反应装置制造方法及图纸

本发明专利技术的反应装置具备具有直体部的反应器

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反应装置、乙烯系聚合物的制造方法、控制装置及搅拌装置


[0001]本专利技术涉及反应装置
、
乙烯系聚合物的制造方法
、
控制装置及搅拌装置
。

技术介绍

[0002]专利文献1中揭示一种具备内部可流通冷媒的挡板及蜿蜒配管的聚合装置
。
专利文献2中揭示一种具备内部可流通冷媒的挡板及线圈状冷却管的聚合装置
。
专利文献3中揭示一种树脂合成装置，该树脂合成装置具备内部可流通热介质的挡板
、
以及具有螺旋带叶片及锚叶片的搅拌单元
。[

技术介绍
文献
][
专利文献
][
专利文献
1]日本专利特开平7‑
233202
号公报
[
专利文献
2]日本专利特开平7‑
233206
号公报
[
专利文献
3]日本专利特开
2013
‑
151621
号公报

技术实现思路

[0003]本专利技术的第1实施方式中提供一种反应装置
。
所述反应装置例如具备具有筒状的直体部的反应器
。
所述反应装置例如具备可旋转地构成的搅拌轴
。
在所述反应装置中，搅拌轴的一部分配置在直体部的内部
。
所述反应装置例如具备安装在搅拌轴的延伸方向上的不同位置的多个搅拌叶片
。
在所述反应装置中，多个搅拌叶片各自安装在搅拌轴的延伸方向上的不同位置
。
[0004]在所述任一反应装置中，直体部的尺寸
、
多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及搅拌轴的旋转数的设定值，例如满足下述的数式1所示的关系
。(
数式
1)N(b/d)(L/D)/n≦6.0
[0005]数式1中，
N
表示多个搅拌叶片的个数
。b
表示多个搅拌叶片的叶片宽度的最大值
[m]。d
表示多个搅拌叶片的叶片直径的最大值
[m]。L
表示直体部的延伸方向的长度
[m]。D
表示利用与直体部的延伸方向大致垂直的平面
、
且通过多个搅拌叶片各自的安装位置的多个平面切断直体部的情况下
、
在利用多个平面形成的各截面中与直体部大致内切的多个内切圆的直径的最大值
[m]。n
表示搅拌轴的旋转数
[rps]的设定值
。
[0006]在所述任一反应装置中，直体部的尺寸
、
多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式2所示的关系
。
另外，在数式2中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1中的定义相同
。(
数式
2)0.05≦N(b/d)(L/D)/n≦6.0
[0007]所述任一反应装置可具备配置在直体部的内部且用来流通冷媒的多个冷却配管
。
所述多个冷却配管中的至少2个距直体部的内壁面的距离可不同
。
在所述任一反应装置中，
直体部的尺寸
、
多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及搅拌轴的旋转数的设定值可满足下述的数式3所示的关系
。
另外，在数式3中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1中的定义相同
。(
数式
3)0.15≦N(b/d)(L/D)/n≦5.5
[0008]在所述任一反应装置中，直体部的尺寸
、
多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式4所示的关系
。
另外，在数式4中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1中的定义相同
。(
数式
4)0.3≦N(b/d)(L/D)/n≦3.0
[0009]在所述任一反应装置中，多个冷却配管各自可具有反复弯曲并延伸的蜿蜒部
。
在所述任一反应装置中，蜿蜒部可包含直线状延伸或弯曲延伸的多个延伸部
。
蜿蜒部可包含连结多个延伸部中邻接的2个延伸部的端部的多个弯曲部
。
在所述任一反应装置中，邻接的2个延伸部之间的距离的最大值相对于直体部的延伸方向的长度的比率可为
0.5
～
15
％
。
[0010]在所述任一反应装置中，多个冷却配管与直体部的内壁面的距离的最小值相对于直体部的内径的比率可为
0.5
～
10
％
。
在所述任一反应装置中，多个冷却配管与直体部的内壁面的距离的最大值相对于直体部的内径的比率可为1～
30
％
。
[0011]在所述任一反应装置中，搅拌轴可以以搅拌轴的延伸方向与直体部的延伸方向大致一致的方式安装在反应器
。
在所述任一反应装置中，搅拌轴中的多个搅拌叶片的安装位置
、
与搅拌轴中的和直体部的一端对应的位置的距离的最小值，可为直体部的延伸方向的长度
L
的
0.1
～
0.45
倍
。
[0012]在所述任一反应装置中，直体部的一端可为直体部的上端
。
