一种水循环的半导体电锅炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种水循环的半导体电锅炉，包括电锅炉本体

【技术实现步骤摘要】
一种水循环的半导体电锅炉


[0001]本技术属于电锅炉
，具体是指一种水循环的半导体电锅炉
。

技术介绍

[0002]电锅炉的加热方式有电磁感应加热方式和电阻
PTC
陶瓷半导体加热方式三种种，电阻加热方式又分为不锈钢加热管电锅炉和陶瓷加热管电锅炉，电阻加热方式即采用电阻式管状电热元件加热，半导体式才用氧化物半导体陶瓷片，水电完全分离
。
[0003]在实现本技术过程中，专利技术人发现该技术中至少存在如下问题：水循环的使用过程中，半导体电锅炉对水加热后，需要对水进行存储后进行加热，容易造成水垢的形成，不方便清理容易导致堆积，影响水循环的使用
。
所以需要针对上述问题进行改进，来满足市场需求
。

技术实现思路

[0004]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提出了一种水循环的半导体电锅炉，有效的解决了目前市场上半导体电锅炉结构较为简单，水循环的加热使用后容易产生水垢，不易进行清理，导致水质下降的问题，实现了对锅炉内部进行高效刮除的作用，提高水循环的纯净度，方便对水垢残渣进行及时清理
。
[0005]本技术采取的技术方案如下：本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉，包括电锅炉本体
、
加热底座
、
半导体加热构件
、
出水阀门
、
除垢装置
、
外置清洁盒
、
滑轨和滑动盖板，所述加热底座设于电锅炉本体上，所述半导体加热构件设于加热底座上，所述出水阀门设于电锅炉本体上，所述除垢装置设于电锅炉本体上方，所述除垢装置包括顶盖
、
滑槽
、
滑动杆和水垢刮板，所述顶盖设于电锅炉本体上方，所述滑槽设于顶盖上，所述滑动杆滑动设于滑槽上，所述水垢刮板设于滑动杆上，所述外置清洁盒设于电锅炉本体上，所述滑轨设于外置清洁盒上，所述滑动盖板滑动设于滑轨上
。
[0006]进一步地，所述外置清洁盒上面连接设有调节式清理装置
。
[0007]进一步地，所述调节式清理装置包括气缸
、
转动构件
、
连接构件
、
拆卸式连接架和水垢槽，所述气缸设于外置清洁盒上，所述转动构件转动设于气缸上，所述连接构件设于转动构件上，所述拆卸式连接架设于连接构件上，所述水垢槽设于拆卸式连接架上
。
[0008]进一步地，所述水垢刮板的截面呈直角梯形设置，所述连接构件呈
L
型杆状设置，所述滑动盖板呈长方体板状设置
。
[0009]进一步地，所述滑轨设有两组
。
[0010]采用上述结构本技术取得的有益效果如下：本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉，有效的解决了目前市场上半导体电锅炉结构较为简单，水循环的加热使用后容易产生水垢，不易进行清理，导致水质下降的问题，实现了对锅炉内部进行高效刮除的作用，提高水循环的纯净度，方便对水垢残渣进行及时清理
。
附图说明
[0011]图1为本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉的内部结构示意图；
[0012]图2为本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉的另一视角的内部结构示意图；
[0013]图3为本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉的整体结构示意图；
[0014]图4为本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉的主视图
。
[0015]其中，
1、
电锅炉本体，
2、
加热底座，
3、
半导体加热构件，
4、
出水阀门，
5、
除垢装置，
6、
顶盖，
7、
滑槽，
8、
滑动杆，
9、
水垢刮板，
10、
外置清洁盒，
11、
滑轨，
12、
滑动盖板，
13、
调节式清理装置，
14、
气缸，
15、
转动构件，
16、
连接构件，
17、
拆卸式连接架，
18、
水垢槽
。
[0016]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制
。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围
。
[0018]如图
1、
图
2、
图3和图4所示，本技术提出的一种水循环的半导体电锅炉，包括电锅炉本体
1、
加热底座
2、
半导体加热构件
3、
出水阀门
4、
除垢装置
5、
外置清洁盒
10、
滑轨
11
和滑动盖板
12
，所述加热底座2设于电锅炉本体1上，所述半导体加热构件3设于加热底座2上，所述出水阀门4设于电锅炉本体1上，所述除垢装置5设于电锅炉本体1上方，所述除垢装置5包括顶盖
6、
滑槽
7、
滑动杆8和水垢刮板9，所述顶盖6设于电锅炉本体1上方，所述滑槽7设于顶盖6上，所述滑动杆8滑动设于滑槽7上，所述水垢刮板9设于滑动杆8上，所述外置清洁盒
10
设于电锅炉本体1上，所述滑轨
11
设于外置清洁盒
10
上，所述滑动盖板
12
滑动设于滑轨
11
上
。
[0019]所述外置清洁盒
10
上面连接设有调节式清理装置
13。
[0020]所述调节式清理装置
13
包括气缸
14、
转动构件
15、
连接构件
16、
拆卸式连接架
17
和水垢槽
18
，所述气缸
14
设于外置清洁盒
10
上，所述转动构件
15
转动设于气缸
14
上，所述连接构件
16
设于转动构件
15
上，所述拆卸式连接架
17
设于连接构件
16
上，所述水垢槽
18
设于拆卸式连接架
17
上
。
[0021]所述水垢刮板9的截本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种水循环的半导体电锅炉，其特征在于：包括电锅炉本体
、
加热底座
、
半导体加热构件
、
出水阀门
、
除垢装置
、
外置清洁盒
、
滑轨和滑动盖板，所述加热底座设于电锅炉本体上，所述半导体加热构件设于加热底座上，所述出水阀门设于电锅炉本体上，所述除垢装置设于电锅炉本体上方，所述除垢装置包括顶盖
、
滑槽
、
滑动杆和水垢刮板，所述顶盖设于电锅炉本体上方，所述滑槽设于顶盖上，所述滑动杆滑动设于滑槽上，所述水垢刮板设于滑动杆上，所述外置清洁盒设于电锅炉本体上，所述滑轨设于外置清洁盒上，所述滑动盖板滑动设于滑轨上
。2.
根据权利要求1所述的一种水循环的半导...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军，谷敬梅，于凯，吴志伟，
申请(专利权)人：辽宁稀结新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：