离型膜及其制造方法技术

公开一种离型膜及其制造方法。离型膜包括离型层，所述离型层对丙烯酸类粘合剂和硅类粘合剂均具有低剥离力的超轻剥离性和优异的附着力，并且磨损前后的雾度变化小。离型膜包括基材以及离型层，其位于所述基材的至少一面，其中所述离型层为组合物的固化层，所述组合物包括第一含氟有机聚硅氧烷、第二含氟有机聚硅氧烷以及非含氟有机聚硅氧烷的共混物。离型膜用于显示器、胶带以及标签等行业。胶带以及标签等行业。胶带以及标签等行业。

【技术实现步骤摘要】
离型膜及其制造方法


[0001]涉及一种离型膜及其制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，为了改进工序并提高生产效率，显示器、胶带以及标签等行业针对剥离力较低的超轻剥离离型膜的使用量正在增加。制造这种超轻剥离离型膜需要加厚离型层厚度或降低表面能。
[0003]由于离型层中包含氟类树脂的离型剂的表面能低，难以和普通有机溶剂混合并且有可能引起涂布缺陷，因此需要使用氟类溶剂。包括所述氟类树脂的离型剂氟链越长其溶解度就会因表面张力而变低，进而难以涂布且抑制硬化，不仅附着力降低而且难以合成，因而价格比普通硅类离型剂高出数十倍以上。与此相反，氟链越短，包括所述氟类树脂的离型剂的溶解度或附着力越优异，但其表面能或剥离力与硅离型剂相比无太大差异。
[0004]因此，仍需要一种包括离型层的离型膜，所述离型层能够均使用丙烯酸类粘合剂和硅类粘合剂，并对这些粘合剂(在下文中,这是指包括压敏粘合剂)都具有剥离力低的超轻剥离性和优异的附着力，且磨损前后的雾度变化小。

