化学机械抛光中的绝缘流体线路制造技术

一种抛光组件包括化学机械抛光系统

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化学机械抛光中的绝缘流体线路


[0001]本公开涉及化学机械抛光
(CMP)
，且更具体地涉及在
CMP
中的流体传输
。

技术介绍

[0002]集成电路通常通过在半导体晶片上顺序地沉积导电
、
半导或绝缘层而形成在基板上
。
各种制作工艺需要在基板上平坦化层
。
例如，一个制作步骤涉及在非平坦表面上沉积填充层，以及平坦化填充层
。
对于某些应用，平坦化填充层，直到暴露图案化层的顶表面，或直到在下卧层上留下材料的预定厚度
。
[0003]化学机械抛光
(CMP)
是一中可接受的平坦化方法
。
此平坦化方法通常需要将基板安装在承载头上
。
基板的暴露表面通常放置为抵靠旋转抛光垫
。
承载头在基板上提供可控制的负载以将其推靠抛光垫
。
具有研磨粒子的抛光液通常供应至抛光垫的表面
。
例如去离子水的清洁流体可喷涂至抛光垫上，以从抛光工艺移除碎屑
。

技术实现思路

[0004]在一个方面中，抛光组件包括：化学机械抛光系统
、
流体源
、
以及将流体从流体源承载至化学机械抛光系统中的流体传输导管
。
化学机械抛光系统包括：用于支撑抛光垫的平台
、
用于支撑基板并使基板与抛光垫接触的承载头
、
以及用于导致平台与承载头之间的相对运动的电机
。
流体传输导管包括：电气绝缘管；导电缠绕件，所述导电缠绕件从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕，所述导电缠绕件被配置成使静电放电流动；以及导电线，所述导电线附接至导电缠绕件第一端，所述导电线被配置成使静电放电从导电缠绕件传导至接地源
。
[0005]在另一方面中，电气绝缘管被配置成将流体流动至化学机械抛光系统中，包括：导电缠绕件，所述导电缠绕件从管的第一端至管的第二端围绕管的外部直径缠绕，所述导电缠绕件被配置成传导静电电荷；以及导电线，所述导电线附接至导电缠绕件，所述导电线被配置成使静电电荷从导电缠绕件传导至共同接地源
。
[0006]在另一方面中，一种制造流体导管的方法，包括：将导电缠绕件缠绕在管的周围，以及将导电线耦合至导电缠绕件
。
管被配置成将流体流动至化学机械抛光组件中，并且导电缠绕件被配置成形成用于传导静电电荷的静电放电保护组件
。
[0007]实施方式可包括以下特征中的一者或多者
。
流体源可包括用于保持清洁液体的贮槽
。
流体可流动通过静电放电保护组件
。
响应于将流体流动通过静电放电保护组件，可在管上产生静电电荷
。
静电电荷可从管通过导电缠绕件至导电线至共同接地源而放电
。
[0008]可能的优点可包括但不限于以下中的一者或多者
。
[0009]可降低来自流体传输线路的静电放电的危险，并且因此降低流体传输线路或化学机械抛光系统中的其他部件的损坏
。
绝缘管可容易地且以低成本制造
。
流动通过管的流体并无污染的额外风险
。
[0010]在附图和以下描述中阐述了一个或多个实施方式的细节在
。
其他方面
、
特征和优
点将从描述和附图以及从权利要求书而为显而易见的
。
附图说明
[0011]图1是抛光装置的抛光站的示例的示意性横截面图
。
[0012]图2是化学机械抛光装置的示例抛光站的示意性俯视图
。
[0013]图3是具有用于在化学机械抛光系统中的导管的静电放电保护组件的管的示意性局部横截面透视图
。
[0014]图
4A
是管的示意性横截面前视图
。
[0015]图
4B
是通过管的端的示意性横截面侧视图
。
[0016]在各种附图中类似的附图标记指示类似的元素
。
具体实施方式
[0017]化学机械抛光系统包括相当大量的流体传输线路，用于传输相当大量的流体，例如，去离子水
、
蒸气
、
氮气
。
例如，典型系统可包括流体传输线路，用于将浆料承载至抛光垫，用于将清洁液体承载至抛光垫以移除抛光碎屑，用于将加热的或冷却的流体承载至抛光垫以控制抛光工艺的温度，用于承载加压的气体用于气动控制承载头中的压力等等
