一种通气均匀的管道机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种通气均匀的管道机构，包括设备本体以及开设于设备本体内部的真空腔，所述真空腔的内部设置有通气管道，所述通气管道的底部设置有输出盘，所述输出盘的内部设置有缓冲组件，所述通气管道的内部设置有调节机构；所述缓冲组件包括有活动安装于输出盘内部的缓冲板，所述缓冲板的底部与输出盘的内底壁之间固定安装有缓冲簧

【技术实现步骤摘要】
一种通气均匀的管道机构


[0001]本技术涉及钻石培育用管道通气
，具体为一种通气均匀的管道机构
。

技术介绍

[0002]随着科技的不断进步与发展，培育钻石也渐渐地露出头角，逐渐被人们所接受，所谓培育钻石，是指人造钻石，是一种由直径
10
到
30
纳米的钻石结晶聚合而成的多结晶钻石，人造钻石的分子结构并不是天然钻石的完全八面体结构，而是一种复杂结构，从而会产生磷光现象
。
[0003]在钻石的培育过程中需要经历：源自钻石种子
‑
高温高压环境
‑
通入含碳养料
‑
培育种子大小，而在通养料这一步骤中最为明显的就是通入含碳气体，改变碳原子数目，在现有的可通气设备内，气体容易有分布不均的情况发生，从而影响碳原子在钻石晶种上的分布，导致最后的成品不佳，降低培育效率，因此，我们提出一种通气均匀的管道机构来解决上述问题
。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种通气均匀的管道机构，具备通气均匀的优点，解决了现有的可通气设备内气体分布不均而导致培育钻石品质不佳的问题
。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种通气均匀的管道机构，包括设备本体以及开设于设备本体内部的真空腔，所述真空腔的内部设置有通气管道，所述通气管道的底部设置有输出盘，所述输出盘的内部设置有缓冲组件，所述通气管道的内部设置有调节机构；
[0006]所述缓冲组件包括有活动安装于输出盘内部的缓冲板，所述缓冲板的底部与输出盘的内底壁之间固定安装有缓冲簧；
[0007]所述调节机构包括有转动安装于缓冲板顶部的直筒柱，所述直筒柱的内底壁固定安装有马达，所述马达的输出端固定连接有丝杆，所述丝杆的外表面螺纹连接有运输块，所述直筒柱的内部活动安装有四个一端贯穿并延伸至其外部的延伸杆，四个所述延伸杆的相背一侧均固定安装有分体片，所述直筒柱的外周壁固定安装有四个主体片，所述延伸杆与运输块之间铰接有折拉杆
。
[0008]进一步，四个所述分体片与四个主体片在直筒柱的外表面均呈十字形分布
。
[0009]进一步，四个所述主体片均靠近分体片的一侧开设有滑槽，四个所述分体片均靠近主体片的一侧固定安装有滑块，所述滑块的外表面与滑槽的内表面滑动连接
。
[0010]进一步，所述直筒柱的左右两侧以及前后两侧均开设有贯穿并延伸至其内部的连通孔，所述连通孔的内表面与延伸杆的外表面相接触
。
[0011]进一步，所述通气管道的底部与输出盘的顶部相连通，所述通气管道与输出盘从正面看组成倒置的
T
字形
。
[0012]进一步，所述缓冲板的尺寸大于通气管道的尺寸大小
。
[0013]进一步，所述真空腔的内顶壁上设置有基座，所述基座上放置有托盘
。
[0014]进一步，所述输出盘的底部固定安装有与之相连通的出气管，所述出气管呈环绕均匀分布，所述出气管与托盘相对应
。
[0015]与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：
[0016]该通气均匀的管道机构，通过设置有缓冲组件与调节机构的配合使用，对通气管道内部的气体流速进行缓冲降压，从而不集中在输出盘的中心位置输出，减少局部饱和问题，而调向机构可对释放的气体进行旋转分散，使得气体输出均匀，速率均匀，从而达到通气均匀的目的，保证气体在晶体表面附着均匀
。
附图说明
[0017]图1为本技术结构示意图；
