吸附膜沉积涂层用支撑夹具及吸附膜表面涂层的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种吸附膜沉积涂层用支撑夹具及吸附膜表面涂层的制备方法，吸附膜沉积涂层用支撑夹具包括：基体，设置于基体上表面与吸附膜相匹配的凸台及环绕凸台设置的环形凸台；基体的中心线上设置有通孔阵列，包括第一通孔和第二通孔；第一通孔设置于凸台的中心，第二通孔设置于环形凸台上

【技术实现步骤摘要】
吸附膜沉积涂层用支撑夹具及吸附膜表面涂层的制备方法


[0001]本专利技术涉及镀膜领域，具体涉及吸附膜沉积涂层用支撑夹具及吸附膜表面涂层的制备方法
。

技术介绍

[0002]目前，化学机械研磨是常用的表面处理过程，用以对材料的表面进行研磨或抛光，以提升材料的表面质量
。
在化学机械研磨中通常用研磨头进行研磨，其中，背膜是用于抛光头上的硅胶材料形成的的吸附膜，在化学机械研磨中作用是吸附晶圆和分区对晶圆施加不同压力
。
[0003]如
CN103084969A
公开了一种化学机械研磨设备，包括：研磨平台；研磨垫，其位于所述研磨平台上；晶圆载片头，其吸附待研磨的晶圆并使所述待研磨的晶圆的正面接触所述研磨垫；研磨垫修整器；带有可视识别标记的装置，其连接于支撑所述研磨垫修整器的轴；光源，其经配置以照射所述可视识别标记；传感器，其经配置以接收从所述可视识别标记反射过来的光线
。
所述光源在研磨过程中以同一角度照射所述可视识别标记，所述传感器根据接收的从所述可视识别标记反射过来的光线的入射角度的变化发送控制信号给所述晶圆载片头，所述晶圆载片头根据所述控制信号调控所述待研磨的晶圆的背面的载体膜相对于所述研磨垫的表面的高度
。
该方案中在研磨过程中能够及时调整待研磨晶圆的位置，从而解决研磨垫表面磨损所带来的待研磨晶圆与研磨垫表面接触不良的问题，保持所述研磨过程的连续性和稳定性
。
[0004]为了保证背膜的使用性能，在背膜的表面通常会设置一层涂层，如聚对二甲苯涂层，然而当前对背膜进行涂层的设置时，是将背膜直接放入镀膜腔体内进行膜层的设置，但该过程会导致背膜内侧被涂层包裹，在使用过程中出现分区的压力波动；真空环境会加大背膜的变形，导致出现皱膜
。

