二氧化碳气体分布器制造技术

技术编号:39691892 阅读:20 留言:0更新日期:2023-12-14 20:30
本实用新型专利技术涉及流化床反应器设备技术领域,具体的为一种二氧化碳气体分布器,包括与风箱连接的进气管,进气管连接有阶梯式导流器,阶梯式导流器内设置有分层的阶梯式分流气道结构,能够将进气管输入的气流均匀分流成为多条气流,然后再通过顶部设置的喷嘴喷出;通过喷嘴侧面设置的水平喷口,以及喷嘴内设置的类似于单向阀的喷嘴芯结构,不会发生反流使上方的固体颗粒渗入气道内;通过设置在气道内的调压板可以调节气道内不同位置的喷嘴气压,使得处于不同位置处的喷嘴能够拥有趋于相同的气压,使气体分布更加均匀;对于渗入气道内的固体颗粒,也设置了用以收集固体颗粒的收集机构,能够对渗入的固体颗粒进行集中收集,避免其堵塞喷嘴或者气道

【技术实现步骤摘要】
二氧化碳气体分布器


[0001]本技术涉及流化床反应器设备
,具体的为一种二氧化碳气体分布器


技术介绍

[0002]在二氧化碳的富集吸收领域,常使用流化床作为反应的工具;流化床,全称流态化床,是一种利用气体或者液体通过颗粒状固体层,使固体颗粒处于悬浮运动状态,并且进行气固相反应过程或液固相反应过程的反应器;流化床能够使颗粒状固体呈流态化运动,便于使固相与气相或者液相反应;由于直接导入气体会产生气体分布不均匀等问题,影响实际反应速率,因此常使用气体分布器将通入的气体进行处理,使其在流化床内分布更加均匀

[0003]现有常用的气体分布器有喷射器

多孔板等形态,而多孔板以及各种多孔板的变形由于能够较为良好地实现气体的均匀分布,而较为常用;现有一申请号为
CN201420090094.1
的专利,公开了一种用于碳酸氢铵生产过程中的碳化塔气体分布器,采用多个分气支管与集气管配合,上下分气支管交叉分布并且在进气管与分气支管上设置喷气嘴;通过在集气管底部与分气支管底部均设置有封液槽,用水封的封液槽将管道内出现的结晶拦截,并且通过排污阀排出,避免了气体管道出现堵塞;但是该专利仅考虑了对管道内结晶的处理排放,并没有针对反应固体颗粒下落进入管道内的情况进行设计处理


技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种能够避免固体颗粒下落进入气体管道内的二氧化碳气体分布器

[0005]基于上述目的,本技术采用如下技术方案:<br/>[0006]二氧化碳气体分布器,包括风箱连接的进气管,其特征在于:进气管伸入反应器的内部,进气管的末端连接有分布器;分布器包括阶梯式导流器,阶梯式导流器的内部设置有分流风道;阶梯式导流器的顶端设置有顶板,顶板上设置有与分流风道配合的喷嘴;阶梯式导流器内设置有与分流风道配合的收集仓,收集仓与分流风道通过收集槽连通

[0007]优选地,阶梯式导流器包括基础分流层,基础分流层通过法兰与进气管连接;基础分流层上设置有与进气管配合的多个基础分流板,所有的基础分流板共同构成沿反应器中心轴中心对称的多条基础分流气道结构

[0008]优选地,阶梯式导流器包括导流层,导流层设置在基础分流层的顶部;导流层与基础分流层均为与反应器横截面配合的圆筒状结构,基础分流层的直径小于导流层的直径;导流层内设置有与基础分流板配合的导流板,在导流层内中心位置还设置有与进气口配合的挡流块

[0009]优选地,阶梯式导流器包括二阶分流层,二阶分流层设置在导流层的顶部;二阶分流层为水平设置的圆筒状结构,二阶分流层的外径与反应器的内径相配合;二阶分流层内
设置有二阶分流板,二阶分流板分别围成与基础分流气道配合的二阶分流气道和收集仓结构;收集槽设置在二阶分流器的最外缘底部,收集槽设置在二阶分流板的底部,与二阶分流气道和收集仓均连通

[0010]优选地,喷嘴与二阶分流气道配合设置,每条二阶分流气道上均均匀地设置有多个喷嘴

[0011]优选地,二阶分流层的中心位置设置有中心收集盒,中心收集盒侧壁上与二阶分流气道配合地设置有收集口

[0012]优选地,喷嘴包括穿透顶板设置的气孔,气孔顶部设置有喷嘴顶盖;喷嘴顶盖底部中心位置设置有引导杆,引导杆外套设有喷嘴芯;喷嘴芯底面边沿设置有斜坡面,气孔顶部边沿上设置有与喷嘴芯底面边沿配合的斜坡面;气孔底部侧边处设置有调压板,调压板设置在朝向气体来向的方向

