一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯技术方案

本实用新型专利技术公开了一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯，其中一种防眩光的光学系统包括用于产生光路的光源

【技术实现步骤摘要】
一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯


[0001]本技术涉及舞台灯
，更具体地，涉及一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯
。

技术介绍

[0002]放大镜头及调焦镜头在舞台灯中属于常见并运用较广的模组，例如，通过将放大镜头沿光路进行往
、
返运动，可以使目标平面上的光斑进行放大或缩小变换；通过使调焦镜头沿光路移动来改变光斑的清晰度
。
基于此，再于灯体内加入图案模组后，效果会更加丰富，使原本只是平面静态的图案变得更加生动
。
[0003]效果镜片通常安装于调焦镜头与放大镜头之间，为了实现舞台灯投射出小角度光束，需要将所述放大镜头紧贴调焦镜头，而此时放大镜头则要穿过效果镜片，为了避免放大镜头与效果镜片发生碰撞，只能将放大镜头的基板尺寸变小；然而，在舞台灯需要投射出大角度光束时，这样的方案则会导致有部分光线未通过放大镜头而直接进入出光镜头，这些光线的投射角度与主光束的投射角度存在偏差，形成眩光，使舞台效果大打折扣
。

技术实现思路

[0004]本技术为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，提供一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯，有效防止眩光的产生，改善光斑亮度不均的问题
。
[0005]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种防眩光的光学系统及具有其的舞台灯，其中，一种防眩光的光学系统，包括用于产生光路的光源
、
以及沿光路出射方向依次设置的遮光组件
、
放大组件
、
出光镜头，所述光路具有主光轴，所述放大组件可沿所述主光轴进行往
、
返运动，所述放大组件包括放大镜头及用于安装固定所述放大镜头的第一基板，所述遮光组件具有遮挡杂光的第一状态及允许所述放大组件自由通过的第二状态，当所述遮光组件处于所述第一状态时，经过所述遮光组件的光束投射于所述第一基板外周缘所限定的范围内
。
[0006]通过设置所述遮光组件，当所述遮光组件处于所述第一状态时，阻挡所述第一基板外周缘以外的杂光，使得进入所述出光镜头的光线均来自于所述放大镜头，在所述放大组件的工作过程中，光线的角度变换表现一致，不会在目标平面形成明显眩光；而当所述放大组件需要运动至不同位置时，所述遮光组件可以切换至所述第二状态，允许所述放大组件自由通过，使所述放大组件尽可能地靠近所述光源，使得光学系统的结构更紧凑，且整个光学系统更加灵活，便于操作
。
[0007]进一步地，所述遮光组件在所述光路中的位置固定
。
通过将所述遮光组件固定在所述光路中的一个特定位置，方便操作者根据所述放大组件的运动轨迹，来计算并预设所述遮光组件的开合度，在光学系统的运行过程中使得所述遮光组件能始终遮挡或吸收杂光，保证光学系统在目标平面所投射光斑质量的稳定性
。
[0008]进一步地，还包括平行于所述主光轴设置的第一侧板和第二侧板，所述第一侧板
安装有供所述放大组件滑动连接的滑轨，所述遮光组件固定安装于所述第二侧板上
。
通过将所述放大组件与所述遮光组件分别设置在两个不同的侧板上，使两个组件的运动相互独立，从而保证所述放大组件在滑动过程中不被所述遮光组件阻挡
。
[0009]进一步地，所述遮光组件包括传动机构
、
电机及至少2片挡光片，所述挡光片在所述电机与所述传动机构的配合带动下，进行平移或者摆动，使所述遮光组件在所述第一状态及所述第二状态中切换
。
当所述挡光片是通过平移运动（即采用拉帘的方式）来进行遮挡杂光时，在所述电机的驱动下，至少2片所述挡光片相向平移后，使所述遮光组件处于所述第一状态，当所述挡光片朝相互远离的方向平移后，使所述遮光组件处于第二状态；而当所述挡光片使通过摆动来实现遮挡杂光时，在所述电机的驱动下，至少2片所述挡光片摆动，即所述挡光片的自由端相向靠近使所述遮光组件切换至所述第一状态，反之，所述挡光片的自由端相互远离使所述遮光组件切换至所述第二状态
。
[0010]进一步地，所述挡光片通过同一电机驱动
。
这样可以仅设置1个电机即可控制多片所述挡光片的运动，减小所述遮光组件的体积
。
