显示基板制造技术

本公开提供一种显示基板

【技术实现步骤摘要】
显示基板、显示面板及显示基板的制备方法


[0001]本公开属于显示
，具体涉及一种显示基板
、
显示面板及显示基板的制备方法
。

技术介绍

[0002]随着显示技术越来越多的应用，人们会喜欢将资讯与旁人分享，但特殊情况下又希望能有隐私性
。
比如在处理公司机密资料时，资料不希望被旁边其他人看到；又比如手机在输入个人资料时，个人信息也不希望被其他人看到，因此，显示的分享与隐私切换会逐渐形成功能趋势
。
[0003]基于此需求，早期有使用外挂式的防窥膜，当需要隐密时则手动挂在显示屏前，当不需要隐密时，手动取下，无法实现一键切换
。
而近期通过在显示屏前再增加液晶层，借由液晶转向来限制出光角度的方式来满足需求，但是此种方式会增加显示屏的厚度
。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种降低成本，提高光取出的显示基板
、
显示面板及显示基板的制备方法
。
[0005]第一方面，解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，所述显示基板包括：
[0006]衬底基板，
[0007]设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元具有开口区和环绕开口区的非开口区；所述像素单元包括位于所述开口区的发光器件；所述多个像素单元划分为防窥像素单元和共享像素单元；
[0008]像素限定层，设置在所述衬底基板上，且具有与所述开口区对应设置的容纳部；所述发光器件的第一极位于所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧，所述发光器件的发光层至少位于所述容纳部，且设置在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧，所述发光器件的第二电极位于所述发光层远离所述衬底基板的一侧；
[0009]层间绝缘层，位于所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧，所述层间绝缘层靠近所述像素限定层的表面具有微结构，所述微结构的至少一个面上任意点的法线与所述衬底基板所在平面相交，所述微结构位于所述防窥像素单元的开口区
。
[0010]在一些实施例中，所述层间绝缘层包括沿所述像素限定层靠近所述衬底基板方向依次设置的平坦化层和钝化层，其中所述平坦化层和
/
或钝化层靠近所述像素限定层一侧的表面具有微结构
。
[0011]在一些实施例中，所述平坦化层包括沿所述钝化层靠近所述像素限定层方向依次设置的第一平坦化膜层
、
第二平坦化膜层和第三平坦化膜层，所述第一平坦化膜层
、
第二平坦化膜层和第三平坦化膜层中靠近所述像素限定层一侧至少一层具有微结构
。
[0012]在一些实施例中，所述防窥像素单元对应的所述像素限定层的材料为遮光材料
。
[0013]在一些实施例中，所述遮光材料为聚酰亚胺
。
[0014]在一些实施例中，所述微结构在垂直所述衬底基板所在平面的方向上的最大高度与在所述衬底基板所在平面方向上的最大宽度的比值大于或者等于
0.5。
[0015]在一些实施例中，所述微结构沿垂直衬底基板方向的截面形状为三角形形状
、
梯形形状或凹透镜形状
。
[0016]在一些实施例中，所述防窥像素单元的单边尺寸小于或者等于
15
微米
。
[0017]在一些实施例中，所述显示基板还包括：
[0018]沿所述像素限定层背离所述衬底基板的一侧依次设置的封装层和遮光黑矩阵层；其中，
[0019]所述遮光黑矩阵层在所述衬底基板的正投影位于所述防窥像素单元的非开口区
。
[0020]在一些实施例中，所述防窥像素单元中的发光层在所述衬底基板的正投影，与所述遮光黑矩阵层在所述衬底基板的正投影之间的最小距离为2微米～4微米
。
[0021]第二方面，本公开实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括如权利要求1‑
10
任一项的显示基板
。
[0022]第三方面，本公开实施例提供一种显示基板的制备方法，所述方法包括：
[0023]形成衬底基板；
[0024]在所述衬底基板上形成多个像素单元，所述像素单元具有开口区和环绕开口区的非开口区；所述像素单元包括位于所述开口区的发光器件；所述多个像素单元划分为防窥像素单元和共享像素单元；
[0025]在所述衬底基板上形成像素限定层，所述像素限定层具有与所述开口区对应设置的容纳部；所述发光器件的第一电极位于所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧，所述发光器件的发光层至少位于所述容纳部，且设置在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧，所述发光器件的第二电极位于所述发光层远离所述衬底基板的一侧；
[0026]在所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧形成层间绝缘层，所述层间绝缘层靠近所述像素限定层的表面具有微结构，所述微结构的至少一个面上任意点的法线与所述衬底基板所在平面相交，所述微结构位于所述防窥像素单元的开口区
