【技术实现步骤摘要】
一种无氧铜背板的制备方法
[0001]本专利技术属于溅射靶材
,涉及一种背板,尤其涉及一种无氧铜背板的制备方法
。
技术介绍
[0002]溅射靶材是物理气相沉积
(PVD)
制备电子薄膜材料的主要原材料,其主要由靶坯
、
背板等部分组成
。
其中,靶坯是制备过程中高速离子流轰击的目标材料,其表面原子被轰击后飞散出来沉积形成薄膜材料;而背板具有良好的导电
、
导热性能,主要起在轰击过程中固定溅射靶材的作用
。
半导体用靶材及液晶显示用靶材在溅射使用中,铜背板与靶材连接,铜背板起到支撑和热量传导的作用
。
[0003]CN113774346A
公开了一种无氧铜背板及其制备方法,该制备方法的过程依次包括第一锻伸
、
第一热处理
、
压制
、
第二热处理和退火,制备的铜背板内部结构均匀,平面度高,硬度和电导率均能达到应用要求
。
[0004]CN113894234A
公开了一种冷却背板的制备方法,该方法对坯料依次进行第一锻伸处理
、
第二锻伸处理
、
第一热处理
、
压延处理和第二热处理,然后再进行机加工,得到冷却背板
。
该背板的冷却效果好,水道密封性好,防锈性能优异
。
[0005]CN113652654A
公开了一种抗变形无氧铜背板及其制备方法, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种无氧铜背板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
(1)
将铜锭预热后,依次进行锻造和热处理,得到锻后铜锭;
(2)
将步骤
(1)
所得锻后铜锭依次进行第一轧制和第一热处理,得到轧制铜板;
(3)
将步骤
(2)
所得轧制铜板依次进行第二轧制和第二热处理,得到无氧铜背板
。2.
根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤
(1)
所述预热的温度为
800
‑
900℃
;优选地,步骤
(1)
所述预热的时间为1‑
2h。3.
根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,步骤
(1)
所述锻造的次数为2‑4次;优选地,步骤
(1)
所述锻造的锻造比为1‑
3。4.
根据权利要求1‑3任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤
(1)
所述热处理的温度为
350
‑
450℃
;优选地,步骤
(1)
所述热处理的时间为1‑
2h。5.
根据权利要求1‑4任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤
(2)
所述第一轧制的变形量为锻后铜锭原长度的
60
‑
70
%;优选地,步骤
(2)
所述第一轧制的轧制参数为2‑
3mm/
道次
。6.
根据权利要求1‑5任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤
(2)
所述第一热处理的温度为
400
‑
500℃
;优选地,步骤
(2)
所述第一热处理的时间为2‑
3h。7.
根据权利要求1‑6任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤
(3)
所述第二轧制的变形量为轧制铜板原长度的
10
‑
20
%;优选地,步骤
(3)
所述第二轧制的轧制参数为
0.5
‑
1mm/
...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,潘杰,宋阳阳,吴东青,
申请(专利权)人:宁波江丰电子材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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