一种半导体光掩模基板检测方法技术

本申请提供了一种半导体光掩模基板检测方法

【技术实现步骤摘要】
一种半导体光掩模基板检测方法、系统、设备及存储介质


[0001]本申请涉及半导体检测
，特别是本申请涉及一种半导体光掩模基板检测方法
、
系统
、
设备及存储介质
。

技术介绍

[0002]半导体检测是指使用半导体器件和技术来检测
、
测量或测试电子
、
光学或其他物理性质的过程，这种检测通常涉及使用半导体传感器
、
探测器或其他半导体器件，以便获取关于被测物理现象的信息，半导体检测在科学研究
、
工程应用和工业生产中具有广泛的应用，如：光电探测
、
温度传感
、
辐射探测
、
压力和应变测量等
。
[0003]光掩模基板是半导体制造中的一个关键工具，用于定义集成电路和其它微电子设备上的图案和结构，其是一个透明的玻璃或石英基板，上面覆盖有特定的图案，通过光刻技术将所需的图案投射到半导体晶片的表面，在制造半导体芯片时，以下是光掩模基板的关键作用：质量控制
、
图案传递
、
分辨率和精度等，光掩模基板是半导体工艺中不可或缺的组成部分，随着半导体在生活中广泛运用，半导体的质量要求也越来越高，进而如何提高光掩模基板的检测准确度也成为了业界面临的难题
。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述技术问题，本申请提供一种用以提高光掩模基板的检测准确度的半导体光掩模基板检测方法
、
>系统
、
设备及存储介质
。
[0005]为解决上述技术问题，本申请采用如下技术方案：第一方面，本申请提供一种半导体光掩模基板检测方法，包括如下步骤：启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格
。
[0006]在一些实施例中，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像具体包括：将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜
HSV
图像；
根据所述基板涂料光斜
HSV
图像确定基板涂料光斜饱和图像
。
[0007]在一些实施例中，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值；根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像
。
[0008]在一些实施例中，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口；根据所述饱和收缩图像划分窗口对所述基板涂料光斜饱和收缩图像进行划分，得到多个饱和收缩图像子块；将所有的饱和收缩图像子块的集合作为饱和收缩图像子块集；选取一个饱和收缩图像子块，确定该饱和收缩图像子块的中心点，将该中心点的像素点作为该饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点，重复上述步骤，确定剩余饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点；将所有的饱和收缩权阈点的集合作为饱和收缩权阈点集
。
[0009]在一些实施例中，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子采用下述步骤实现：获取饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上第行第列的像素值；获取饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总行数；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总列数；根据所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上第行第列的像素值
、
所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值
、
所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差
、
所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总行数和所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总列数确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，其中所述可变饱和收缩色彩强化因子可采用下述公式确定：
其中，表示饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，表示自然对数的底数，为常数，，
。
[0010]在一些实施例中，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像具体包括：选取所述饱和收缩图像子块集中一个饱和收缩图像子块，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对该个饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；重复上述步骤，对剩余饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到剩余饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；将所有的基板涂料光斜细节加强图像子块组合成基板涂料光斜细节加强图像
。
[0011]在一些实施例中，还包括：当所述基板涂料检测界定值超过预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为不合格，并上传至涂料检测信息库
。
[0012]第二方面，本申请提供一种半导体光掩模基板检测系统，包括：基板涂料光斜图像获取模块，用于启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块，用于确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；可变饱和收缩色彩强化因子确定模块，用于确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；基板涂料检测界定值确定模块，用于根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；半导体光掩膜基板标判定模块，用于当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种半导体光掩模基板检测方法，其特征在于，包括如下步骤：启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库
。2.
如权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像具体包括：将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜
HSV
图像；根据所述基板涂料光斜
HSV
图像确定基板涂料光斜饱和图像
。3.
如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值；根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像
。4.
如权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口；根据所述饱和收缩图像划分窗口对所述基板涂料光斜饱和收缩图像进行划分，得到多个饱和收缩图像子块；将所有的饱和收缩图像子块的集合作为饱和收缩图像子块集；选取一个饱和收缩图像子块，确定该饱和收缩图像子块的中心点，将该中心点的像素点作为该饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点，重复上述步骤，确定剩余饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点；将所有的饱和收缩权阈点的集合作为饱和收缩权阈点集
。5.
如权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子采用下述步骤实现：获取饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上第行第列的像素值；获取饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总行数；确定饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上像素点的总列数；
根据所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块上第行第列的像素值
、
所述饱和收缩图像子块集中第个饱和收缩图像子块的饱和收...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘猛，周学文，
申请(专利权)人：深圳市精石光掩膜技术有限公司，
类型：发明
国别省市：