。
[0027]在一些实施例中，所述在所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧形成层间绝缘层，包括：
[0028]沿所述像素限定层靠近所述衬底基板方向依次形成平坦化层和钝化层，其中所述平坦化层和
/
或钝化层靠近所述像素限定层一侧的表面具有微结构
。
[0029]在一些实施例中，所述微结构在垂直所述衬底基板所在平面的方向上的最大高度与在所述衬底基板所在平面方向上的最大宽度的比值大于或者等于
0.5。
[0030]在一些实施例中，所述方法还包括：
[0031]沿所述像素限定层背离所述衬底基板的一侧依次形成封装层和遮光黑矩阵层；其中，
[0032]所述遮光黑矩阵层在所述衬底基板的正投影位于所述防窥像素单元的非开口区
。
[0033]在一些实施例中，所述防窥像素单元中的发光层在所述衬底基板的正投影，与所述遮光黑矩阵层在所述衬底基板的正投影之间的最小距离为2微米～4微米
。
附图说明
[0034]图
1a
为现有技术中的一种外界光照射发光层被反射的示意图；
[0035]图
1b
为大视角与小视角的示意图；
[0036]图2为本公开实施例提供的一种显示基板中共享像素单元对应部分的示意图；
[0037]图3为本公开实施例提供的一种显示基板中防窥像素单元对应部分的示意图；
[0038]图
4a
为本公开实施例提供的一种外界光入射后经过微结构被反射出去的示意图；
[0039]图
4b
为本公开实施例提供的又一种外界光入射后经过微结构被反射出去的示意图；
[0040]图5为本公开实施例提供的一种防窥像素单元中的发光层在衬底基板的正投影，与遮光黑矩阵层在衬底基板的正投影的关系的示意图；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元具有开口区和环绕开口区的非开口区；所述像素单元包括位于所述开口区的发光器件；所述多个像素单元划分为防窥像素单元和共享像素单元；像素限定层，设置在所述衬底基板上，且具有与所述开口区对应设置的容纳部；所述发光器件的第一电极位于所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧，所述发光器件的发光层至少位于所述容纳部，且设置在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧，所述发光器件的第二极位于所述发光层远离所述衬底基板的一侧；层间绝缘层，位于所述像素限定层靠近所述衬底基板的一侧，所述层间绝缘层靠近所述像素限定层的表面具有微结构，所述微结构的至少一个面上任意点的法线与所述衬底基板所在平面相交，所述微结构位于所述防窥像素单元的开口区
。2.
根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述层间绝缘层包括沿所述像素限定层靠近所述衬底基板方向依次设置的平坦化层和钝化层，其中所述平坦化层和
/
或钝化层靠近所述像素限定层一侧的表面具有微结构
。3.
根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述平坦化层包括沿所述钝化层靠近所述像素限定层方向依次设置的第一平坦化膜层
、
第二平坦化膜层和第三平坦化膜层，所述第一平坦化膜层
、
第二平坦化膜层和第三平坦化膜层中至少一层靠近所述像素限定层的一侧具有微结构
。4.
根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防窥像素单元对应的所述像素限定层的材料为遮光材料
。5.
根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述遮光材料为聚酰亚胺
。6.
根据权利要求1‑5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述微结构在垂直所述衬底基板所在平面的方向上的最大高度与在所述衬底基板所在平面方向上的最大宽度的比值大于或者等于
0.5。7.
根据权利要求1‑5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述微结构沿垂直衬底基板方向的截面形状为三角形形状
、
梯形形状或凹透镜形状
。8.
根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述防窥像素单元的单边尺寸小于或者等于
15
微米
。9.
根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：沿所述像素限定层背离所述衬底基板的一侧依次设置的封装层和遮光黑矩阵层；其中，所述遮光黑矩阵层在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：盖人荣，唐国强，王涛，陈善韬，谢明哲，先建波，
申请(专利权)人：北京京东方技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：