基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置，其处理槽（１）由以下部分构成：矩形下部框体（２），具有在上表面上形成了第１基准面（１８）的多个连接构件（９），并以预定的间隔架设这些连接构件；支柱部件（４），下端被连接、立设在下部框体的４个拐角部；上部框体（３），４个拐角部被连接、设置在支柱部件上端部上；侧壁部件（１１），设置在以与支柱部件的高度尺寸相对应的间隔沿上下方向分离的下部框体和上部框体所构成的４个侧面上，在位于预定方向上的一对侧面中的一方形成有基板的送入口，在另一方上形成有上述基板的送出口；输送单元（２９），以第１基准面为基准而被安装，向着送出口输送从送入口送入到内部的基板；底部件（２１ａ、２１ｂ），堵塞下部框体的开口部分；顶板部件（２５），堵塞上部框体的开口部分。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用例如药液等处理液处理在处理槽内输送的基板的基板处理装置。
技术介绍
在液晶显示装置或半导体装置的制造工序中，具有蚀刻处理玻璃基板或半导体晶片等基板、在蚀刻处理后剥离处理作为掩模而使用的抗蚀剂、洗净处理进行过蚀刻处理和 剥离处理后的基板的这样的工序。这样的基板处理工序中采用一张张地输送基板并进行处 理的单张方式(枚葉方式)。在用单张方式处理基板的情况下，我们知道一边输送基板一边从淋浴喷嘴往基板 的上下表面或者上表面喷射处理液来进行处理的处理装置。这种方式的处理装置具有箱型 处理槽。具有输送辊的多个输送轴使其轴线与上述基板的输送方向正交、并且沿基板的输 送方向隔开预定的间隔、能够被旋转驱动地配置在上述处理槽内。因此，上述基板的下表面 用被旋转驱动的输送轴上设置的输送辊支承，在处理槽内沿预定的方向被输送。以往，上述处理槽用具有耐化学性的材料——例如聚氯乙烯等合成树脂制的板材 形成为箱型。并且，处理槽根据其大小改变板材的厚度，用该板材使处理槽具有不会因例如 处理槽内产生的环境气体的流动产生的风压等引起变形或者损伤的刚性。即，使处理槽具 有单体能耐用的刚性。但是最近，上述基板的大型化显著，用于液晶显示装置的基板有时大至2m见方 (2X2m)以上的尺寸。如果基板大型化，相应地处理槽也必须大型化。在使处理槽大型化的 情况下，为了使处理槽具备单体能耐用的刚性，必须使板材的厚度达数十mm厚度。但是，如果增加构成处理槽的板材的厚度使处理槽具备刚性的话，则有可能招致 处理槽的重量增加，有可能使从工厂出货等时的处理变得困难。而且，由于形成处理槽的板 材的面积变大，因此即使增加该板材的厚度也难以获得足够的刚性，存在受处理槽内产生 的气流等的影响反复变形、板材互相连接的部分受损的危险。因此，在专利文献1中提出了用加强用的框加强形成处理槽的板材，通过这样，即 使处理槽变大，也不用增加上述板材的厚度就能够具备刚性的处理装置的方案。日本特开2006-93339号公报通过使处理槽采用专利文献1所记载的结构，不用增加构成处理槽的板材的厚 度，也能够提高处理槽的刚性。但是，如果基板大型化，处理槽随着基板的大型化而大型化，因而与此相对应，设 置在处理槽内的输送轴也变长。即，设置在处理槽内的用来输送基板的输送单元不可避免 地大型化。如果输送单元大型化，则不仅以预定范围内的精度将该输送单元水平地设置在处 理槽内变得非常困难，而且进行这种设置有可能要花费很大的功夫。
技术实现思路
本专利技术就是要提供一种不用增加板材的厚度就能提高处理槽的刚性，同时能够精 度良好、并且容易地将输送基板的输送单元设置在处理槽内的基板处理装置。为了解决上述问题，本专利技术为具有处理槽，用来处理在该处理槽内输送的基板的 基板处理装置，其特征在于，上述处理槽具有矩形的下部框体，具有在上表面上形成了第 1基准面的多个连接构件，并以预定的间隔架设这些连接构件；支柱部件，下端部被连接、 立设在该下部框体的4个拐角部；上部框体，被形成为大小与上述下部框体大致相同的矩 形，4个拐角部被连接、设置在上述支柱部件的上端部上；侧壁部件，设置在以与上述支柱 部件的高度尺寸相对应的间隔沿上下方向分离的上述下部框体和上述上部框体所构成的4 个侧面上，在位于预定方向上的一对侧面中的一方形成有上述基板的送入口，在另一方形 成有上述基板的送出口 ；多个连接构件，以预定的间隔被架设在上述下部框体上、在各自的 上表面形成有第1基准面；输送单元，以上述连接构件的第1基准面为基准而被安装，向着 上述送出口输送从上述送入口送入到内部的基板；底部件，堵塞上述下部框体的开口部分； 以及顶板部件，堵塞上述上部框体的开口部分。