一种树脂及含其的制造技术

本发明专利技术公开了一种树脂及含其的

【技术实现步骤摘要】
一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶


[0001]本专利技术涉及一种树脂及含其的
193nm
浸没式光刻胶
。

技术介绍

[0002]光刻技术是指利用光刻材料
(
特指光刻胶
)
在可见光
、
紫外线
、
电子束等作用下的化学敏感性，通过曝光
、
显影
、
刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术
。
光刻材料
(
特指光刻胶
)
，又称光致抗蚀剂，是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料，其主要成分是树脂
、
光酸产生剂
(Photo Acid Generator
，
PAG)、
以及相应的添加剂和溶剂
。
光酸产生剂是一种光敏感的化合物，在光照下分解产生酸，所产生的酸可使酸敏树脂发生分解或者交联反应，从而使光照部分与非光照部分在显影液中溶解反差增大，可以用于图形微细加工

。
[0003]光刻胶的三个重要参数包括分辨率
、
灵敏度
、
线宽粗糙度，它们决定了光刻胶在芯片制造时的工艺窗口
。
随着半导体芯片性能不断提升，集成电路的集成度呈指数型增加，集成电路中的图形不断缩小
。
为了制作更小尺寸的图形，必须提高上述三个光刻胶的性能指标
。
根据瑞利方程式，在光刻工艺中使用短波长的光源可以提高光刻胶的分辨率
。
光刻工艺的光源波长从
365nm(I
‑
线
)
发展到
248nm(KrF)、193nm(ArF)、13nm(EUV)。
为提高光刻胶的灵敏度，目前主流的
KrF、ArF、EUV
光刻胶采用了化学放大型光敏树脂
。
由此，与化学放大型光明树脂相配套的光敏剂
(
光致产酸剂
)
被广泛应用在高端光刻胶中
。
[0004]随着光刻工艺逐渐发展，至
193nm
浸没式曝光工艺，工艺复杂程度加大，对抗蚀剂
(
即光刻胶
)
提出越来越高的要求
。
开发能提升分辨率
、
灵敏度
、
线宽粗糙度的抗蚀剂，成为行业亟待解决的问题
。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中存在的上述问题，本专利技术旨在提供一种树脂及含其的
193nm
浸没式光刻胶，包含本专利技术树脂的光刻胶至少具有以下优势：感光性优异，聚焦深度
(DOF)
好以及线宽均匀性
(CDU)
好
。
[0006]本专利技术提供了一种树脂，其为由式
(A)
所示的单体
、
式
(B)
所示的单体
、
式
(C)
所示的单体和式
(D)
所示的单体聚合得到的共聚物；
[0007]其中，以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
‑
47.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为1‑
7.5
份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.25
‑
2.5
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.25
‑
2.5
份；
[0008][0009]其中，
R1为
C1‑
C
10
烷基，
R2为
H
或甲基
。
[0010]在本专利技术的某一方案中，
R1可以为
C1‑
C4烷基，例如甲基
。
[0011]在本专利技术的某一方案中，
R2可以为甲基
。
[0012]在本专利技术的某一方案中，所述式
(A)
所示的单体可以为
[0013]在本专利技术的某一方案中，以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数可以为
42.5
‑
45。
[0014]在本专利技术的某一方案中，以重量份数计，所述式
(B)
所示的单体的重量份数可以为
2.5
‑
4。
[0015]在本专利技术的某一方案中，以重量份数计，所述式
(C)
所示的单体的重量份数可以为
0.5
‑
1.25。
[0016]在本专利技术的某一方案中，以重量份数计，所述式
(D)
所示的单体的重量份数可以为
0.5
‑
1.25。
[0017]在本专利技术的某一方案中，所述树脂的重均分子量
(Mw)
可以为
1000
‑
500000
，优选
3000
‑
100000
，例如
5000
‑
10000。
[0018]在本专利技术的某一方案中，所述树脂的分子量分布系数可以为
1.0
‑
2.0
，例如
1.5
‑
2.0。
所述分子量分布系数是指所述树脂的重均分子量和数均分子量的比值
(Mw/Mn)。
[0019]在本专利技术的某一方案中，所述树脂可以选自以下树脂1‑8中的任一种：
[0020]树脂1：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为5份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
1.25
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
1.25
份；
[0021]树脂2：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
45
份，所述式
(B)
所示
的单体的重量份数为4份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.5
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.5
份；
[0022]树脂3：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
45
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为4份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.25
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种树脂，其特征在于，所述树脂为由式
(A)
所示的单体
、
式
(B)
所示的单体
、
式
(C)
所示的单体和式
(D)
所示的单体聚合得到的共聚物；其中，以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
‑
47.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为1‑
7.5
份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.25
‑
2.5
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.25
‑
2.5
份；其中，
R1为
C1‑
C
10
烷基，
R2为
H
或甲基
。2.
如权利要求1所述的树脂，其特征在于，
R1为
C1‑
C4烷基，例如甲基；和
/
或，
R2为甲基
。3.
如权利要求1所述的树脂，其特征在于，所述式
(A)
所示的单体为和
/
或，以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
‑
45
；和
/
或，以重量份数计，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为
2.5
‑4；和
/
或，以重量份数计，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.5
‑
1.25
；和
/
或，以重量份数计，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.5
‑
1.25
；和
/
或，所述树脂的重均分子量为
5000
‑
10000
；和
/
或，所述树脂的分子量分布系数为
1.0
‑
2.0
，例如
1.5
‑
2.0。4.
如权利要求1所述的树脂，其特征在于，所述树脂选自以下树脂1‑8中的任一种：树脂1：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为5份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
1.25
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
1.25
份；树脂2：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
45
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为4份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.5
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.5
份；
树脂3：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
45
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为4份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.25
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.75
份；树脂4：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
45
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为
2.5
份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
1.25
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
1.25
份；树脂5：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为4份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
1.75
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
1.75
份；树脂6：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
47.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为1份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
0.75
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为
0.75
份；树脂7：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
42.5
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为
7.5
份，所述式
(C)
所示的单体的重量份数为
1.5
份，所述式
(D)
所示的单体的重量份数为1份；树脂8：以重量份数计，所述式
(A)
所示的单体的重量份数为
46
份，所述式
(B)
所示的单体的重量份数为
2.5
份，所述式
(C)

【专利技术属性】
技术研发人员：王溯，方书农，徐森，林逸鸣，
申请(专利权)人：上海芯刻微材料技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：