【技术实现步骤摘要】
一种引线框架及其制备方法
[0001]本专利技术属于集成电路封装
,具体涉及一种引线框架及其制备方法
。
技术介绍
[0002]长期以来,集成电路封装过程中的可靠性主要取决于塑封料和引线框架的结合力,为满足高散热性
、
高可靠性,外露散热片的封装形式逐步需要做
MSL1
可靠性,但是做双面粗化对封装来说外露散热片上面溢料非常难去除,不仅影响外观,还影响外露散热片的散热效果,故,逐步衍生出单面粗化工艺
。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术中存在的技术问题,本专利技术的目的在于提供一种引线框架及其制备方法,提高了引线框架在封装过程中的可靠性,从而稳定达到
MSL1
水平,使封装后的集成电路在使用过程中不会产生分层,集成电路的使用寿命可得到保证
。
[0004]为实现上述目的,达到上述技术效果,本专利技术采用的技术方案为:
[0005]一种引线框架的制备方法,包括以下步骤:
[0006]将冲压用引线框架铜材通过除油
、
酸洗
、
水洗
、
烘干
、
背面压膜
、
除油
、
正面微腐蚀
、
冲压
、
正面表面处理
、
成型得到所需引线框架
。
[0007]进一步的,所述除油使用的除油液为氢氧化钠,浓度为
30
~
40g ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.
一种引线框架的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将冲压用引线框架铜材通过除油
、
酸洗
、
水洗
、
烘干
、
背面压膜
、
除油
、
正面微腐蚀
、
冲压
、
正面表面处理
、
成型得到所需引线框架
。2.
根据权利要求1所述的一种引线框架的制备方法,其特征在于,所述除油使用的除油液为氢氧化钠,浓度为
30
~
40g/L
,温度为
50
~
55℃。3.
根据权利要求1所述的一种引线框架的制备方法,其特征在于,所述酸洗使用的酸洗溶液为硫酸,浓度为5~8%,温度为
20
~
30℃。4.
根据权利要求1所述的一种引线框架的制备方法,其特征在于,水洗温度为
40
~
45℃
;烘干温度为
110
~
120℃
,时间为
5s。5.
根据权利要求1所述的一种引线框架的制备方法,其特征在于,背面压膜的过程为:将烘干后的冲压用引线框架铜材背面利用压膜机单面贴膜,膜材质为:聚酯薄膜
PET
,
180
°
剥离力:
15
~
25gf
,拉伸强度:
≥60Mpa
,伸长率:
技术研发人员:穆全寿,王永辉,陈国岚,李银欢,巨晓峰,
申请(专利权)人:华天科技,
类型:发明
国别省市:
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