专利技术的效果如果采用本专利技术，不仅能够用下部框体和上部框体加强处理槽，而且 以架设在下部框体上的多根连接构件的上表面作为第1基准面，以该第1基准面为基准设 置输送单元，因此能够以高精度、并且容易地将输送单元设置到处理槽内。附图说明图1为表示本专利技术一个实施形态的处理装置的纵剖视图；图2为图1所示处理装置的横剖视图；图3为处理槽的分解透视图；图4为部分省略了的处理槽的组装状态的透视图；图5为放大表示输送单元的宽度方向的一端部的主视图；图6为放大表示输送单元的宽度方向的中央部分的主视图。标记说明1.处理槽；2.下部框体；3.上部框体；6.排气口体；11.侧壁部件；14.送入口 ； 15.送出口 ； 16.输送单元；18.第1基准面；19.第2基准面；21a、21b.底部件；25.顶板部 件；26.设置框(被设置部件)；29.输送单元；29a、29b.第1、第2单元部分；37.输送轴； 37a.轴部；42.联轴器具体实施例方式下面参照附图说明本专利技术的一个实施形态。图1为本专利技术的处理装置的纵剖视图，该处理装置具备处理槽1。该处理槽1如图3所示具有框体5，所述框体5由矩形下部框体2、大小与该下部框体2大致相同的矩形 上部框体3，以及竖设在上述下部框体2的4个拐角部的上面、上端与上述上部框体3的4 个拐角的下面连接的支柱部件4构成。构成该框体5的上述下部框体2用3根实心的棱柱形连接构件9连接沿预定方向 以预定的间隔隔开的一对横梁2a的中间部和两端部而形成。上述下部框体2的一对横梁2a、上述上部框体3的各构件以及支柱部件4分别用由聚氯乙烯等耐化学性的合成树脂构成的筒状部件形成。另外，上述横梁2a的两端开口被堵住。上述下部框体2的横梁2a的内部空间与形成上述上部框体3的4个部件3a的内 部空间通过上述支柱部件4的内部空间而连通。即，形成框体5的部件中的除上述连接构 件9以外部件的内部空间互相连通着。在上述上部框体3的预定方向一端部的外面，设置有与上述内部空间连通的排气 口体6 (表示在图1中)。构成排气单元的排气鼓风机(图中没有表示)被连接在该排气口 体6上。如图3和图4所示，在上述下部框体2和上部框体3的内周面上，开口形成有排气 Π 8。因此，当上述排气鼓风机工作时，上述处理槽1内的环境气体从上述排气口 8被吸 弓丨到形成框体5的部件的内部空间中，通过与上述排气口体6连接的排气鼓风机排出到外部。另外，将框体5的设置了排气口体6的方向作为处理槽1的宽度方向。上述框体5的4个外周面——即下部框体2与上部框体3之间的开口部分别用由 聚氯乙烯等耐化学性的合成树脂形成的板状侧壁部件11堵塞。在覆盖上述框体5的上部框体3的设置了上述排气口体6的上述预定方向的侧面 的一对侧壁部件11上，形成有一对开口 13，该开口 13用能够观察处理槽1内部的透明的窗 部件12堵塞。在与上述处理槽1的宽度方向交叉的方向上设置的一对侧壁部件11的一个上，形 成缝隙状的送入口 14，在另一个上形成同样为缝隙状的送出口 15。例如液晶面板中使用的 玻璃制的基板W (表示在图6中)从上述送入口 14送入上述处理槽1内。送入到处理槽1 内的基板W像后述那样用设置在处理槽1内的输送单元29输送往上述送出口 15。基板W 的输送方向用箭头F表示在图2中。如图5和图6所示，上述下部框体2的3根连接构件9中的位于宽度方向两端的2 根连接构件9的上表面和设置在位于中央的连接构件9的上表面上的基准板10的上表面 分别形成呈同一个平面的第1基准面18，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，具有处理槽，用来处理在该处理槽内输送的基板，其特征在于，上述处理槽具有：矩形的下部框体，具有在上表面上形成了第１基准面的多个连接构件，并以预定的间隔架设这些连接构件；支柱部件，下端部被连接、立设在该下部框体的４个拐角部；上部框体，被形成为大小与上述下部框体大致相同的矩形，４个拐角部被连接、设置在上述支柱部件的上端部上；侧壁部件，设置在以与上述支柱部件的高度尺寸相对应的间隔沿上下方向分离的上述下部框体和上述上部框体所构成的４个侧面上，在位于预定方向上的一对侧面中的一方形成有上述基板的送入口，在另一方形成有上述基板的送出口；输送单元，以上述连接构件的第１基准面为基准而被安装，向着上述送出口输送从上述送入口送入到内部的基板；底部件，堵塞上述下部框体的开口部分；以及顶板部件，堵塞上述上部框体的开口部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：末吉秀树，宫迫久显，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]