一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的内部表面均开设有孔槽，所述清洗箱的内部设置有第一驱动电机；该一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，通过清洗箱、电动滑轨、电动滑块、第二驱动电机和旋转刷的设置，当对碳化硅衬底片清洗时，直接用水清洗的话，表面清洗的并不干净，还会残留污渍，通过第二驱动电机与旋转刷的设置，带动旋转刷在碳化硅衬底片表面进行旋转清刷，这样的方式使碳化硅衬底片表面的污渍彻底清洗掉，从而提高了该装置的使用效率，而电动滑轨与电动滑块的设置，能够在清洗箱内进行滑动，使多个碳化硅衬底片都可以清刷到，这样的设置提高了实用性，提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。提高了清洗的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置


[0001]本技术涉及碳化硅相关
，具体为一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置。

技术介绍

[0002]碳化硅是一种无机物，是用石英砂、石油焦、木屑等原料通过电阻炉高温冶炼而成，碳化硅是现今最受关注的第三代半导体材料之一，其在高温、高压、高频等条件下性能优异，在半导体照明光电器件、电力电子、射频微波器件、激光器和探测器件、太阳能电池和生物传感器等其他器件等方面展现出了巨大的潜力，碳化硅衬底片生产过程中需要进行清洗，而清洗一般都直接用水冲洗，但冲洗效果并不佳。
[0003]现有的碳化硅衬底片自动清洗装置，清洗的过程中都是直接用水对碳化硅衬底片表面进行冲洗，但这样冲洗的效果并不佳，表面的污渍无法彻底的清洗掉，从而降低了清洗装置的使用效率，因此需要提出一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的内部表面均开设有孔槽，所述清洗箱的内部设置有第一驱动电机，所述第一驱动电机的上方固定安装有传动杆，所述传动杆的上端设置有转盘，所述转盘的上方表面均开设有放置槽，所述转盘的上方均设置有限位板，所述限位板的上方表面开设有限位槽，所述限位槽的内部活动连接有螺栓，所述清洗箱的内部一侧设置有电动滑轨，所述电动滑轨的外部活动连接有电动滑块，所述电动滑块的一侧设置有第二驱动电机，所述第二驱动电机的一侧设置有旋转刷。
[0006]优选的，所述清洗箱的一侧活动连接有合页，所述合页的另一侧活动连接有透明门。
[0007]优选的，所述转盘通过传动杆与第一驱动电机构成旋转结构，所述转盘的中心线与传动杆中心线相重合。
[0008]优选的，所述限位板通过螺栓与转盘构成限位结构，所述限位板在转盘上呈等间距设置。
[0009]优选的，所述旋转刷通过电动滑块与清洗箱构成滑动结构，所述电动滑轨与电动滑块配合使用。
[0010]优选的，所述清洗箱的一侧设置有水箱，所述水箱的上方设置有水泵，所述水泵的一侧设置有输送管，所述输送管的外部设置有喷淋头。
[0011]优选的，所述清洗箱的上方设置有吹风机，所述吹风机的一侧设置有风罩。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1.该一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，通过清洗箱、电动滑轨、电动滑块、第二驱动电机和旋转刷的设置，当对碳化硅衬底片清洗时，直接用水清洗的话，表面清洗的并不干净，还会残留污渍，通过第二驱动电机与旋转刷的设置，带动旋转刷在碳化硅衬底片表面进行旋转清刷，这样的方式使碳化硅衬底片表面的污渍彻底清洗掉，从而提高了该装置的使用效率，而电动滑轨与电动滑块的设置，能够在清洗箱内进行滑动，使多个碳化硅衬底片都可以清刷到，这样的设置提高了实用性，提高了清洗的效率；
[0014]2.该一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，通过第一驱动电机、传动杆、转盘、放置槽、水箱、水泵、输送管和喷淋头的设置，利用水箱的设置，通过水泵将水箱内的水抽出，输送到输送管与喷淋头内，对转盘上多组碳化硅衬底片进行清洗，同时转盘通过传动杆与第一驱动电机进行旋转，带动多组碳化硅衬底片旋转全面的进行清洗，这样的设置提高了清洗的效率；
