一种用于蒸发镀膜的坩埚支架制造技术

本实用新型专利技术提供一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，该坩埚支架包括边缘固定有定位柱的底托、底托上方的托盘、及位于底托与托盘之间的弹性件。通过该定位柱对坩埚的位置进行限位，定位柱与坩埚外壁紧密贴合保证坩埚不出现歪斜，防止其出现左右偏移，弹性件提供的弹力使得坩埚始终处在上端限位处，避免坩埚高度变化引起蒸镀不均匀的问题。定位柱及弹性件的双重辅助下，保证坩埚一次性放入到位，不需要多次调整坩埚的高度及定位。在实际应用中，该坩埚支架能够有效避免坩埚高度差异导致的蒸发路径遮挡问题、以及坩埚外斜导致的蒸发路径差异及碘化铊分布差异。及碘化铊分布差异。及碘化铊分布差异。

【技术实现步骤摘要】
一种用于蒸发镀膜的坩埚支架


[0001]本技术涉及蒸发镀膜
，特别是涉及一种用于蒸发镀膜的坩埚支架。

技术介绍

[0002]平板探测器(FPD)中使用的数字X射线探测器将X射线转换为电子数据，计算机可以将其处理并快速转换为图像。这些平板探测器首先通过闪烁体介质将X射线转换为可见光，然后将该可见光通过光电二极管或TFT转换为电荷，碘化铊则是闪烁体最常见的组成材料，通常以蒸发镀膜的方式实现掺杂。以碘化铊为例，在整个蒸发过程中，需要对碘化铊材料的精确速率严格控制，因为闪烁体的性能对碘化铊掺杂水平的微小变化高度敏感，最终影响到整个平板探测器的检测性能。
[0003]现有的用于蒸镀碘化铊的坩埚放置于支架时由于缺少限位机构导致位置偏差大，出现碘化铊的蒸发路径发生偏移及蒸发过程部分碘化铊部分被挡住的情况，从而影响闪烁体的掺杂并导致性能出现差异。
[0004]因此，需要提出一种坩埚支架，以辅助固定坩埚保证坩埚位置的稳定性与一致性，从而提高碘化铊在闪烁体成膜中的掺入稳定性。

技术实现思路

[0005]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，用于解决现有技术中坩埚放置于支架时位置偏差大的问题。
[0006]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，所述坩埚支架包括：
[0007]底托，所述底托的边缘固定有至少三根定位柱，所述定位柱与所述底托垂直；
[0008]托盘，所述托盘位于底托上方并与定位柱垂直，用于放置坩埚，所述定位柱紧贴于坩埚外壁；
[0009]弹性件，所述弹性件位于底托与托盘之间，用于提供给托盘向上的弹力，使得坩埚处于上端限位处。
[0010]优选地，所述定位柱的顶部设有限位件，以对坩埚进行阻挡，使其处于上端限位处。
[0011]优选地，所述弹性件为弹簧。
[0012]优选地，所述弹簧位于底托上，且所述定位柱紧贴于弹簧外壁。
[0013]优选地，所述弹簧套装在定位柱上，所述弹簧的数量与定位柱的数量相同。
[0014]优选地，所述定位柱还竖直贯穿所述托盘边缘，从而对托盘也形成限位。
[0015]优选地，所述底托的侧壁还设有卡箍，用于将所述坩埚支架固定在蒸镀设备的蒸发源位置处。
[0016]优选地，所述底托的下方竖直固定有把手，以手握把手移动所述坩埚支架。
[0017]优选地，所述定位柱采用螺栓与底托固定。
[0018]如上所述，本技术提供一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，该坩埚支架包括边缘固定有定位柱的底托、底托上方的托盘、及位于底托与托盘之间的弹性件。通过该定位柱对坩埚的位置进行限位，定位柱与坩埚外壁紧密贴合保证坩埚不出现歪斜，防止其出现左右偏移，弹性件提供的弹力使得坩埚始终处在上端限位处，避免坩埚高度变化引起蒸镀不均匀的问题。定位柱及弹性件的双重辅助下，保证坩埚一次性放入到位，不需要多次调整坩埚的高度及定位。在实际应用中，该坩埚支架能够有效避免坩埚高度差异导致的蒸发路径遮挡问题、以及坩埚外斜导致的蒸发路径差异及碘化铊分布差异。定位柱独立加工，采用非焊接的固定方式可以灵活拆卸，变形后可以单独替换，避免整体损耗；装炉过程需要无需手动拧底部螺丝来调整坩埚高度耗时耗力，可以快速装料。
附图说明
[0019]图1显示为本技术中放置坩埚的坩埚支架整体结构示意图。
[0020]图2显示为本技术中未放置坩埚的坩埚支架整体结构示意图。
[0021]图3显示为本技术中底托的俯视结构示意图。
[0022]元件标号说明
[0023]111
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定位柱
[0024]112
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坩埚
[0025]113
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托盘
[0026]114
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弹性件
[0027]115
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底托
[0028]116
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把手
[0029]120
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卡箍
具体实施方式
[0030]以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。
[0031]如在详述本技术实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本技术保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
[0032]为了方便描述，此处可能使用诸如“之下”、“下方”、“低于”、“下面”、“上方”、“上”等的空间关系词语来描述附图中所示的一个元件或特征与其他元件或特征的关系。将理解到，这些空间关系词语意图包含使用中或操作中的器件的、除了附图中描绘的方向之外的其他方向。此外，当一层被称为在两层“之间”时，它可以是所述两层之间仅有的层，或者也可以存在一个或多个介于其间的层。本文使用的“介于
……
之间”表示包括两端点值。
[0033]在本申请的上下文中，所描述的第一特征在第二特征“之上”的结构可以包括第一和第二特征形成为直接接触的实施例，也可以包括另外的特征形成在第一和第二特征之间的实施例，这样第一和第二特征可能不是直接接触。
[0034]需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，遂图示中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，其组件布局型态也可能更为复杂。
[0035]如图1至图3所示，本技术提供一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，具体包括：
[0036]底托115，所述底托115的边缘固定有至少三根定位柱111，所述定位柱111与所述底托115垂直；
[0037]托盘113，所述托盘113位于底托115上方并与定位柱111垂直，用于放置坩埚112，所述定位柱111紧贴于坩埚112外壁；
[0038]弹性件114，所述弹性件114位于底托115与托盘113之间，用于提供给托盘113向上的弹力，使得坩埚112处于上端限位处。
[0039]具体地，通过设置定位柱111对坩埚112的位置进行限位，定位柱111与坩埚112外壁紧密贴合保证坩埚112不出现歪斜，防止其出现左右偏移，对于定位柱111的数量应至少为3个，否则无法进行限位。对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于蒸发镀膜的坩埚支架，其特征在于，所述坩埚支架包括：底托，所述底托的边缘固定有至少三根定位柱，所述定位柱与所述底托垂直；托盘，所述托盘位于底托上方并与定位柱垂直，用于放置坩埚，所述定位柱紧贴于坩埚外壁；弹性件，所述弹性件位于底托与托盘之间，用于提供给托盘向上的弹力，使得坩埚处于上端限位处。2.根据权利要求1所述的坩埚支架，其特征在于：所述定位柱的顶部设有限位件，以对坩埚进行阻挡，使其处于上端限位处。3.根据权利要求1所述的坩埚支架，其特征在于：所述弹性件为弹簧。4.根据权利要求3所述的坩埚支架，其特征在于：所述弹簧位于底托上，且...

【专利技术属性】
技术研发人员：王潜，王浩，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：新型
国别省市：