照明装置的制造装置及制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供可以处理能力高地制造利用ＥＬ发光的照明装置的制造装置。本发明专利技术提供一种照明装置的制造装置，其中包括：真空室；用于使真空室处于减压或高真空状态的排气系统；以及将衬底向真空室传送的传送室。在该制造装置中，真空室包括：在从传送室传送的衬底上形成第一电极的成膜室；在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室；在第一发光单元上形成中间层的成膜室；在中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室；在第二发光单元上形成第二电极的成膜室；在设有第二电极的衬底上形成密封膜的成膜室；用于将衬底依次传送到各个成膜室的衬底传送部件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及照明装置的制造方法，尤其涉及具备用于形成发光元件的成膜室的制造装置及使用该制造装置的制造方法。
技术介绍
近年来，不断推进将由呈现EL(Electro Luminescence ；电致发光)的化合物形成 的膜用作发光层的元件的开发，并且提出了使用各种化合物的发光元件。这些发光元件引 起称为电致发光(EL)的发光现象，该发光现象通过在用于注入空穴的电极(阳极)和用于 注入电子的电极(阴极)之间设有的发光层中空穴及电子重结合而发生。作为利用EL发光的发光元件的应用，主要被期待应用于显示器和照明。在考虑照 明的应用时，现有照明器具的白炽灯泡为点光源，而荧光灯为线光源。针对于此，由于发光 元件可以提供面发光，所以认为可制造具有例如片状照明等以往没有的形状的照明装置。 此外，通过采用面光源，可以容易得到更近于自然光的照明。这些发光元件由于其发光层(尤其由有机化合物构成的发光层)的对于氧或水分 的耐性较低而容易劣化，所以被要求如下技术以不暴露于大气的方式连续进行在形成阳 极(或阴极)之后形成发光层等，并形成阴极(或阳极)，进而进行密封(密封发光元件) 的工序。在现有的制造装置中，使成膜室或密封室多室化来提供发光元件(例如专利文献 1)。在将利用EL发光的发光元件用于照明用途时，由于元件的尺寸等于作为照明发 光的尺寸，所以与用于显示器的情况相比不需要高精密化而需要大面积。从而，为了利用EL 发光的照明装置在市场上销售，需要批量生产化、低成本化，并需要制造装置进一步提高生产率。日本专利申请公开2001-102170号公报
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的一个方式的课题之一在于提供可以处理能力高地制造利 用EL发光的照明装置的制造装置。本专利技术的一个方式的制造装置之一包括真空室；用于使真空室处于减压或高真 空状态的排气系统；将衬底向真空室传送的传送室。此外，真空室包括在从传送室传送的 衬底上形成第一电极的成膜室；在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜 室；在第一发光单元上形成中间层的成膜室；在中间层上形成至少具有发光层的第二发光 单元的成膜室；在第二发光单元上形成第二电极的成膜室；在设有第二电极的衬底上形成 密封膜的成膜室；用于将衬底依次传送到各个成膜室的衬底传送部件。此外，本专利技术的一个方式的制造装置之一包括真空室；用于使真空室处于减压 或高真空状态的排气系统；将衬底向真空室传送的传送室。另外，真空室包括在从传送室 传送的衬底上形成第一电极的成膜室；在第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室；在第一发光单元上形成中间层的成膜室；在中间层上形成至少具有发光层的第 二发光单元的成膜室；在第二发光单元上形成第二电极的成膜室；使用密封构件密封设有 第二电极的衬底的密封室；用于将衬底依次传送到各个成膜室及密封室的衬底传送部件。 此外，本专利技术的一个方式的制造装置之一包括真空室；用于使真空室处于减压 或高真空状态的排气系统；将衬底向真空室传送的传送室；与真空室通过闸阀连接的密封 室。另外，真空室包括在从传送室传送的衬底上形成第一电极的成膜室；在第一电极上形 成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室；在第一发光单元上形成中间层的成膜室；在 中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室；在第二发光单元上形成第二电极 的成膜室；用于将衬底依次传送到各个成膜室的衬底传送部件，在密封室中使用密封构件 密封从真空室传送的衬底。