本申请公开了一种电极箔冲洗装置,包括:清洗箱;输送装置,输送装置设置于清洗箱内,输送装置包括第一输送机构和第二输送机构,第二输送机构位于第一输送机构的下方,且第一输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于第二输送机构的投影的两端之间,第一输送机构和第二输送机构的输送方向相反;清洗装置,清洗装置包括第一清洗部和第二清洗部,第一清洗部位于第一输送机构的上方,第二清洗部位于第一输送机构和第二输送结构之间,第二清洗部靠近第一输送机构的输出端的一端不伸出第一输送机构的输出端。本申请提供的电极箔冲洗装置,能够对电极箔进行自动翻面,对电极箔的两表面的清洗同时进行,提高了电极箔的清洗效率。提高了电极箔的清洗效率。提高了电极箔的清洗效率。
【技术实现步骤摘要】
电极箔冲洗装置
[0001]本技术一般涉及电极箔加工设备
,具体涉及电极箔冲洗装置。
技术介绍
[0002]电极箔是铝电解电容器制造的关键原材料。由于电子产业的迅速发展,尤其是通信产品、计算机、家电等整机产品市场的急剧扩大,对铝电极箔产业的发展起了推波助澜的作用。同时由于铝电解电容器的小型化、高性能化、片式化的要求越来越迫切,对电极箔的制造业也提出了更高的技术和质量要求。
[0003]电极箔生产过程中腐蚀、需要大量的水来冲洗,现有电极箔冲洗装置通常是对电极箔进行单面清洗,也即先对电极箔的第一表面进行清洗完成后再对电极箔的第二表面进行清洗,导致电极箔的冲洗效率低下。
技术实现思路
[0004]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种电极箔冲洗装置。
[0005]本申请提供一种电极箔冲洗装置,包括:
[0006]清洗箱;
[0007]输送装置,输送装置设置于清洗箱内,输送装置包括第一输送机构和第二输送机构,第二输送机构位于第一输送机构的下方,且第一输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于第二输送机构的投影的两端之间,第一输送机构和第二输送机构的输送方向相反;
[0008]清洗装置,清洗装置包括第一清洗部和第二清洗部,第一清洗部位于第一输送机构的上方,第二清洗部位于第一输送机构和第二输送结构之间,第二清洗部靠近第一输送机构的输出端的一端不伸出第一输送机构的输出端,第一清洗部和第二清洗部均包括喷嘴且通过喷嘴喷洒清洗液。
[0009]进一步地,输送装置还包括第三输送机构,第三输送机构位于第二输送机构的下方,第二输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于第三输送机构的投影的两端之间,第三输送机构的输出端伸出清洗箱设置。
[0010]进一步地,还包括导向结构,导向结构设置于清洗箱内且位于第二输送机构的输出端远离第二输送机构的输入端的一侧,导向结构包括导向面,导向面与第二输送机构的输出端之间形成有导向间隙,导向面呈圆弧状且沿远离第二输送机构的方向凹陷,导向面的顶部高于第二输送机构的输出面设置。
[0011]进一步地,导向间隙的大小可调节地设置。
[0012]进一步地,导向结构还包括导向块、连接杆、挡板、弹性件和安装筒,安装筒固定设置于清洗箱的内侧壁,安装筒靠近第二输送机构的一端设于导向通孔,挡板设置于安装筒内,弹性件位于挡板远离第二输送机构的一侧,且弹性件的两端分别与挡板和清洗箱的内侧壁接触,连接杆位于挡板远离弹性件的一侧,连接杆的一端与挡板固定连接且另一端通过导向通孔伸出安装筒,导向块与连接杆的伸出端固定连接,连接杆与导向通孔滑动配合,
导向面位于导向块远离连接杆的一侧。
[0013]进一步地,还包括水箱和水泵,水泵的进液口与水箱相连,水泵的出液口通过水管与第一清洗部和第二清洗部的喷嘴均相连。
[0014]进一步地,第一输送机构的输入端伸出清洗箱设置。
[0015]本申请提供的电极箔冲洗装置,通过在清洗箱内设置有输送装置和清洗装置,输送装置具有第一输送机构和第二输送机构,第二输送机构位于第一输送机构的下方,且第一输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于第二输送机构的投影的两端之间,第一输送机构和第二输送机构的输送方向相反,清洗装置具有第一清洗部和第二清洗部,第一清洗部位于第一输送机构的上方,第二清洗部位于第一输送机构和第二输送结构之间,第二清洗部靠近第一输送机构的输出端的一端不伸出第一输送机构的输出端,第一清洗部和第二清洗部均包括喷嘴且通过喷嘴喷洒清洗液,使得输送装置能够对电极箔进行自动翻面,且电极箔在第一输送机构上进行一表面的清洗以及在第二输送机构上进行另一表面的清洗,并且电极箔的两表面的清洗能够同时进行,提高了电极箔的清洗效率。
附图说明
[0016]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
