显示装置制造方法及图纸

提供了显示装置。显示装置包括衬底、晶体管、与晶体管连接的第一电极、覆盖第一电极的边缘的堤层和第一绝缘层，堤层包括与第一电极重叠的开口，其中，第一绝缘层的顶表面包括与堤层的开口重叠的第一表面部分、具有比第一表面部分的距衬底的垂直距离小的距衬底的垂直距离的第二表面部分以及在第一表面部分与第二表面部分之间的第一倾斜部分，第一倾斜部分相对于第一表面部分向下倾斜。相对于第一表面部分向下倾斜。相对于第一表面部分向下倾斜。

【技术实现步骤摘要】
显示装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请基于并要求在韩国知识产权局于2022年5月16日提交的第10
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2022
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0059832号韩国专利申请和于2022年5月27日提交的第10
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2022
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0065596号韩国专利申请的优先权，这两个韩国专利申请的公开内容通过引用以其整体并入本文中。


[0003]一个或多个实施方式涉及显示装置和制造显示装置的方法。

技术介绍

[0004]诸如移动电话、个人数字助理(PDA)、计算机和大型电视的各种电子装置的开发伴随有支持这些电子装置的各种类型的显示装置的开发。例如，广泛商用的显示装置包括包含背光单元的液晶显示装置和具有分别发射不同颜色的光的颜色区域的有机发光显示装置。包括量子点颜色转换层(QD
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CCL)的显示装置也在开发中。
[0005]通常，有机发光显示装置包括位于衬底上的子像素电路和有机发光二极管，而子像素电路包括薄膜晶体管，并且有机发光显示装置随着有机发光二极管发射光而操作。在衬底上形成子像素电路和有机发光二极管的工艺中，可使用利用掩模的若干光刻工艺。光刻工艺包括将掩模上的图案转印到其上沉积有诸如金属层、有机层或无机层的薄膜的衬底以在薄膜上形成期望的图案的一系列工艺。光刻工艺包括光致抗蚀剂涂覆、曝光、显影和类似工艺。
[0006]最近，显示装置出于各种目的而使用。此外，由于显示装置的厚度和重量的减小，显示装置已被更广泛地使用。最近，已存在用于改善显示装置的质量的各种设计尝试。