此外，本专利技术的一个方式是一种照明装置的制造方法，包括如下步骤将衬底传送 到真空室内，在配置在真空室内并具有共同的真空度的多个成膜室中，在衬底上形成包括 第一电极、第一发光单元、中间层、第二发光单元以及第二电极的发光元件，将包括发光元 件的衬底向配置在真空室内并具有与多个成膜室共同的真空度的密封室传送，在密封室中 使用密封构件密封从真空室传送的包括发光元件的衬底。此外，本专利技术的一个方式是一种照明装置的制造方法，包括如下步骤将衬底传送 到真空室内，在配置在真空室内并具有共同的真空度的多个成膜室中，在衬底上形成包括 第一电极、第一发光单元、中间层、第二发光单元以及第二电极的发光元件，将包括发光元 件的衬底向与真空室通过间阀连接的密封室传送，在密封室中使用密封构件密封从真空室 传送的包括发光元件的衬底。根据本专利技术的一个方式的制造装置，可以实现高速成膜或连续成膜处理。此外，根 据本专利技术的一个方式的制造装置，可以提高材料的利用效率，还可以降低制造成本。附图说明图1是示出本专利技术一个方式的制造装置之一例的图；图2A和图2B是示出本专利技术一个方式的制造装置之一例的图；图3A和图3B是示出本专利技术一个方式的制造装置之一例的图；图4是示出本专利技术一个方式的制造装置之一例的图；图5是示出本专利技术一个方式的制造装置之一例的图；图6是示出本专利技术一个方式的成膜室的截面图；图7A至图7C是示出本专利技术一个方式的制造装置的时序图；图8A至图8C是示出本专利技术一个方式的制造装置的时序图；图9A至图9C是示出本专利技术一个方式的成膜室的一部分的截面图及俯视图；图10是示出本专利技术一个方式的成膜室的截面图；图11是示出照明装置之一例的图；图12A和图12B是示出照明装置的一例的图；图13是示出照明装置之一例的图；图14A和图14B是示出照明装置之一例的图；图15A和图15B是示出照明装置之一例的图16A和图16B是示出照明装置之一例的图；图17是示出照明装置之一例的图；图18A和图18B是示出照明装置之一例的图；图19A至图19D是示出照明装置之一例的图；图20A至图20D是示出照明装置之一例的图；图21是示出照明装置之一例的图；图22A和图22B是示出照明装置之一例的图； 图23A和图23B是示出发光元件之一例的图；图24是示出照明装置的截面之一例的图；图25是示出照明装置的应用例的图；图26A至图26C是示出照明装置的应用例的图；图27A至图27E示出照明装置的应用例的图。具体实施例方式以下，参照附图详细说明实施方式。但是，本说明书所公开的专利技术不局限于以下说 明，所属
的普通技术人员可以很容易地理解一个事实就是其方式及详细内容在不 脱离本专利技术的宗旨及其范围的情况下可以被变换为各种各样的形式。因此，不应该被解释 为仅限定在本说明书的实施方式及实施例所记载的内容中。此外，在用于说明实施方式的 所有附图中，使用相同的附图标记来表示相同的部分或具有同样功能的部分，而省略其重 复说明。实施方式1在本实施方式中参照附图说明具备成膜室的制造装置的一例。图1是本实施方式的制造装置的俯视示意图。此外，图2A及图2B是沿着图1中 的A-B线的截面图。图1所示的制造装置包括第一传送室101、真空室103、第二传送室109以及第三 传送室137。此外，在真空室103中设有具备圆筒状的防附着板的多个成膜室115至131、 密封室133以及衬底传送部件107。在图1中，使用第一传送室101及第二传送室109进行 衬底的搬入或搬出。此外，使用第三传送室137进行发光元件的密封构件的搬入。此外，在本说明书中衬底是指可以形成薄膜的构件或形成有薄膜的构件，优选使 用盘形状(也称为圆形或圆盘形状)。具体而言，可以使用由聚碳酸酯、聚芳酯、聚醚砜等构 成的塑料衬本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照明装置的制造装置，包括：真空室；用于使所述真空室处于减压状态的排气系统；以及将衬底传送到所述真空室的传送室，其中，所述真空室包括：在所述衬底上形成第一电极的成膜室；在所述第一电极上形成至少具有发光层的第一发光单元的成膜室；在所述第一发光单元上形成中间层的成膜室；在所述中间层上形成至少具有发光层的第二发光单元的成膜室；在所述第二发光单元上形成第二电极的成膜室；在设有所述第二电极的所述衬底上形成密封膜的成膜室；以及用于将所述衬底依次传送到各成膜室的衬底传送部件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山崎舜平，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]