[0017]图1为本申请实施例提供的电极箔冲洗装置的立体结构示意图;
[0018]图2为本申请实施例提供的电极箔冲洗装置的剖视图;
[0019]图3为图2中的A部放大图。
具体实施方式
[0020]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关技术,而非对该技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与技术相关的部分。
[0021]请参考附图1
‑
2,本申请实施例提供一种电极箔冲洗装置,包括清洗箱100、输送装置和清洗装置,输送装置用于输送电极箔,清洗装置用对电极箔进行清洗。输送装置设置于清洗箱100内,输送装置包括第一输送机构210和第二输送机构220,第二输送机构220位于第一输送机构210的下方,且第一输送机构210的输出端在沿竖直方向的投影位于第二输送机构220的投影的两端之间,使得第一输送机构210输送出的电极箔会自然掉落至第二输送机构220的输送面,进而使得第二输送机构220对第一输送机构210输出的电极箔进行输送。清洗装置包括第一清洗部310和第二清洗部320,第一清洗部310位于第一输送机构210的上方,第一清洗部310具有第一喷嘴311且通过第一喷嘴311向第一输送机构210的输送面喷洒清洗液,以对位于第一输送结构上的电极箔远离第一输送机构210的表面进行清洗,第二清洗部320位于第一输送机构210和第二输送结构之间,第二清洗部320靠近第一输送机构210的输出端的一端不伸出第一输送机构210的输出端,以避免对第一输送机构210输出的电极箔进行位置干涉,第二清洗部320具有第二喷嘴321且通过第二喷嘴321向第二输送机构220的输送面喷洒清洗液,以对位于第二输送结构上的电极箔远离第二输送机构220的表面进行清洗。
[0022]在本实施例中,能够使得输送装置能够对电极箔进行自动翻面,且电极箔在第一输送机构210上进行一表面的清洗以及在第二输送机构220上进行另一表面的清洗,并且电极箔的两表面的清洗能够同时进行,提高了电极箔的清洗效率。
[0023]其中,清洗箱100的底部设置有多个支脚110以支撑清洗箱100。
[0024]在本申请的一些实施例中,输送装置还包括第三输送机构230,第三输送机构230位于第二输送机构220的下方。第二输送机构220的输出端在沿竖直方向的投影位于第三输送机构230的投影的两端之间,使得第二输送机构220输送出的电极箔会自然掉落至第三输送机构230的输送面,进而使得第三输送机构230对第二输送机构220输出的电极箔进行输送。第三输送机构230的输出端伸出清洗箱100设置,使得第三输送机构230能够将清洗后的电极箔输出清洗箱100,以有助于电极箔的后续处理。
[0025]其中,第一输送机构210、第二输送机构220和第三输送机构230均可以为皮带式输送机构。皮带式输送机构包括驱动电机、机架以及输送皮带,机架固定设置于清洗箱100,机架设有至少两个输本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电极箔冲洗装置,其特征在于,包括:清洗箱;输送装置,所述输送装置设置于所述清洗箱内,所述输送装置包括第一输送机构和第二输送机构,所述第二输送机构位于所述第一输送机构的下方,且所述第一输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于所述第二输送机构的投影的两端之间,所述第一输送机构和所述第二输送机构的输送方向相反;清洗装置,所述清洗装置包括第一清洗部和第二清洗部,所述第一清洗部位于所述第一输送机构的上方,所述第二清洗部位于所述第一输送机构和所述第二输送机构之间,所述第二清洗部靠近所述第一输送机构的输出端的一端不伸出所述第一输送机构的输出端,所述第一清洗部和所述第二清洗部均包括喷嘴且通过喷嘴喷洒清洗液。2.根据权利要求1所述的电极箔冲洗装置,其特征在于,所述输送装置还包括第三输送机构,所述第三输送机构位于所述第二输送机构的下方,所述第二输送机构的输出端在沿竖直方向的投影位于所述第三输送机构的投影的两端之间,所述第三输送机构的输出端伸出所述清洗箱设置。3.根据权利要求1所述的电极箔冲洗装置,其特征在于,还包括导向结构,所述导向结构设置于所述清洗箱内且位于所述第二输送机构的输出端远离所述第二输送机构的输入端的一侧,所述导向结构包括导向面,所述导向面与所述第二输送机构...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹威,
申请(专利权)人:南通锦弘昌电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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