在所述反应装置中，搅拌轴上的多个搅拌叶片中安装在最下方的搅拌叶片的安装位置，配置在搅拌轴的第1位置与第2位置之间
。
在所述任一反应装置中，第1位置在搅拌轴安装在直体部的情况下，可位于第2位置的上方
。
在所述任一反应装置中，第1位置与搅拌轴中的和直体部的下端对应的位置的距离，可为内切圆的直径
D
的
0.25
倍以下
。
在所述任一反应装置中，第2位置与搅拌轴中的和直体部的下端对应的位置的距离，可为内切圆的直径
D
的
0.1
倍以下
。
在所述任一反应装置中，多个搅拌叶片中除安装在最上方的第1搅拌叶片及安装在最下方的第2搅拌叶片以外的
(N
‑
2)
个第3搅拌叶片的安装位置
、
与将第1搅拌叶片的安装位置即第1安装位置及第2搅拌叶片的安装位置即第2安装位置之间等分为
(N
‑
1)
个而得的
(N
‑
1)
个第3位置之间的距离的最大值，可为内切圆的直径
D
相对于多个搅拌叶片的个数
N
的比
(D/N)
的
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种反应装置，具备：反应器，具有筒状的直体部；搅拌轴，一部分配置在所述直体部的内部，可旋转地构成；及多个搅拌叶片，安装在所述搅拌轴的延伸方向上的不同位置；且所述多个搅拌叶片各自安装在所述搅拌轴的延伸方向上的不同位置，所述直体部的尺寸
、
所述多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及所述搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式1所示的关系：
(
数式
1)N(b/d)(L/D)/n≦6.0(
数式1中，
N
表示所述多个搅拌叶片的个数，
b
表示所述多个搅拌叶片的叶片宽度的最大值
[m]
，
d
表示所述多个搅拌叶片的叶片直径的最大值
[m]
，
L
表示所述直体部的延伸方向的长度
[m]
，
D
表示利用与所述直体部的所述延伸方向大致垂直的平面
、
且通过所述多个搅拌叶片各自的安装位置的多个平面切断所述直体部的情况下
、
在利用所述多个平面形成的各截面中与所述直体部大致内切的多个内切圆的直径的最大值
[m]
，
n
表示所述搅拌轴的旋转数
[rps]
的所述设定值
)。2.
根据权利要求1所述的反应装置，其中所述直体部的尺寸
、
所述多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及所述搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式2所示的关系：
(
数式
2)0.05≦N(b/d)(L/D)/n≦6.0(
数式2中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1中的定义相同
)。3.
根据权利要求1所述的反应装置，其中还具备配置在所述直体部的内部
、
且用来流通冷媒的多个冷却配管；所述多个冷却配管中的至少2个距所述直体部的内壁面的距离不同，所述直体部的尺寸
、
所述多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及所述搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式3所示的关系：
(
数式
3)0.15≦N(b/d)(L/D)/n≦5.5(
数式3中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1相同
)。4.
根据权利要求3所述的反应装置，其中所述直体部的尺寸
、
所述多个搅拌叶片中的至少一者的尺寸
、
及所述搅拌轴的旋转数的设定值满足下述的数式4所示的关系：
(
数式
4)0.3≦N(b/d)(L/D)/n≦3.0(
数式4中，
N、b、d、L、D
及
n
的定义与数式1相同
)。5.
根据权利要求3所述的反应装置，其中所述多个冷却配管各自具有反复弯曲并延伸的蜿蜒部；所述蜿蜒部包含：
多个延伸部，直线状延伸或弯曲延伸；及多个弯曲部，连结所述多个延伸部中邻接的2个延伸部的端部
。6.
根据权利要求5所述的反应装置，其中所述邻接的2个延伸部之间的距离的最大值相对于所述直体部的延伸方向的长度的比率为
0.5
～
15
％
。7.
根据权利要求3所述的反应装置，其中所述多个冷却配管与所述直体部的内壁面的距离的最小值相对于所述直体部的内径的比率为
0.5
～
10
％，所述多个冷却配管与所述直体部的内壁面的距离的最大值相对于所述直体部的内径的比率为1～
30
％
。8.
根据权利要求1所述的反应装置，其中所述搅拌轴以所述搅拌轴的延伸方向与所述直体部的延伸方向大致一致的方式安装在所述反应器；所述搅拌轴上的所述多个搅拌叶片的安装位置
、
与所述搅...

【专利技术属性】
技术研发人员：井田徹，滨口保典，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：