[0015]3.该一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，通过转盘、放置槽、限位板、限位槽、螺栓、吹风机和风罩的设置，当清洗的过程中，避免化硅衬底片在转盘上晃动，通过限位板的设置，利用限位槽与螺栓之间配合，调节限位板的位置对碳化硅衬底片进行限位固定，而吹风机与风罩的设置，能够在清洗完，对清洗箱内进行吹风，使碳化硅衬底片快速吹干，这样的设置加快了清洗的效率。
附图说明
[0016]图1为本技术整体结构示意图；
[0017]图2为本技术转盘的结构示意图；
[0018]图3为本技术限位板的结构示意图；
[0019]图4为本技术旋转刷的结构示意图；
[0020]图5为本技术喷淋头的结构示意图。
[0021]图中：1、清洗箱；2、合页；3、透明门；4、孔槽；5、第一驱动电机；6、传动杆；7、转盘；8、放置槽；9、限位板；10、限位槽；11、螺栓；12、电动滑轨；13、电动滑块；14、第二驱动电机；15、旋转刷；16、水箱；17、水泵；18、输送管；19、喷淋头；20、吹风机；21、风罩。
实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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5，本技术提供技术方案：一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，包括清洗箱1，清洗箱1的内部表面均开设有孔槽4，清洗箱1的内部设置有第一驱动电机5，第一驱动电机5的上方固定安装有传动杆6，传动杆6的上端设置有转盘7，转盘7的上方表面均开设有放置槽8，转盘7的上方均设置有限位板9，限位板9的上方表面开设有限位槽10，限位槽10的内部活动连接有螺栓11，清洗箱1的内部一侧设置有电动滑轨12，电动滑轨12的外部活动连接有电动滑块13，电动滑块13的一侧设置有第二驱动电机14，第二驱动电机14的一侧设置有旋转刷15。
[0024]本实施例，清洗箱1的一侧活动连接有合页2，合页2的另一侧活动连接有透明门3，通过透明门3的设置，可以观察清洗的状况，同时也避免在清洗的过程中水散出来。
[0025]本实施例，转盘7通过传动杆6与第一驱动电机5构成旋转结构，转盘7的中心线与传动杆6中心线相重合，通过传动杆6与第一驱动电机5的设置，带动多组碳化硅衬底片进行旋转清洗，使碳化硅衬底片全面的进行清洗。
[0026]本实施例，限位板9通过螺栓11与转盘7构成限位结构，限位板9在转盘7上呈等间距设置，通过限位板9的设置，利用限位槽10与螺栓11之间配合，调节限位板9的位置对碳化硅衬底片进行限位固定。
[0027]本实施例，旋转刷15通过电动滑块13与清洗箱1构成滑动结构，电动滑轨12与电动滑块13配合使用，通过第二驱动电机14与旋转刷15的设置，带动旋转刷15在碳化硅衬底片表面进行旋转清刷，这样的方式使碳化硅衬底片表面的污渍彻底清洗掉。
[0028]本实施例，清洗箱1的一侧设置有水箱16，水箱16的上方设置有水泵17，水泵17的一侧设置有输送管18，输送管18的外部设置有喷淋头19，利用水箱16的设置，通过水泵17将水箱16内的水抽出，输送到输送管18与喷淋头19内，对转盘7上多组碳化硅衬底片进行清洗。
[0029]本实施例，清洗箱1的上方设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，包括清洗箱（1），其特征在于：所述清洗箱（1）的内部表面均开设有孔槽（4），所述清洗箱（1）的内部设置有第一驱动电机（5），所述第一驱动电机（5）的上方固定安装有传动杆（6），所述传动杆（6）的上端设置有转盘（7），所述转盘（7）的上方表面均开设有放置槽（8），所述转盘（7）的上方均设置有限位板（9），所述限位板（9）的上方表面开设有限位槽（10），所述限位槽（10）的内部活动连接有螺栓（11），所述清洗箱（1）的内部一侧设置有电动滑轨（12），所述电动滑轨（12）的外部活动连接有电动滑块（13），所述电动滑块（13）的一侧设置有第二驱动电机（14），所述第二驱动电机（14）的一侧设置有旋转刷（15）。2.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，其特征在于，所述清洗箱（1）的一侧活动连接有合页（2），所述合页（2）的另一侧活动连接有透明门（3）。3.根据权利要求1所述的一种用于碳化硅衬底片自动清洗装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄朝辉，郑圣君，林岳明，
申请(专利权)人：扬帆半导体江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：