技术实现思路

[0005]技术问题
[0006]一方面提供一种离型膜，其包括离型层，所述离型层对丙烯酸类粘合剂和硅类粘合剂均具有低剥离力的超轻剥离性和优异的附着力，并且磨损前后的雾度变化小。
[0007]另一方面提供一种所述离型膜的制造方法。
[0008]技术方案
[0009]根据一方面提供一种离型膜，其包括：
[0010]基材；以及离型层，其位于所述基材的至少一面，
[0011]其中，所述离型层为组合物的固化层，所述组合物包括第一含氟有机聚硅氧烷、第二含氟有机聚硅氧烷以及非含氟有机聚硅氧烷的共混物，
[0012]所述离型层分为第一区域和第二区域，
[0013]所述第一区域为离型层表面和邻近所述表面的区域，并且是在从所述表面沿厚度方向进行等离子体蚀刻的同时进行XPS分析时，F原子的含量减少且Si原子的含量增加的区域，
[0014]所述第二区域是与所述基材接触的离型层的一面和邻近所述一面的区域，并且是在进行所述XPS分析时，F原子和Si原子的含量恒定保持的区域，
[0015]所述第一区域满足下式1和式2，
[0016]所述第二区域满足下式3：
[0017][式1][0018][0019]其中，
[0020]F可以表示存在于所述第一区域表面的由XPS分析得到的氟的含量(at％)，
[0021]Si+O+C可以表示存在于所述第一区域表面的由XPS分析得到的硅、氧以及碳的总含量(at％)。
[0022][式2][0023]B
‑
A<10
[0024]其中，
[0025]A可以是在利用具有300g重物的摩擦测试仪(rubbing tester)对所述第一区域的表面进行5次摩擦之前其表面的雾度(％)，
[0026]B可以是在利用具有300g重物的摩擦测试仪(rubbing tester)对所述第一区域的表面进行5次摩擦之后其表面的雾度(％)。
[0027][式3][0028]F1
‑
F2＝
△
F≤5at％
[0029]其中，
[0030]F1可以是在对所述第二区域进行XPS分析时，C原子含量达到50at％的时间点(T1)上的F原子的含量(at％)，
[0031]F2可以是在对所述第二区域进行XPS分析时，C原子含量达到50at％的时间点(T1)的2倍时间点(2
×
T1)上的F原子含量(at％)。
[0032]所述第一区域包括第一含氟有机聚硅氧烷和第二含氟有机聚硅氧烷，
[0033]所述第一含氟有机聚硅氧烷和所述第二含氟有机聚硅氧烷可以包括含含氟烷基的取代基，
[0034]所述第二含氟有机聚硅氧烷可以具有比第一含氟有机聚硅氧烷长度更长的含氟烷基。
[0035]所述第一含氟有机聚硅氧烷可以包括由以下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
[0036][化学式1][0037][0038][化学式2][0039][0040]其中，
[0041]R1可以是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基；
[0042]R2可以是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基或氢；
[0043]R3和R4可以彼此独立地是由所述化学式2表示的含氟烷基、取代或未取代的C1至C10一价烃基、取代或未取代的C2至C10的烯基或氢，
[0044]并且R3和R4中的至少一个可以是由所述化学式2表示的含氟烷基；
[0045]n可以是1至3的整数，m可以是1至5的整数；
[0046]x、y、z可以分别是大于或等于1的整数；
[0047]*可以是与相邻原子的结合位点；
[0048]但是，R1、R2中的至少一个可以是取代或未取代的C2至C10的烯基。
[0049]所述第二含氟有机聚硅氧烷可以包括由以下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
[0050][化学式1][0051][0052][化学式2][0053][0054]其中，
[0055]R1可以是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基；
[0056]R2可以是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基或氢；
[0057]R3和R4可以彼此独立地是由所述化学式2表示的含氟烷基、取代或未取代的C1至C10一价烃基、取代或未取代的C2至C10的烯基或氢，
[0058]并且R3和R4中的至少一个可以是由所述化学式2表示的含氟烷基；
[0059]n可以是4至9的整数，m可以是1至5的整数；
[0060]x、y、z可以分别是大于或等于1的整数；
[0061]*可以是与相邻原子的结合位点；
[0062]但是，R1、R2中的至少一个可以是取代或未取代的C2至C10的烯基。
[0063]以100重量份的所述非含氟有机聚硅氧烷为基准，所述第一含氟有机聚硅氧烷和所述第二含氟有机聚硅氧烷的含量可以分别是5重量份至100重量份。
[0064]所述非含氟有机聚硅氧烷可以包括含乙烯基和甲基的有机聚硅氧烷。
[0065]所述离型层可以进一步包括含氢聚硅氧烷(hydrogen polysiloxane)和催化剂中的至少一种。
[0066]所述离型层可以进一步包括平均粒径(D50)为1μm至5μm的有机或无机颗粒。
[0067]所述离型层的厚度可以是0.03μm至2.0μm。
[0068]所述离型层的表面能可为14dyne/cm至17dyne/cm。
[0069]通过纳米压痕技术测量的所述离型层的折合模量(reduced modulus)可以是3.5GPa至小于4.2GPa。
[0070]通过纳米压痕技术测量的所述离型本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离型膜，其包括：基材；以及离型层，其位于所述基材的至少一面，其中，所述离型层为组合物的固化层，所述组合物包括第一含氟有机聚硅氧烷、第二含氟有机聚硅氧烷以及非含氟有机聚硅氧烷的共混物，所述离型层分为第一区域和第二区域，所述第一区域为所述离型层表面和邻近所述表面的区域，并且是在从所述表面沿厚度方向进行等离子体蚀刻的同时进行X射线光电子能谱(XPS)分析时，F原子的含量减少且Si原子的含量增加的区域，所述第二区域是与所述基材接触的所述离型层的一面和邻近所述一面的区域，并且是在进行所述X射线光电子能谱(XPS)分析时，F原子和Si原子的含量恒定保持的区域，所述第一区域满足下式1和式2，所述第二区域满足下式3：[式1]其中，F表示存在于所述第一区域表面的由X射线光电子能谱(XPS)分析得到的氟的含量(at％)，Si+O+C表示存在于所述第一区域表面的由X射线光电子能谱(XPS)分析得到的硅、氧以及碳的总含量(at％)。[式2]B
‑
A<10其中，A是在利用具有300g重物的摩擦测试仪对所述第一区域的表面进行5次摩擦之前其表面的雾度(％)，B是在利用具有300g重物的摩擦测试仪对所述第一区域的表面进行5次摩擦之后其表面的雾度(％)。[式3]F1
‑
F2＝
△
F≤5at％其中，F1是在对所述第二区域进行X射线光电子能谱分析时，C原子含量达到50at％的时间点(T1)上的F原子的含量(at％)，F2是在对所述第二区域进行X射线光电子能谱分析时，C原子含量达到50at％的时间点(T1)的2倍时间点(2
×
T1)上的F原子含量(at％)。2.根据权利要求1所述的离型膜，其中，所述第一区域包括所述第一含氟有机聚硅氧烷和所述第二含氟有机聚硅氧烷，所述第一含氟有机聚硅氧烷和所述第二含氟有机聚硅氧烷包括含含氟烷基的取代基，所述第二含氟有机聚硅氧烷具有比所述第一含氟有机聚硅氧烷长度更长的含氟烷基。3.根据权利要求1所述的离型膜，其中，所述第一含氟有机聚硅氧烷包括由以下化学式1表示的有机聚硅氧烷：
[化学式1][化学式2]其中，R1是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基；R2是取代或未取代的C1至C10的一价烃基或取代或未取代的C2至C10的烯基或氢；R3和R4彼此独立地是由所述化学式2表示的含氟烷基、取代或未取代的C1至C10一价烃基、取代或未取代的C2至C10的烯基或氢，并且R3和R4中的至少一个是由所述化学式2表示的含氟烷基；n是1至3的整数，m是1至5的整数；x、y、z分别是大于或等于1的整数；*是与相邻原子的结合位点；但是，R1、R2中的至少一个是取代或未取代的C2至C10的烯基。4.根据权利要求1所述的离型膜，其中，所述第二含氟有机聚硅氧烷包括由以下化学式1表示的有机聚硅氧烷：[化学式1][化学式2]其中，R1是取代或未取代的C1至C10的一价烃...

【专利技术属性】
技术研发人员：禹惠美，申俊镐，
申请(专利权)人：东丽尖端素材株式会社，
类型：发明
国别省市：