处理液流通方法及处理液供给装置制造方法及图纸

技术编号:39583534 阅读:13 留言:0更新日期:2023-12-03 19:32
本发明专利技术的处理液流通方法包含步骤

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】处理液流通方法及处理液供给装置


[0001]本专利技术涉及一种处理液流通方法及处理液供给装置


技术介绍

[0002]专利文献1中记载的液体处理装置具备槽

循环线



过滤器

背压阀及控制部

槽贮存处理液

循环线使从槽输送的处理液返回到槽

泵形成循环线中的处理液的循环流

过滤器设置在循环线中泵的下游侧

背压阀设置在循环线中的过滤器的下游侧

控制部控制泵及背压阀

而且,控制部以在开始循环线中的处理液的循环时,使泵的喷出压力依第1压力立即上升,经过规定时间后,泵的喷出压力增加到比第1压力大的第2压力的方式,控制泵的喷出压力

[0003]通过以泵的喷出压力成为第1压力的方式进行控制而开始处理液的循环,能将施加在过滤器的上游侧与下游侧之间的差压抑制为较小的差压

结果,能抑制紧接于开始处理液的循环后,因泵的喷出压力而异物
(
微粒
)
穿过过滤器的情况

[0004][

技术介绍
文献
][0005][
专利文献
][0006]专利文献1:日本专利特开
2019

41039
号公报

技术实现思路

[0007][
专利技术所要解决的问题
][0008]本案的专利技术者对通过与专利文献1所记载的液体处理装置不同的方法减少处理液中包含的微粒的技术进行了深入研究

[0009]本专利技术的目的在于提供一种能有效地减少处理液中包含的微粒的处理液流通方法及处理液供给装置

[0010][
解决问题的技术手段
][0011]根据本专利技术的一方面,在处理液流通方法中,使供给到对衬底喷出处理液的喷嘴的所述处理液流通

处理液流通方法包含监视步骤

驱动步骤及流通步骤

在监视步骤中,监视第1压力与第2压力,且所述第1压力表示配置在第1配管且捕捉所述处理液中包含的微粒的过滤器的一次侧的压力,所述第2压力表示所述过滤器的二次侧的压力

在驱动步骤中,驱动配置在比所述过滤器上游并将所述处理液送出到所述第1配管的泵

在流通步骤中,在驱动所述泵的状态下,通过在比所述过滤器下游的位置处打开关闭状态的所述第1配管的流路,而使所述处理液在所述第1配管中流通

所述流通步骤包含差压调整步骤

在差压调整步骤中,基于所述第1压力及所述第2压力的监视结果,使打开所述第1配管的流路后的所述第1压力与所述第2压力的差压,小于打开所述第1配管的流路前的所述第1压力与所述第2压力的差压

[0012]在本专利技术的一方面中,优选为所述第1配管的一端及另一端连接于贮存所述处理液的处理液槽

在所述流通步骤中,优选为所述处理液在所述第1配管中循环

在所述差压
调整步骤中,优选为通过基于所述第1压力及所述第2压力的监视结果调整所述过滤器的二次侧的压力,而使打开所述第1配管的流路后的所述差压小于打开所述第1配管的流路前的所述差压

[0013]在本专利技术的一方面中,优选为处理液流通方法在所述驱动步骤之后且在所述流通步骤之前还包含循环步骤,所述循环步骤通过打开从所述第1配管延伸到所述处理液槽的第2配管的流路,而使所述处理液在所述第2配管中循环

[0014]在本专利技术的一方面中,优选为在所述循环步骤之后且在所述流通步骤之前还包含第1排液步骤,所述第1排液步骤将所述处理液排出到从所述过滤器延伸的第1排液配管