[0011]进一步地，所述挡光片的自由端靠近所述光路一侧具有允许光线自由通过的弧形通光缺口，当所述遮光组件处于所述第一状态时，多片所述挡光片的所述弧形通光缺口共同组合形成一个圆形的通光孔
。
与所述放大镜头的入光面形状相适配
[0012]进一步地，所述挡光片的固定端靠近所述光路一侧设置有避让缺口，当所述遮光组件处于所述第二状态时，所述避让缺口允许所述放大组件自由穿过
。
所述避让缺口的设置，使多个所述挡光片之间的距离即使较短，也可以给所述放大组件提供足够的通过空间，进一步优化所述遮光组件的结构，减小体积
。
[0013]进一步地，所述遮光组件还包括限制所述挡光片运动使其处于所述第一状态的第一挡杆，和
/
或限制所述挡光片运动使其处于所述第二状态的第二挡杆
。
这样的设置，可以使所述遮光组件更精准地定位在所述第一状态的位置和
/
或所述第二状态的位置，同时也避免了所述挡光片意外移出所述遮光组件而造成损坏的情况
。
[0014]进一步地，还包括位于所述遮光组件与所述光源之间的调焦组件及固定安装于所述遮光组件与所述调焦组件之间的效果镜片，所述效果镜片可选择切入所述光路中并通过拦截所述光路来产生效果，所述放大组件在所述调焦组件与所述出光镜头之间进行往
、
返运动
。
通过增加所述效果镜片，使光束从所述调焦组件出射后进入所述效果镜片，产生效果的光束通过所述遮光组件过滤杂光后进入所述放大组件，最后从所述出光镜头出射，在目标平面形成一个无明显眩光的光斑
。
与此同时，当光学系统需要投射出小角度光斑时，需要将所述放大组件紧靠所述调焦组件共同产生光学效果，此时可将所述效果镜片切出光路，不阻碍所述放大组件的运动
。
[0015]本技术还提供一种舞台灯，具有前述任一种所述光学系统，还包括用于容纳安装所述光学系统的灯头，所述灯头具有出光口，所述出光镜头盖设于所述出光口，所述光源固定安装于所述灯头远离所述出光口的底部
。
附图说明
[0016]图1是本技术第一实施例中所述防眩光的光学系统拆除第二侧板后的结构示意图
。
[0017]图2是本技术第一实施例中所述防眩光的光学系统拆除第二侧板后的爆炸结构示意图
。
[0018]图3是本技术第一实施例中所述遮光组件的爆炸结构示意图
。
[0019]图4是本技术第一实施例中所述遮光组件分别处于第一状态和第二状态时的结构示意图
。
[0020]图5是本技术第二实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种防眩光的光学系统，其特征在于，包括用于产生光路的光源
(200)、
以及沿光路出射方向依次设置的遮光组件
(100)、
放大组件
(300)、
出光镜头
(400)
，所述光路具有主光轴，所述放大组件
(300)
可沿所述主光轴进行往
、
返运动，所述放大组件
(300)
包括放大镜头
(310)
及用于安装固定所述放大镜头
(310)
的第一基板
(320)
，所述遮光组件
(100)
具有遮挡杂光的第一状态及允许所述放大组件
(300)
自由通过的第二状态，当所述遮光组件
(100)
处于所述第一状态时，经过所述遮光组件
(100)
的光束投射于所述第一基板
(320)
外周缘所限定的范围内
。2.
根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述遮光组件
(100)
在所述光路中的位置固定
。3.
根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，还包括平行于所述主光轴设置的第一侧板
(500)
和第二侧板，所述第一侧板
(500)
安装有供所述放大组件
(300)
滑动连接的滑轨
(530)
，所述遮光组件
(100)
固定安装于所述第二侧板上
。4.
根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述遮光组件
(100)
包括传动机构
(120)、
电机
(130)
及至少2片挡光片
(110)
，所述挡光片
(110)
在所述电机
(130)
与所述传动机构
(120)
的配合带动下，进行平移或者摆动，使所述遮光组件
(100)
在所述第一状态及所述第二状态中切换
。5.
根据权利要求4所述的光学系统，其特征在于，所述挡光片
(110)
通过同一电机
(130)
驱动
。6.
根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋伟楷，请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：广州市浩洋电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：