【技术实现步骤摘要】
一种半导体材料加工用双头机床
[0001]本专利技术涉及一种半导体材料加工用双头机床,属于半导体材料加工设备的
。
技术介绍
[0002]目前的半导体材料大多采用双头机床进行加工,双头机床在对半导体材料进行加工时,其拥有的两个刀头对工件的两面同时进行加工
。
[0003]在双头机床加工的过程中,由于有两个刀头对半导体材料进行加工,因此半导体材料的加工面的加工碎屑很多,机床上的常规清理散热措施对半导体材料的两个加工面的处理能力有限,会导致清理不彻底,堆积的碎屑会影响到双头机床刀具的后续加工精度与成品质量,因此急需提出一种新型的双头机床以进行改善
。
技术实现思路
[0004]本专利技术所要解决的技术问题在于:提供一种半导体材料加工用双头机床,它改善了现有技术中双头机床加工半导体材料过程中半导体材料加工面清理不彻底的问题,使成品质量得到提升
。
[0005]本专利技术所要解决的技术问题采取以下技术方案来实现:
[0006]一种半导体材料加工用双头机床,包括机架,所述机架上具有夹持机构和加工机构,所述机架上还具有清理机构,所述清理机构包括;液洗装置,设置于所述机架上;风洗装置,设置于所述机架上,所述风洗装置与所述液洗装置相对设置;固定装置,设置于所述机架上,所述固定装置包括第一固定组件和转动组件,所述第一固定组件能够将从所述夹持机构上取下的工件的一端固定,工件的固定端位于风洗装置一侧,工件未被所述第一固定组件夹持的部分位于所述液洗装置一侧;当所 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种半导体材料加工用双头机床,包括机架
(100)
,所述机架
(100)
上具有夹持机构和加工机构,其特征在于:所述机架
(100)
上还具有清理机构,所述清理机构包括;液洗装置,设置于所述机架
(100)
上;风洗装置,设置于所述机架
(100)
上,所述风洗装置与所述液洗装置相对设置;固定装置,设置于所述机架
(100)
上,所述固定装置包括第一固定组件和转动组件,所述第一固定组件能够将从所述夹持机构上取下的工件
(200)
的一端固定,工件
(200)
的固定端位于风洗装置一侧,工件
(200)
未被所述第一固定组件夹持的部分位于所述液洗装置一侧;当所述第一固定组件将工件
(200)
一端固定时,所述转动组件能够带动工件
(200)
未被所述第一固定组件夹持的部分转动至所述风洗装置一侧
。2.
根据权利要求1所述的一种半导体材料加工用双头机床,其特征在于:所述第一固定组件包括固定驱动源
(40)、
固定座
(41)
以及活动座
(42)
,所述固定座
(41)
固定于所述机架
(100)
上,所述固定驱动源
(40)
的输出端与所述活动座
(42)
连接,所述固定驱动源
(40)
能够带动所述活动座
(42)
靠近所述固定座
(41)
以使工件
(200)
固定
。3.
根据权利要求2所述的一种半导体材料加工用双头机床,其特征在于:所述转动组件包括转动驱动源
(50)、
上转动件
(51)
以及下转动件
(52)
,所述上转动件
(51)
转动连接于所述活动座
(42)
上,所述下转动件
(52)
转动连接于所述固定座
(41)
上,所述转动驱动源
(50)
的输出端与所述下转动件
(52)
连接;当所述活动座
(42)
靠近所述固定座
(41)
一定距离,工件
(200)
被固定在所述上转动件
(51)
和所述下转动件
(52)
之间,此时所述转动驱动源
(50)
能够带动所述下转动件
(52)
转动以使与工件
(200)
和所述上转动件
(51)
整体同步转动
。4.
根据权利要求3所述的一种半导体材料加工用双头机床,其特征在于:所述固定装置还包括第二固定组件和联动组件,所述转动组件带动工件
(200)
转动到位后,通过所述联动组件带动所述第二固定组件固定工件
(200)
未被第一固定组件夹持的部分,当所述第二固定组件固定工件
(200)
时,所述固定驱动源
(40)
驱动所述活动座
(42)
远离固定座
(41)
一定距离后所述上转动件
(51)
与工件
(200)
分离
。5.
根据权利要求4所述的一种半导体材料加工用双头机床,其特征在于:所述第固定二组件包括上弹性夹持件
(61)
和下弹性夹持件
(62)
;所述联动组件包括上联动板
(70)、
上联动齿轮
(71)、
下联动板
(72)
以及下联动齿轮
(73)
,所述上联动板
(70)
与所述上弹性夹持件
(61)
连接,所述下联动板
(72)
与所述下弹性夹持件
(62)
连接;所述活动座
(42)
开设有活动槽
(421)
,所述上联动板
(70)<...
【专利技术属性】
技术研发人员:邵永杰,刘杰,郑鹏伟,
申请(专利权)人:杭州致甸工业有限公司,
类型:发明
国别省市:
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