钼片复合镀钌工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种钼片复合镀钌工艺，钌膜层由化学镀、溅射及电镀相结合完成，钌膜镀层内部晶粒致密，分布均匀，与钼片具有较高的结合力，不易起皮脱落，钌膜表面质量好，综合性能稳定，使用寿命长；镀钌过程中温度较低，钼片变形小，提高钼片镀钌的合格率，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种钼片复合镀钌工艺，其特征在于包括以下步骤：　　步骤１、对钼片进行前处理；　　步骤２、用化学镀钌法在钼片表面镀上第一层钌膜镀层；　　步骤３、将钼片进行超声清洗；　　步骤４、将钼片放入真空溅射装置中，对钼片表面进行钌物理气相沉积，在钼片表面镀上第二层钌膜镀层；　　步骤５、将钼片进行超声清洗；　　步骤６、电镀前的预处理；　　步骤７、用电镀法对钼片电镀第三层钌膜镀层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭丽萍，傅蔡安，张一雯，
申请(专利权)人：江苏时代华宜电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]