【技术实现步骤摘要】
一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法
[0001]本专利技术属于电磁屏蔽材料领域,具体属于一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法
。
技术介绍
[0002]随着高科技技术的快速发展,各国军事领域的竞争日益严峻,特别是在探测
、
屏蔽方面的技术升级,电磁波作为探测技术的主要手段,因此电磁屏蔽技术在军事领域中尤其重要
。
[0003]目前,同时兼具高透光率
、
高屏蔽
、
高附着力性能的涂层材料很少,特别是某些军事领域要求透明导电层方阻
≤20
Ω
,且对基材板的物理性能要求较高,附着力尤其重要
。
普通高透光率涂层在面对电磁波的探测时会增大被探测到的几率,同时冷热骤变
、
微变形
、
强风等环境条件会造成涂层的剥落
、
龟裂等问题
。
因此,兼具高透光率
、
高屏蔽性能
、
高附着力的薄膜成为了军事领域的研究重点,有较大的应用前景
。
技术实现思路
[0004]针对现有技术的不足,本专利技术为改善导电层的屏蔽性能
、
提高透明电磁屏蔽涂层的附着力,通过不同溶剂
、
助剂配制成成膜性好
、
方阻低,透光率高的导电墨水;通过配制不同稀释剂
、
助剂
、
固含量的保护层树脂溶液,并使用分段固化工艺,可以显
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,包括基材
、
导电层
、
保护层,其中导电层设置在基材的上方,基材与导电层的粘接面进行预处理,导电层的上方设置有保护层;导电层为纳米银线导电层,保护层为树脂涂层
。2.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,所述基材厚度为
200
‑
5000
μ
m。3.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,所述基材材质为聚醚醚酮(
PEEK
)
、
聚对苯二甲酸乙二醇酯(
PET
)
、
聚对苯二甲酸丁二醇酯(
PBT
)
、
聚酰胺(
PA
)
、
聚丙烯腈(
PAN
)
、
环氧树脂层压板等材料的膜材或板材
。4.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,所述预处理为强氧化性酸液处理
、
电晕处理
、
真空等离子体处理
、80℃
热乙醇处理
、80℃
热异丙醇处理中的一种或多种组合处理
。5.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,所述导电层厚度为
0.1~40
μ
m
;所述导电层纳米银线的直径为
10~70nm
,长径比为
500~2500
;所述导电层涂布方式为淋涂
、
辊涂等,涂层干燥温度为
40~100℃
,干燥时间为
5~20min
;所述导电层通过四探针电阻测试仪测量样品的方阻为
0.1~60
Ω
/
□
,透光率为原基材的
50~95%
,在
1~18GHz
中间达到
20dB
以上的屏蔽效果
。6.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,所述保护层厚度为
0.1~100
μ
m
,保护层树脂为聚甲基丙烯酸树脂
、
聚氨酯
、
环氧丙烯酸树脂
、
聚氨酯丙烯酸树脂
、
聚酯丙烯酸树脂
、
氨基丙烯酸树脂中的一种,保护层溶剂为油性溶剂
。7.
根据权利要求1所述的一种高附着力透明电磁屏蔽涂层材料及其制备方法,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭锐晖,赵建军,王向伟,钱海宁,张旭阳,公言飞,
申请(专利权)人:青岛九维华盾科技研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:
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