器内的所述刻蚀溶液中，在所述刻蚀溶液中微气泡达到饱和的情况下，以在所述静置容器中形成第一目标反应溶液；将所述第一目标反应溶液注入所述湿制程处理设备的反应容器中，以通过所述第一目标反应溶液对放置在所述反应容器中的电池片进行刻蚀处理
。
[0017]根据本专利技术的另一方面，提供了一种电池片的抛光方法，采用如上述的湿制程处理设备进行抛光，所述抛光方法包括：注入抛光溶液至所述湿制程处理设备的静置容器中；注入所述抛光溶液和气体至所述湿制程处理设备的微气泡发生器中，生成微气泡；将所述微气泡注入所述静置容器的所述抛光溶液中，以使所述微气泡充满所述抛光溶液至饱和，以在所述静置容器中形成第二目标反应溶液；将所述第二目标反应溶液持续注入所述湿制程处理设备的反应容器中，以通过所述第二目标反应溶液对放置在所述反应容器中的电池片进行抛光处理
。
[0018]应用本专利技术的技术方案，提供一种湿制程处理设备，该湿制程处理设备包括至少一个微气泡发生器
、
至少一个静置容器以及至少一个反应容器，且微气泡发生器和静置容器连接，静置容器和反应容器连接，因此在静置容器中盛放反应溶液的情况下，能够通过微气泡发生器产生微气泡，并将产生的微气泡注入至静置容器中，使得在静置容器中能够形成目标反应溶液，进而能够将目标反应溶液注入至反应容器中，使得该反应容器中具有上
述目标反应溶液
。
即本申请能够通过上述湿制程处理设备的微气泡发生器产生微气泡，该微气泡相比于现有技术中通过圆管上设置的孔产生的普通气泡具有更小的直径，从而使其在溶液中受到的浮力远远小于普通气泡在溶液中所受到的浮力，所以相比于现有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种湿制程处理设备，其特征在于，包括：至少一个微气泡发生器，具有液体注入口和气体注入口，所述液体注入口用于注入液体至所述微气泡发生器，所述气体注入口用于注入气体至所述微气泡发生器，所述微气泡发生器用于根据液体和气体产生微气泡；至少一个静置容器，具有第一注入口和第一排出口，所述第一注入口与所述微气泡发生器的出口连接，所述静置容器用于盛放反应溶液，并使所述微气泡自所述微气泡发生器进入所述反应溶液中，形成目标反应溶液；至少一个反应容器，具有第二注入口，所述第二注入口与所述第一排出口连接，用于使所述目标反应溶液自所述静置容器流入所述反应容器
。2.
根据权利要求1所述的湿制程处理设备，其特征在于，所述静置容器包括第二排出口，所述第二排出口与所述液体注入口连接，用于使所述反应溶液自所述静置容器进入所述微气泡反应器
。3.
根据权利要求1或2所述的湿制程处理设备，其特征在于，所述微气泡发生器包括：水路系统，具有所述液体注入口，用于注入液体至所述微气泡发生器；气路系统，具有所述气体注入口，用于注入气体至所述微气泡发生器；溶气电机泵，具有第一入口和第二入口，所述第一入口与所述水路系统的出口连通，所述第二入口与所述气路系统的出口连通，所述溶气电机泵用于根据所述液体和所述气体生成水气混合物；微气泡生成系统，所述微气泡生成系统的入口与所述溶气电机泵的出口连通，所述微气泡生成系统的出口与所述第一注入口连接，所述微气泡生成系统用于基于所述水气混合物，以形成微气泡
。4.
根据权利要求3所述的湿制程处理设备，其特征在于，所述微气泡发生器包括微纳米曝气头，所述微纳米曝气头设置在所述静置容器中
。5.
根据权利要求1或2所述的湿制程处理设备，其特征在于，还包括：控制部，所述控制部设置于所述静置容器和所述反应容器之间，用于控制所述静置容器中的所述目标反应溶液流入所述反应容器的流量
。6.
根据权利要求1或2所述的湿制程处理设备，其特征在于，所述微气泡发生器
、
所述静置容器和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐春雷，王刚，王永谦，陈刚，
申请(专利权)人：珠海富山爱旭太阳能科技有限公司天津爱旭太阳能科技有限公司广东爱旭科技有限公司，
类型：发明
国别省市：