技术实现思路

[0005]鉴于现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种吸附膜沉积涂层用支撑夹具及吸附膜表面涂层的制备方法，解决现有技术制备所得背膜在使用过程中存在的分区压力波动和皱膜的问题
。
[0006]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0007]第一方面，本专利技术提供了一种吸附膜沉积涂层用支撑夹具，
[0008]所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具包括：基体，设置于所述基体上表面与吸附膜相匹配的凸台及环绕所述凸台设置的环形凸台；
[0009]所述基体的中心线上设置有通孔阵列，包括第一通孔和第二通孔；
[0010]所述第一通孔设置于凸台的中心，所述第二通孔设置于所述环形凸台上；
[0011]所述基体的厚度与所述通孔阵列中通孔的等效圆直径的比值＞
4。
[0012]本专利技术提供的支撑夹具，通过对夹具的设计，借助特定的通孔阵列避免了吸附膜
在进行涂层设置时出现皱膜的问题，有利于提升膜层和基体的结合效果，从而提升吸附膜的使用寿命
。
[0013]作为本专利技术优选的技术方案，所述通孔阵列中通孔的等效圆直径为所述基体等效圆直径的1‑
1.2
％
。
[0014]作为本专利技术优选的技术方案，所述基体的下表面设置有盲孔阵列，所述盲孔阵列设置于所述中心线相平行的直线上；
[0015]所述盲孔阵列包括第一盲孔和第二盲孔；所述第一盲孔设置于所述凸台上表面的对应投影面的中心处；
[0016]所述第二盲孔设置于所述环形凸台上表面的对应投影面的环形凸台上
。
[0017]作为本专利技术优选的技术方案，所述盲孔阵列中盲孔的深度为所述基体厚度的
54
‑
55
％
。
[0018]作为本专利技术优选的技术方案，所述盲孔阵列中盲孔的等效圆直径为所述基体等效圆直径的
1.5
‑
1.6
％
。
[0019]作为本专利技术优选的技术方案，所述中心线与直线在同一平面上垂直投影所得平行线之间的距离为所述基体等效圆直径的3‑4％
。
[0020]第二方面，本专利技术提供了一种吸附膜表面涂层的制备方法，所述制备方法包括：将吸附膜与第一方面所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具装配后，进行化学气相沉积，得到带有涂层的吸附膜
。
[0021]作为本专利技术优选的技术方案，所述化学气相沉积的物料蒸发温度为
150
‑
180℃。
[0022]优选地，所述化学气相沉积中裂解温度为
650
‑
750℃。
[0023]作为本专利技术优选的技术方案，所述化学气相沉积中沉积时的绝对真空度
≤4.0
×
10
‑2torr。
[0024]作为本专利技术优选的技术方案，所述制备方法包括：将吸附膜与第一方面所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具装配后，进行化学气相沉积，得到带有涂层的吸附膜；
[0025]所述化学气相沉积的物料蒸发温度为
150
‑
180℃
；
[0026]所述化学气相沉积中裂解温度为
650
‑
750℃
；
[0027]所述化学气相沉积中沉积时的绝对真空度
≤4.0
×
10
‑2torr。
[0028]与现有技术方案相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0029]本专利技术提供的支撑夹具，通过采用特定的通孔阵列设计，通过控制通孔阵列中通孔的参数实现镀膜过程中内外气压的平衡，从而使得所得吸附膜不会出现皱膜即膜层和吸附膜结合不良的情况，同时由于支撑夹具的引入，在吸附膜沉积涂层时可以避免吸附膜内侧被涂层沉积缺陷
。
附图说明
[0030]图1是本专利技术实施例中所提供吸附膜沉积涂层用支撑夹具的俯视图；
[0031]图2是本专利技术实施例中所提供吸附膜沉积涂层用支撑夹具
A
‑
A
的剖面图；
[0032]图3是本专利技术实施例中所提供吸附膜沉积涂层用支撑夹具
B
‑
B
的剖面图
。
[0033]图中：1‑
凸台，2‑
环形凸台，
3.1
‑
第一通孔，
3.2
‑
第二通孔，
4.1
‑
第一盲孔，
4.2
第二盲孔
。
[0034]下面对本专利技术进一步详细说明
。
但下述的实例仅仅是本专利技术的简易例子，并不代表或限制本专利技术的权利保护范围，本专利技术的保护范围以权利要求书为准
。
具体实施方式
[0035]为更好地说明本专利技术，便于理解本专利技术的技术方案，本专利技术的典型但非限制性的实施例如下：
[0036]实施例
[0037]本实施例提供了一种吸附膜沉积涂层用支撑夹具，如图1‑3所示，所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具包括：基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具包括：基体，设置于所述基体上表面与吸附膜相匹配的凸台及环绕所述凸台设置的环形凸台；所述基体的中心线上设置有通孔阵列，包括第一通孔和第二通孔；所述第一通孔设置于凸台的中心，所述第二通孔设置于所述环形凸台上；所述基体的厚度与所述通孔阵列中通孔的等效圆直径的比值＞
4。2.
如权利要求1所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述通孔阵列中通孔的等效圆直径为所述基体等效圆直径的1‑
1.2
％
。3.
如权利要求1或2所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述基体的下表面设置有盲孔阵列，所述盲孔阵列设置于所述中心线相平行的直线上；所述盲孔阵列包括第一盲孔和第二盲孔；所述第一盲孔设置于所述凸台上表面的对应投影面的中心处；所述第二盲孔设置于所述环形凸台上表面的对应投影面的环形凸台上
。4.
如权利要求3所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述盲孔阵列中盲孔的深度为所述基体厚度的
54
‑
55
％
。5.
如权利要求3或4所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述盲孔阵列中盲孔的等效圆直径为所述基体等效圆直径的
1.5
‑
1.6
％
。6.
如权利要求3‑5任一项所述吸附膜沉积涂层用支撑夹具，其特征在于，所述中心线与直线...

【专利技术属性】
技术研发人员：惠宏业，姚力军，查得志，汪佳炜，左威，赵梓聿，柏钧天，
申请(专利权)人：上海润平电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：