技术实现思路

[0007]在一个方面中，本公开涉及其中可通过减少制造工艺中使用的掩模的数量来防止发光器件的缺陷的显示装置以及制造显示装置的方法。然而，本公开的范围不限于此。
[0008]附加方面将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将通过描述而显而易见，或者可通过所呈现的本公开的实施方式的实践而习得。
[0009]显示装置包括：衬底，包括显示区域和在显示区域外部的外围区域；薄膜晶体管，布置在显示区域中，并且包括半导体层和在半导体层上的栅电极；第一电极，电连接到薄膜晶体管；堤层，覆盖第一电极的边缘并且具有与第一电极重叠的开口；第二电极，在第一电极上；发射层，在第一电极与第二电极之间；以及第一绝缘层，在薄膜晶体管与第一电极之间，其中第一绝缘层的顶表面包括：第一表面部分，与堤层的开口重叠；第二表面部分，具有比从衬底到第一表面部分的垂直距离小的距衬底的垂直距离；以及第一倾斜部分，在第一表面部分与第二表面部分之间，第一倾斜部分相对于第一表面部分向下倾斜。第一绝缘层的顶表面还包括第二倾斜部分，在第一倾斜部分与第二表面部分之间，第二倾斜部分从第一电极的边缘向下倾斜。
[0010]第一倾斜部分相对于衬底的顶表面的角度可小于第二倾斜部分相对于衬底的顶表面的角度。
[0011]第一绝缘层可包括沿第一电极的边缘并且围绕第一电极布置的谷部分。
[0012]第二倾斜部分可包括谷部分的侧表面。
[0013]第一绝缘层的顶表面还可包括第三表面部分，第三表面部分布置在第一倾斜部分与第二倾斜部分之间，第三表面部分与第一电极重叠。
[0014]从第一电极的对应于第一倾斜部分的部分的顶表面到堤层的顶表面的垂直距离可朝向第一电极的边缘增加。
[0015]第一绝缘层可包括对应于外围区域的开口。
[0016]半导体层可包括氧化物半导体材料。
[0017]显示装置还可包括与半导体层的源极区域和漏极区域中的任一个重叠并且电连接的上电极，栅电极可与半导体层的沟道区域重叠，并且上电极可与栅电极位于相同的层。
[0018]在实施方式中，显示装置还可包括无机绝缘层，无机绝缘层覆盖栅电极和上电极，并且第一电极可经由通过无机绝缘层和第一绝缘层形成的接触孔与上电极直接接触。
[0019]在另一方面中，制造显示装置的方法包括：制备包括显示区域和在显示区域外部的外围区域的衬底；在显示区域上形成薄膜晶体管；通过使用掩模在薄膜晶体管上形成第一绝缘层，第一绝缘层具有包括第一表面部分和相对于第一表面部分向下倾斜的第一倾斜部分的顶表面；在第一绝缘层上形成第一电极；去除第一绝缘层的部分以形成第二表面部分，第二表面部分具有比从衬底到第一表面部分的垂直距离小的距衬底的垂直距离；通过去除第一绝缘层的部分而在第一倾斜部分与第二表面部分之间形成第二倾斜部分；形成覆盖第一电极的边缘并且具有与第一表面部分重叠的开口的堤层；在第一电极上形成发射层；以及在发射层上形成第二电极，其中第一倾斜部分在第一表面部分与第二表面部分之间。
[0020]掩模可包括半色调掩模或狭缝掩模。
[0021]第二倾斜部分可从第一电极的边缘向下倾斜。
[0022]第一倾斜部分和第二倾斜部分可在分开的工艺中形成。
[0023]第二倾斜部分可与第二表面部分同时形成。
[0024]第二表面部分的形成可包括灰化工艺。
[0025]该方法还可包括从外围区域去除第一绝缘层的部分。
[0026]该方法还可包括通过去除第一绝缘层的部分来形成沿第一电极的边缘并且围绕第一电极布置的谷部分。
[0027]第一绝缘层的谷部分的形成可与第二表面部分的形成同时执行。
[0028]第一倾斜部分相对于衬底的顶表面的角度可小于第二倾斜部分相对于衬底的顶表面的角度。
附图说明
[0029]根据结合附图而作出的下面的描述，本公开的某些实施方式的以上和其他的方面、特征和优点将更显而易见，在附图中：
[0030]图1是根据实施方式的显示装置的示意性透视图；
[0031]图2是根据实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0032]图3示出了图2中所示的功能层的光学层；
[0033]图4是根据实施方式的显示装置的电连接到发光二极管的子像素电路的等效电路图；
[0034]图5是根据实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0035]图6是根据实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0036]图7是根据另一实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0037]图8A至图8J是示出根据实施方式的制造显示装置的方法的剖视图；
[0038]图9是根据另一实施方式的显示装置的示意性剖视图；
[0039]图10A至图10F是示出根据另一实施方式的制造显示装置的方法的剖视图；以及
[0040]图11是根据实施方式的显示装置的示意性剖视图。
具体实施方式
[0041]现将详细参照在附图中示出了其示例的实施方式，在附图中类似的附图标记始终是指类似的元件。在这方面，本实施方式可具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文阐述的描述。相应地，下面通过参照图仅描述实施方式，以解释本描述的各方面。如本文中使用的，术语“和/或”包括相关联列出项目中的一个或多个的任何和所有组合。在整个本公开中，表述“本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：衬底，所述衬底包括显示区域和在所述显示区域外部的外围区域；薄膜晶体管，所述薄膜晶体管布置在所述显示区域中，所述薄膜晶体管包括半导体层和在所述半导体层上的栅电极；第一电极，所述第一电极电连接到所述薄膜晶体管；堤层，所述堤层覆盖所述第一电极的边缘，并且具有与所述第一电极重叠的开口；第二电极，所述第二电极在所述第一电极上；发射层，所述发射层在所述第一电极与所述第二电极之间；以及第一绝缘层，所述第一绝缘层在所述薄膜晶体管与所述第一电极之间，其中，所述第一绝缘层的顶表面包括：第一表面部分，所述第一表面部分与所述堤层的所述开口重叠；第二表面部分，所述第二表面部分具有比从所述衬底到所述第一表面部分的垂直距离小的距所述衬底的垂直距离；以及第一倾斜部分，所述第一倾斜部分在所述第一表面部分与所述第二表面部分之间，所述第一倾斜部分相对于所述第一表面部分向下倾斜。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一绝缘层的顶表面还包括：第二倾斜部分，所述第二倾斜部分在所述第一倾斜部分与所述第二表面部分之间，所述第二倾斜部分从所述第一电极的所述边缘向下倾斜。3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述第一倾斜部分相对于所述衬底的顶表面的角度小于所述第二倾斜部分相对于所述衬底的所述顶...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜叡恩，李光洙，金璱基，金承来，金贤，崔昇夏，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：