一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，包括箱体，所述固定架下端设置有离心机，所述箱体内侧固定连接有过滤网，所述过滤网上端设置有刮板，所述过滤网下侧设置有重复处理箱，所述重复处理箱内侧转动连接有第二转轴

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置


[0001]本技术涉及半导体清洗剂生产过程中使用的循环
，特别涉及一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置
。

技术介绍

[0002]半导体清洗剂在生产的时候，会产生很多废液，在生产的时候，会产生很多光刻胶剥离液废液，直接将其排除使得其比较浪费，可以对其进行处理之后进行循环使用，所以需要设置一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置
。
[0003]对于半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置使用的时候，其废液内侧含有很多杂质，其在过滤的时候，一般过滤出来的杂质都一直存在过滤网结构上端，使得其影响过滤效果，现有技术中一般都是一种过滤结构对其进行过滤，这样的过滤结构在过滤之后，其内侧还是还有一些杂质，只有部分废液能够再次进行使用
。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于，提供一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，便于收集部分杂质，能够再次进行转动混合过滤，使得其过滤得更加彻底，便于循环使用
。
[0005]为了实现上述目的，提供一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，包括箱体，所述箱体上端固定连接有固定架，所述固定架下端设置有离心机，所述离心机上设置有安装板，所述箱体底部固定连接有底座，所述离心机的输出端和箱体内侧相通，所述箱体内侧固定连接有过滤网，所述过滤网上端设置有刮板，所述过滤网一侧设置有收集槽，所述底座下侧设置有水泵，所述过滤网下侧设置有重复处理箱，所述重复处理箱外侧固定连接于箱体内壁，所述重复处理箱内侧转动连接有第二转轴
。
[0006]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述底座下端均匀固定连接有四个支撑柱
。
[0007]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述固定架下端固定连接有第一电机，所述第一电机下端设置有第一转轴，所述第一转轴上端和第一电机的输出端固定连接
。
[0008]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述安装板一侧固定连接有安装件，所述安装件上对称螺纹连接有两个锁紧螺栓
。
[0009]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述刮板一侧对称固定连接有两个电动推杆，所述电动推杆一端固定连接有安装架，所述安装架一侧固定连接于箱体外壁
。
[0010]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述收集槽一侧设置有收集箱，所述收集箱一侧固定连接于箱体外壁，所述收集箱和收集槽一侧相通
。
[0011]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述水泵的输入端和箱体内侧相通，所述水泵的输出端固定连接有出液管
。
[0012]根据所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，所述第二转轴外侧均匀固定连接有四个转动混合斜板件，所述重复处理箱内侧底部固定连接有过滤锥体网圈，所述过滤锥体网圈和转动混合斜板件相互贴合，所述第二转轴下端设置有第二电机，所述第二电机的输出端和第二转轴固定连接，所述第二电机上端固定连接于重复处理箱底部
。
[0013]有益效果：
[0014]1、
箱体内侧设置有过滤网，过滤网一侧设置有收集槽，收集槽一侧设置有收集箱，收集箱固定连接于箱体外侧，过滤网上端设置有刮板，刮板一侧对称固定连接有两个电动推杆，电动推杆一侧固定连接有安装架，安装架一侧固定连接于箱体外壁，使得其能够带动刮板在过滤网上端进行左右移动，使得其能够对过滤残留在过滤网上的杂质刮除出来进入收集箱内部进行收集
。
[0015]2、
过滤网下侧设置有重复处理箱，重复处理箱下端固定连接有第二电机，第二电机上端设置有第二转轴，第二转轴外侧均匀固定连接有四个转动混合斜板件，重复处理箱内侧底部固定连接有过滤锥体网圈，使得其便于转动混合对上端过滤之后的废液进行再次过滤，使得其过滤效果极佳，便于循环使用
。
[0016]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到
。
附图说明
[0017]下面结合附图和实施例对本技术进一步地说明；
[0018]图1为本技术提出的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置的立体图；
[0019]图2为本技术提出的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置的箱体内侧的重复处理箱内部的结构示意图；
[0020]图3为本技术提出的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置的箱体内侧的过滤网的结构示意图；
[0021]图4为本技术提出的图1中
A
处的结构示意图
。
[0022]图例说明：
[0023]1、
箱体；
2、
底座；
3、
支撑柱；
4、
水泵；
5、
出液管；
6、
固定架；
7、
锁紧螺栓；
8、
第一电机；
9、
第一转轴；
10、
离心机；
11、
安装板；
12、
安装件；
13、
过滤网；
14、
收集槽；
15、
电动推杆；
16、
刮板；
17、
安装架；
18、
收集箱；
19、
第二电机；
20、
第二转轴；
21、
过滤锥体网圈；
22、
转动混合斜板件；
23、
重复处理箱
。
具体实施方式
[0024]本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地
、
形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制
。
[0025]参照图1‑4，本技术实施例一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，其包括箱体1，箱体1上端固定连接有固定架6，固定架6下端设置有离心机
10
，离心机
10
其能够
分离部分液体和杂质，其杂质从装置另一侧喷出，离心机
10
上设置有安装板
11
，箱体1底部固定连接有底座2，离心机
10
的输出端和箱体1内侧相通，箱体1内侧固定连接有过滤网
13
，过滤网
13
上端设置有刮板
16
，过滤网
13
一侧设置有收集槽
14
，底座2下侧设置有水泵4，过滤网
13
下侧设置有重复处理箱
23
，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，包括箱体
(1)
，其特征在于：所述箱体
(1)
上端固定连接有固定架
(6)
，所述固定架
(6)
下端设置有离心机
(10)
，所述离心机
(10)
上设置有安装板
(11)
，所述箱体
(1)
底部固定连接有底座
(2)
，所述离心机
(10)
的输出端和箱体
(1)
内侧相通，所述箱体
(1)
内侧固定连接有过滤网
(13)
，所述过滤网
(13)
上端设置有刮板
(16)
，所述过滤网
(13)
一侧设置有收集槽
(14)
，所述底座
(2)
下侧设置有水泵
(4)
，所述过滤网
(13)
下侧设置有重复处理箱
(23)
，所述重复处理箱
(23)
外侧固定连接于箱体
(1)
内壁，所述重复处理箱
(23)
内侧转动连接有第二转轴
(20)。2.
根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，其特征在于，所述底座
(2)
下端均匀固定连接有四个支撑柱
(3)。3.
根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，其特征在于，所述固定架
(6)
下端固定连接有第一电机
(8)
，所述第一电机
(8)
下端设置有第一转轴
(9)
，所述第一转轴
(9)
上端和第一电机
(8)
的输出端固定连接
。4.
根据权利要求1所述的一种半导体清洗剂生产过程中使用的循环装置，其特征在于，所述安装板
(11)
一侧固定连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：封晓猛，
申请(专利权)人：江苏科沃泰材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：