【技术实现步骤摘要】
金属箔的剥离方法及剥离系统
[0001]本申请涉及材料领域,具体而言,涉及一种金属箔的剥离方法及剥离系统
。
技术介绍
[0002]金属分为单晶和多晶
。
相比于多晶金属,单晶金属更能反应材料的本征性能
。
比如单晶金属具有更高的热导率
、
延展性
、
电导率
、
蠕变抗力等
。
单晶金属的优异性能,使其不仅在科学研究上具有重要价值,同时在工业生产中获得了广泛的应用
。
[0003]传统上,采用提拉法或干锅下降法,可以制备铸锭单晶金属,比如单晶铜
、
单晶金
、
单晶银
、
单晶铝等
。
利用定向凝固的方法,可以制造具有特殊轮廓的单晶体,比如制造具有抗热冲击性能
、
较长疲劳寿命
、
较高蠕变抗力的燃气涡轮发动机
、
飞机发动机所需要的单晶叶片
。
利用晶粒异常长大的方法,可以制备单晶金属箔材,比如单晶铜箔
、
单晶镍箔
、
单晶铂箔
、
单晶钯箔等
。
以上方法都有一个共同特点,即需要把金属在熔点附近做高温处理,才能转变为单晶
。
这导致单晶金属制造工艺复杂,生产成本高昂
。
基于这一现状,专利技术一种在常温下制备单晶金属的技术,不仅具有重要的科学意义,同时具有重要的工业应用价 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种金属箔的剥离方法,其特征在于,包括:获得基底,所述基底包括基底本体以及过渡层,所述过渡层覆盖于所述基底本体的部分表面,所述过渡层与所述基底本体可拆卸连接或者所述过渡层为形成在基底本体上的二维导电材料;在所述基底的表面生长金属薄膜,所述金属薄膜包括在所述过渡层的表面生长的第一金属薄膜,以及与所述第一金属薄膜一体成型且在所述基底本体的表面生长的第二金属薄膜;以所述过渡层作为剥离接口开始剥离处理,以使已剥离的所述第一金属薄膜带动所述第二金属薄膜从所述基底本体上剥离,获得金属箔
。2.
根据权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,所述金属薄膜生长方法包括电镀
、
磁控溅射
、
分子束外延或分子蒸发沉积;可选地,所述过渡层与所述基底本体电性连接,所述金属薄膜生长方法包括:采用电镀的方式在所述基底的表面生长所述金属薄膜
。3.
根据权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,所述基底本体的表面为单晶金属,所述第二金属薄膜为单晶金属薄膜;可选地,所述金属薄膜与所述单晶金属的成分相同;或者,所述金属薄膜与所述单晶金属的晶格失配在
10
%及以内;可选地,晶格失配的所述金属薄膜和所述单晶金属分别为铜和镍;可选地,所述金属薄膜的成分包括铜
、
铝
、
镍
、
金
、
银
、
铂
、
钯
、
铁
、
锌
、
钴
、
锰单质及合金中的至少一种
。4.
根据权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,所述过渡层与所述基底本体可拆卸连接,所述剥离处理包括:自所述基底本体剥离所述过渡层以获得剥离的所述第一金属薄...
【专利技术属性】
技术研发人员:李兴光,黄智,刘开辉,何梦林,王恩哥,
申请(专利权)人:中科晶益东莞材料科技有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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