。
在这些流体传输线路中建立的静电可通过摩擦充电或通过静电感应而造成
。
如果建立的静电变得太大，则可导致静电放电，从而损坏沿着流体传输线路的部件和管
。
具体而言，静电倾向于具体在承载例如蒸气的热气体的流体线路中发生
。
蒸汽和温度的结合可导致在并未使用蒸气的传统系统中未观察到的摩擦充电
。
[0018]用于静电耗散
(ESD)
管的传统方式是在管的内侧上放置导电层，例如，碳导电层
。
然而，涂覆管的内部的材料的粒子可通过流体承载至抛光系统，从而导致基板上的污染和缺陷
。
此外，抛光环境可具有喷溅的浆料而为潮湿且润湿的，所以在管的外部上的导电层可遭受氧化或环境耗损
。
[0019]可能适合的技术是使用聚合物管，所述聚合物管以导电材料缠绕，并且具有随后施加在导电材料上的热收缩管
。
随后导电材料可接地
。
[0020]图1和图2示出了化学机械抛光系统的抛光站
20
的示例
。
抛光站
20
包括可旋转盘状平台
24
，抛光垫
30
安置在平台
24
上
。
平台
24
可操作以围绕轴线
25
旋转
(
见图2中的箭头
A)。
例如，电机
22
可转动驱动轴
28
以旋转平台
24。
抛光垫
30
可以是具有外抛光层
34
和较软背衬层
32
的两层抛光垫
。
[0021]抛光站
20
可包括用于将抛光液体
42(
诸如研磨浆料
)
分配至抛光垫
30
上的
(
例如，在浆料传输臂
43
的端处的
)
供应口
40。
抛光液体
38
可从贮槽
44
例如通过泵传输通过流体传输线路
44。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种化学机械抛光组件，包括：化学机械抛光系统，包括用于支撑抛光垫的平台
、
用于支撑基板并使所述基板与所述抛光垫接触的承载头
、
以及用于导致平台与所述承载头之间的相对运动的电机；流体源；以及流体传输导管，所述流体传输导管用于将流体从所述流体源承载至所述化学机械抛光系统中，所述流体传输导管包括电气绝缘管；导电缠绕件，所述导电缠绕件从所述管的第一端至所述管的第二端围绕所述管的外部直径缠绕，所述导电缠绕件被配置成使静电放电流动；以及导电线，所述导电线附接至所述导电缠绕件第一端，所述导电线被配置成使所述静电放电从所述导电缠绕件流动至接地源
。2.
如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括用于保持抛光流体的贮槽，所述系统包括用于将所述抛光流体传输至所述抛光垫的分配器，并且所述流体传输导管将所述贮槽耦合至所述分配器
。3.
如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括清洁流体的源，所述系统包括用于将所述清洁流体传输至所述抛光垫的分配器
、
调节头或所述承载头，并且所述流体传输导管将所述流体源耦合至所述分配器
。4.
如权利要求3所述的组件，其中所述流体源包括用于产生蒸气的锅炉
。5.
如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括温度控制流体的源，所述系统包括用于将所述温度控制流体传输至所述抛光垫的分配器，并且所述流体传输导管将所述流体源耦合至所述分配器
。6.
如权利要求5所述的组件，其中所述流体源包括用于产生蒸气的锅炉
。7.
如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括压力线路，其中所述承载头包括一个或多个可加压腔室，并且所述流体传输导管将所述压力线路耦合至所述承载头
。8.
如权利要求1所述的组件，其中所述流体源包括压力线路，其中所述调节头包括一个或多个可加压腔室，并且所述流体传输导管将所述压力线路耦合至所述调节头
。9.
如权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：