一种有机发光材料中间体的制备方法技术

本发明专利技术提供如式

【技术实现步骤摘要】
一种有机发光材料中间体的制备方法


[0001]本专利技术涉及机电致发光材料
，具体涉及一种有机发光材料中间体的制备方法
。

技术介绍

[0002]有机发光现象是指利用有机材料将电能转化为光能的现象
。
利用有机发光现象的有机电子元件通常具有包括阳极
、
阴极以及插入其间的有机材料层的结构
。
为了提高有机电子元件的效率和稳定性，有机材料层常常由不同材料组成的多层结构组成，例如可以包括空穴注入层
、
空穴传输层
、
发光层
、
电子传输层
、
电子注入层等
。
[0003]有机小分子发光材料种类繁多，它们多带有共轭杂环及各种生色团，结构易于调整，通过引入烯键
、
苯环等不饱和基团及各种生色团来改变其共轭长度，从而使化合物光电性质发生变化
。
如恶二唑及其衍生物类，三唑及其衍生物类，罗丹明及其衍生物类，香豆素类衍生物，
1,8
‑
萘酰亚胺类衍生物，吡唑啉衍生物，三苯胺类衍生物，卟啉类化合物，咔唑
、
吡嗪
、
噻唑类衍生物，苝类衍生物等
。
苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶及其衍生物也广泛存在于这些有机小分子发光材料中，因此苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶及其衍生物作为有机小分子发光材料合成的中间体，需求量越来越大
。
[0004]2‑
甲基
‑8‑
(4,4,5,5
‑
四甲基
‑1‑3‑2‑
二噁硼烷
‑2‑
基
)
苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶就是这样一种重要的有机发光材料中间体，其化学结构式如下：
[0005][0006]现有技术报道中，该化合物是利用2‑
氨基
‑3‑
溴
‑6甲基吡啶作起始物料经过
Suzuki
偶联
、
成环
、
脱甲基化
、
羟基上保护再经过
Suzuki
偶联才能合成2‑
甲基
‑8‑
(4,4,5,5
‑
四甲基
‑1‑3‑2‑
二噁硼烷
‑2‑
基
)
苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶，合成路线如下所示：
[0007][0008]此外也有采用如下方法制备2‑
甲基
‑8‑
(4,4,5,5
‑
四甲基
‑1‑3‑2‑
二噁硼烷
‑2‑
基
)
苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶的，合成路线如下：
[0009][0010]这些方法都具有合成步骤多，路线也过长，总收率较低，不稳定因素过高；有些需要柱层析纯化，有些需要用到醋酸银
、
醋酸钯等贵金属催化剂，生产成本高且不利于工业放大生产
。
[0011]基于2‑
甲基
‑8‑
(4,4,5,5
‑
四甲基
‑1‑3‑2‑
二噁硼烷
‑2‑
基
)
苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶及其衍生物作为重要的有机发光材料中间体，因此，需要路线短的
、
稳定性高的
、
成本更低的工艺路线来适应工业化生产
。

技术实现思路

[0012]为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶及其衍生物的制备方法，该方法工艺路线较短，总收率高，纯化方法简单
。
[0013]具体的，本专利技术提供了一种如式
I
所示的苯并呋喃并
[2,3
‑
b]吡啶及其衍生物的制备方法：
[0014][0015]其中，
[0016]X1为卤素；在一些实施例中，
X1为氯
、
溴或碘；在一些实施例中，
X1为氯；
[0017]X2为卤素；在一些实施例中，
X2为氟
、
氯
、
溴或碘；在一些实施例中，
X2为氟；
[0018]R1为卤素
、C1‑6烷基
、
卤代
C1‑6烷基或氘代
C1‑6烷基；在一些实施例中，
R1为氟
、
甲基
、
三氟甲基或三氘代甲基；在一些实施例中，
R1为氟
、
甲基或三氟甲基；
[0019]步骤
1)
化合物
I
‑1和化合物
I
‑2在第一有机溶剂中，在第一碱的存在下，反应制得化合物
I
‑3；
[0020]步骤
2)
化合物
I
‑3在第二有机溶剂中，在第一催化剂和第二碱的作用下，发生关环反应得化合物
I
‑4；
[0021]步骤
3)
化合物
I
‑4与联二硼酸频哪醇酯发生
Miyaura
硼化反应制得式
I
化合物
。
[0022]在一些实施例中，化合物
I
‑1和化合物
I
‑2的摩尔比为1：
(0.8
‑
1.2)
；在一些实施例中，化合物
I
‑1和化合物
I
‑2的摩尔比为1：
1。
[0023]在一些实施例中，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
(1.1
‑
3)
；在一些实施例中，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
(1.2
‑
2)
；在一些实施例中，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为
1
：
(1.1
‑
3)
；在一些实施例中，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
1.5。
[0024]在一些实施例中，步骤1中的反应温度控制在
110℃
至
130℃
，反应时间为
15
‑
20
小时
。
[0025]在一些实施例中，所述第一有机溶剂为二甲基亚砜
(DMSO)、N,N
‑
二甲基甲酰胺
(DMF)、
氮甲基吡咯烷酮
(NMP)...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种如式
I
所示的苯并呋喃并
[2,3
‑
b]
吡啶及其衍生物的制备方法，其中，
X1为卤素；优选地，
X1为氯
、
溴或碘；优选地，
X1为氯；
X2为卤素；优选地，
X2为氟
、
氯
、
溴或碘；优选地，
X2为氟；
R1为卤素
、C1‑6烷基
、
卤代
C1‑6烷基或氘代
C1‑6烷基；优选地，
R1为氟
、
甲基
、
三氟甲基或三氘代甲基；优选地，
R1为氟
、
甲基或三氟甲基；所述制备方法包括：步骤
1)
化合物
I
‑1和化合物
I
‑2在第一有机溶剂中，在第一碱的存在下，反应制得化合物
I
‑3；步骤
2)
化合物
I
‑3在第二有机溶剂中，在第一催化剂和第二碱的作用下，发生关环反应得化合物
I
‑4；步骤
3)
化合物
I
‑4与联二硼酸频哪醇酯发生
Miyaura
硼化反应制得式
I
化合物
。2.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，化合物
I
‑1和化合物
I
‑2的摩尔比为1：
(0.8
‑
1.2)
；优选地，化合物
I
‑1和化合物
I
‑2的摩尔比为1：1；化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
(1.1
‑
3)
；优选地，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
(1.2
‑
2)
；优选地，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
(1.1
‑
3)
；优选地，化合物
I
‑1和第一碱的摩尔比为1：
1.5。3.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1中的反应温度控制在
110℃
至
130℃
，反应时间为
15
‑
20
小时
。4.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一有机溶剂为二甲基亚砜
(DMSO)、N,N
‑
二甲基甲酰胺

【专利技术属性】
技术研发人员：徐引，姜亚楠，成春文，朱宇，丁宗苍，
申请(专利权)人：江苏南大光电材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：