[0015]在本专利技术的一方面中,优选为在所述流通步骤中,将设定于所述泵的目标输出值设定为比在所述第2配管中使所述处理液循环时设定于所述泵的目标输出值大的值

[0016]在本专利技术的一方面中,优选为所述流通步骤包含将所述处理液排出到从所述第1配管延伸的第2排液配管的第2排液步骤

[0017]在本专利技术的一方面中,优选为在所述差压调整步骤中,以使打开所述第1配管的流路后的所述差压进入规定范围内的方式调整所述差压

[0018]根据本专利技术的另一方面,处理液供给装置向对衬底喷出处理液的喷嘴供给所述处理液

处理液供给装置具备第1配管

过滤器

第1压力检测部

第2压力检测部



流量调整机构及控制部

第1配管中流动着所述处理液

过滤器配置在所述第1配管,捕捉所述处理液中包含的微粒

第1压力检测部检测表示所述过滤器的一次侧的压力的第1压力

第2压力检测部检测表示所述过滤器的二次侧的压力的第2压力

泵配置在比所述过滤器上游并将所述处理液送出到所述第1配管

流量调整机构在比所述过滤器下游处配置于所述第1配管,调整流过所述第1配管的所述处理液的流量

控制部控制所述流量调整机构

所述控制部驱动停止状态的所述泵

控制部以在驱动所述泵的状态下,打开关闭状态的所述第1配管的流路的方式,控制所述流量调整机构

控制部以基于所述第1压力及所述第2压力的监视结果,使打开所述第1配管的流路后的所述第1压力与所述第2压力的差压,小于打开所述第1配管的流路前的所述第1压力与所述第2压力的差压方式,控制所述流量调整机构

[0019][
专利技术的效果
][0020]根据本专利技术的处理液流通方法及处理液供给装置,能有效地减少处理液中包含的微粒

附图说明
[0021]图1是表示本专利技术的实施方式1的衬底处理装置的内部的俯视图

[0022]图2是表示实施方式1的处理单元的内部的侧视图

[0023]图3是表示实施方式1的处理液供给装置的构成的图

[0024]图4是表示实施方式1的衬底处理方法的流程图

[0025]图5是表示实施方式1的处理液供给装置的内循环准备动作的流程图

[0026]图6是表示实施方式1的处理液供给装置的内循环准备动作的图

[0027]图7是表示实施方式1的处理液供给装置的内循环动作的图

[0028]图8是表示实施方式1的处理液供给装置的过滤器排液动作的图

[0029]图9是表示实施方式1本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种处理液流通方法,用来使供给到对衬底喷出处理液的喷嘴的所述处理液流通;且包含以下步骤:监视步骤,监视第1压力与第2压力,且所述第1压力表示配置在第1配管且捕捉所述处理液中包含的微粒的过滤器的一次侧的压力,所述第2压力表示所述过滤器的二次侧的压力;驱动步骤,驱动配置在比所述过滤器上游并将所述处理液送出到所述第1配管的泵;及流通步骤,在驱动所述泵的状态下,通过在比所述过滤器下游的位置打开关闭状态的所述第1配管的流路,而使所述处理液在所述第1配管中流通;且所述流通步骤包含差压调整步骤,且所述差压调整步骤基于所述第1压力及所述第2压力的监视结果,使打开所述第1配管的流路后的所述第1压力与所述第2压力的差压,小于打开所述第1配管的流路前的所述第1压力与所述第2压力的差压
。2.
根据权利要求1所述的处理液流通方法,其中所述第1配管的一端及另一端连接于贮存所述处理液的处理液槽;在所述流通步骤中,所述处理液在所述第1配管中循环;在所述差压调整步骤中,通过基于所述第1压力及所述第2压力的监视结果调整所述过滤器的二次侧的压力,而使打开所述第1配管的流路后的所述差压小于打开所述第1配管的流路前的所述差压
。3.
根据权利要求2所述的处理液流通方法,其中在所述驱动步骤之后且所述流通步骤之前还包含循环步骤,且所述循环步骤通过打开从所述第1配管延伸到所述处理液槽的第2配管的流路,而使所述处理液在所述第2配管中循环
。4.
根据权利要求3所述的处理液流通方法,其中在所述循环步骤之后且所述流通步骤之前还包含第1排液步骤,所述第1排液步骤将所述处理液排...

【专利技术属性】
技术研发人员:火口友美
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团
类型:发明
国别省市:

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