[0018]图2为本技术结构调节机构的剖视图；
[0019]图3为本技术结构图2的俯面示意图
。
[0020]图中：
1、
设备本体；
2、
真空腔；
3、
托盘；
4、
通气管道；
5、
输出盘；
61、
直筒柱；
62、
马达；
63、
丝杆；
64、
运输块；
65、
折拉杆；
66、
延伸杆；
67、
分体片；
68、
主体片；
71、
缓冲板；
72、
缓冲簧
。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0022]实施例一：请参阅图1‑3，本实施例中的一种通气均匀的管道机构，包括设备本体1以及开设于设备本体1内部的真空腔2，真空腔2的内顶壁上设置有基座，基座的底部与真空腔2的内顶壁固定安装，基座上放置有托盘3，真空腔2的内部设置有通气管道4，通气管道4的底部设置有输出盘5，输出盘5的底部固定安装有与之相连通的出气管，出气管呈环绕均匀分布，出气管与托盘3相对应，便于更好的附着在晶体上，输出盘5的内部设置有缓冲组件，通气管道4的底部与输出盘5的顶部相连通，通气管道4与输出盘5从正面看组成倒置的
T
字形，通气管道4的内部设置有调节机构
。
[0023]需要说明的是，本申请一种通气均匀的管道机构是用于培育钻石在通气时的使用
。
[0024]需要补充的是，设备本体1为
CVD
设备，真空腔2开设于
CVD
设备内，
CVD
设备释放气体通过通气管道4流经输出盘5释放
。
[0025]具体的，通过设置有缓冲组件与调节机构的配合使用，对通气管道4内部的气体流速进行缓冲降压，从而不集中在输出盘5的中心位置输出，减少局部饱和问题，而调向机构可对释放的气体进行旋转分散，使得气体输出均匀，速率均匀，从而达到通气均匀的目的，保证气体在晶体表面附着均匀
。
[0026]本实施例中，调节机构包括有转动安装于缓冲板
71
顶部的直筒柱
61
，直筒柱
61
的
内底壁固定安装有马达
62
，马达
62
的输出端固定连接有丝杆
63
，丝杆
63
的外表面螺纹连接有运输块
64
，直筒柱
61
的内部活动安装有四个一端贯穿并延伸至其外部的延伸杆
66
，直筒柱
61
的左右两侧以及前后两侧均开设有贯穿并延伸至其内部的连通孔，连通孔的内表面与延伸杆
66
的外表面相接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种通气均匀的管道机构，包括设备本体
(1)
以及开设于设备本体
(1)
内部的真空腔
(2)
，其特征在于：所述真空腔
(2)
的内部设置有通气管道
(4)
，所述通气管道
(4)
的底部设置有输出盘
(5)
，所述输出盘
(5)
的内部设置有缓冲组件，所述通气管道
(4)
的内部设置有调节机构；所述缓冲组件包括有活动安装于输出盘
(5)
内部的缓冲板
(71)
，所述缓冲板
(71)
的底部与输出盘
(5)
的内底壁之间固定安装有缓冲簧
(72)
；所述调节机构包括有转动安装于缓冲板
(71)
顶部的直筒柱
(61)
，所述直筒柱
(61)
的内底壁固定安装有马达
(62)
，所述马达
(62)
的输出端固定连接有丝杆
(63)
，所述丝杆
(63)
的外表面螺纹连接有运输块
(64)
，所述直筒柱
(61)
的内部活动安装有四个一端贯穿并延伸至其外部的延伸杆
(66)
，四个所述延伸杆
(66)
的相背一侧均固定安装有分体片
(67)
，所述直筒柱
(61)
的外周壁固定安装有四个主体片
(68)
，所述延伸杆
(66)
与运输块
(64)
之间铰接有折拉杆
(65)。2.
根据权利要求1所述的一种通气均匀的管道机构，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚其容，柳时飞，李正凯，
申请(专利权)人：无锡齐勇半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：