[0013]本技术的有益效果有:
[0014]本技术采用阶梯式导流器对进入分布器内部的气体进行阶梯式分步导流,能够使气体流更加平均地分布;再通过带有防回流

防颗粒渗入的喷嘴机构从顶板喷出,形成均匀分布的气流;对于渗入分布器内的固体颗粒,也设置了收集槽和收集仓进行收集,防止其在喷嘴处堆积导致喷嘴堵塞

影响气体分布器的工作效果

[0015]本技术的阶梯式导流器从下到上分为三层,分别为基础分流层

导流层和二阶分流层;基础分流层对进入导流器内的气体进行第一次分流,通过基础分流板围成的基础分流气道,以及设置在导流层的挡流块,将气体分为中心对称的多股气流;导流层用以稳流,并且将分成多股的气流继续向上导入二阶分流层内;二阶分流层将之前已经经过一次分流之后的气流再次分流,使其在水平面上分布更加均匀;通过多次

阶梯式的分流,将原本集中的进气流,分流为在反应器内部分部更加均匀的多股气流,再通过与二阶分流层内二阶分流气道配合设置的喷嘴喷出,实现气体分布器的工作效果

[0016]本技术设置了收集仓和收集盒,分别将向外侧吹的气流中混有的固体颗粒,以及向内侧吹的气流中的固体颗粒进行集中收集,保持气道内的干净通常;在经过一段时间使用之后,只需要打开顶盖,取出收集盒和收集仓,便可以清理分布器

[0017]本技术设置了防固体颗粒渗入的喷嘴机构,采用类似于单向阀的结构作为喷嘴芯,当气压足够时便会顶起喷嘴芯,使喷嘴的侧面喷口与内部的气道连通,空气可以从喷嘴的侧面喷出;而当固体颗粒或者生成的结晶物渗入喷嘴时,部分堵塞喷嘴,喷嘴芯得不到足够的推力便会落下暂时关闭喷嘴;此时失去了向上的气流推动,堵塞的固体颗粒便会被下方更高流速的气体吸引,随着气流向前移动,从而不再堵塞之前的喷嘴气孔;由于设置了调压板,因此气道中气孔处的气体压力总是会底部高于顶部,固体颗粒便会随着更高气压的底部气流一直运动到边沿的收集槽内,最终进入收集仓,或是一直运动到设置在中心的收集盒,被集中收集

附图说明
[0018]图1为本技术的侧视图;
[0019]图2为本技术的整体结构示意图;
[0020]图3为本技术的基础分流层结构示意图;
[0021]图4为本技术的导流层结构示意图;
[0022]图5为本技术的二阶分流层结构示意图;
[0023]图6为本技术的二阶分流层结构俯视图;
[0024]图7为本技术的收集槽与二阶分流气道和收集仓配合的结构示意图;
[0025]图8为本技术的喷嘴结构剖视图

[0026]图中:反应器外壳1;进气管2;连接法兰
21
;基础分流层3;基础分流板
31
;导流层4;导流板
41
;挡流块
42
;二阶分流层5;二阶分流板
51
;收集盒
52
;收集仓
53
;二阶分流气道
54
;收集槽
55
;喷嘴6;喷嘴顶盖
61
;引导杆
62
;喷嘴芯
63
;喷口
64
;调本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
二氧化碳气体分布器,包括风箱连接的进气管,其特征在于:所述进气管伸入反应器的内部,进气管的末端连接有分布器;所述分布器包括阶梯式导流器,所述阶梯式导流器的内部设置有分流风道;所述阶梯式导流器的顶端设置有顶板,所述顶板上设置有与所述分流风道配合的喷嘴;所述阶梯式导流器内设置有与所述分流风道配合的收集仓,所述收集仓与所述分流风道通过收集槽连通
。2.
根据权利要求1所述的二氧化碳气体分布器,其特征在于:所述阶梯式导流器包括基础分流层,所述基础分流层通过法兰与进气管连接;基础分流层上设置有与进气管配合的多个基础分流板,所有的基础分流板共同构成沿反应器中心轴中心对称的多条基础分流气道结构
。3.
根据权利要求2所述的二氧化碳气体分布器,其特征在于:所述阶梯式导流器包括导流层,所述导流层设置在所述基础分流层的顶部;所述导流层与基础分流层均为与反应器横截面配合的圆筒状结构,所述基础分流层的直径小于导流层的直径;所述导流层内设置有与所述基础分流板配合的导流板,在所述导流层内中心位置还设置有与所述进气管配合的挡流块
。4.
根据权利要求3所述的二氧化碳气体分布器,其特征在于:所述阶梯式导...

【专利技术属性】
技术研发人员:李永斌黄玉伟姜伟龙刘萍萍
申请(专利权)人:甘肃华隆芯材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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